中微经过14年的征战之后走上了IPO之路

2004年成立的中微终于迎来了高光时刻，在经过十几年的征战之后走上了IPO之路，但在这一聚焦时刻是否也要轻声问一句为何要等这么久？

集微网报道，一直让业界寄予厚望的中微半导体终于迎来了高光时刻。日前，中国证监会上海监管局发布中微辅导备案基本情况表，显示中微已于2019年1月8日与海通证券、长江证券签署辅导协议并进行辅导备案。从2004年成立的中微，一直致力于半导体设备研发，经过十几年的征战，终于迎来了IPO之路，但在这一聚焦时刻是否也要轻声问一句为何要等这么久？

从所周知，半导体产业链中从设计、制造、封测再到设备和材料，设备与材料亦非常重要，可谓上游中的上游。从价值来看，这两项加起来约占全产业链价值四分之一，而两者占比约六四开。

而且，设备与半导体景气周期步调一致。国际半导体产业协会（SEMI）近日指出，2018年全球半导体设备销售金额将达621亿美元，年增长率为9.2%，超越去年的566亿美元，再创历史新高。虽然预计今年将有所下滑，但2020年仍将强劲增长至719亿美元，可说大有可为。

而集中度高是半导体设备业的“宣言”，且大都为美欧日等厂商天下，被应用材料、Lam Research、东京电子、ASML等占据领先地位。2017年排名第一的是应用材料，营收为107亿美元。从细分设备来看，荷兰ASML几乎垄断了高端领域的光刻机，市场份额高达80%。Lam Research则是刻蚀机设备领域龙头。

在强敌环伺之下，国内半导体设备尚在艰难跋涉中。

所谓时也势也。随着我国IC业的风起云涌，国内半导体设备业竞相“中流击水”，展开“桥头堡”之战。中国大陆少有的几家半导体设备厂商，无论是盛美、中微、Mattson（亦庄国投收购）和北方华创等，这些年在大力“突围”，有的设备从无到有，有的进入高端先进行列，完成“全垒打”，如中微的5nm等离子体刻蚀机、晶盛在8英寸单晶炉领域已成功实现进口替代等等。

虽然国内设备业在拼杀之后，奠定了一定的产业基础，但与国外巨头相比仍存在较大差距。有业内人士分析，或是有一定竞争力的设备在领先制程上的差距；或是稳定性不足难以大批量进入量产线；或是部分设备尚未布局或完全没有竞争能力，如光刻机、探针台等，尤其是单晶炉、氧化炉、CVD设备等基本“无语”。

“主要是做半导体设备太难，因客户都是先入为主，不会轻易改设备的选型，以避免风险。中微仅表明国内厂商能开发设备，但让客户接受并进入市场太难。因而中微要替代对手，尚差距甚远，导致销售额也难以上去。”业界专家莫大康感慨表示。

而数字确实说明了问题，中微2016年净利虽已超过1亿元，但经过14年的冲杀，以PE为10倍计算，估值仅为10亿元，这并不是个让人鼓舞的数字。

在半导体主要设备中，莫大康指出，最贵是光刻机，每台需要几千万美元，测试设备在千万美元以上，接下来刻蚀机、淀积等都差不多，约500-600万美元。

莫大康在分析市场态势时说，目前国内12英寸成主流，主流设备厂商多将资源放在12英寸设备上，造成8英寸设备供给短缺。12英寸设备相比8英寸设备不是简单地尺寸放大，而是需要重新设计，也更为先进，均匀性等高，但耗电高、占地大。而且12英寸的二手设备由于操作软件原因，必须向原厂购买，否则没有授权无法运行。国内设备厂商能在这一走向中灵活应对吗？

作为国内寄予厚望的中微，成立之后也是不断深耕，从点到面，目前其介质刻蚀设备、硅通孔刻蚀设备、MOCVD设备等均已成功进入海内外重要客户供应体系，如介质刻蚀设备已打入台积电的7nm、10nm量产线，成功打破了国际巨头的垄断。

值得一提的是，去年12月台积电宣布2019年将进行5nm试产，2020年量产，而中微自主研制、性能优良的5 nm等离子体刻蚀机将用于其全球首条5nm制程。在刻蚀机方面，中微已走在世界前列，成为全球刻蚀设备厂商五雄之一。刻蚀机曾是西方发达国家的出口管制产品，但近年来，由于中微的出色表现，这种高端装备在出口管制名单上“消失”了，这也表明唯有自己下大力气突破技术壁垒，才能不受制于人。

但饶是如此，这一条路却注定崎岖。不仅要投入巨资研发，着力发挥后发优势，而且国外巨头会采用专利或诉讼等手段围堵，或与客户签订排它协议等排挤国内设备厂商，中微的十多年征程可谓从“枪林弹雨”中走过。“国内设备厂要总结中微的经验：一是加强研发，二是注重IP保护，未来的路还很长。”莫大康认为。

中微的IPO之路不易，折射的是产业链的环环相扣和沿袭。设备业往往需要花费巨额的研发费用，平均高达15%，中微虽已进行了数期融资，亦获得国家大基金的投资，但若要保持长久发展以及保障后续设备开发及规模扩张，上市无疑是其必然选择。其他先行的国内半导体设备企业如长川科技、北方华创等已上市，中微的IPO征程也将预示着更大的投入、更多的机会。

要注意到设备业从来不是单兵作战，设备国产化也能带动上游的国产化水平，可谓一荣俱荣。据悉，目前中微刻蚀设备零部件国产化率已超过35%，已有20多个国内反应器和系统主机加工等供应厂商。同时，在高端芯片不断寻求国产化与进口替代的大势之下，设备国产化成为实现国产化芯片最关键一役，设备与材料的采购与国产替代也必定先行，国内设备业注定仍将前行于布满鲜花的荆棘之路。