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如何在空间受限型设计中实现有效的功率控制

海阔天空的专栏 来源:Art Pini 作者:Art Pini 2024-02-13 15:44 次阅读

作者:Art Pini

投稿人:DigiKey 北美编辑

诸如耳塞、智能手表、增强现实 (AR)/虚拟现实 (VR) 眼镜和助听器之类可穿戴设备正变得越来越小,越来越独立。与此同时,这些应用需要的功能也越来越多,包括人工智能 (AI)。这些趋势给设计者带来了热管理问题。此外,为了获得良好的用户体验,需要更长的电池续航时间,因此高能效设计是必不可少的。平衡这种经常相互冲突的混合设计要求,对设计者来说是一种挑战,他们必须重新思考元器件的选择,以便在最大限度地减少电路板空间的同时,最大限度地延长充电时间间隔。

为了帮助设计者克服挑战,市场上出现了具有“导通”电阻非常低的的小型 MOSFET。这些器件还具有出色的导热率,以帮助控制散热。有些器件甚至嵌入了静电放电 (ESD) 保护。

本文简要讨论了小型、智能、电池供电型设备设计者所面临的挑战。然后说明如何使用 [Nexperia] 的小型封装 MOSFET 来解决这些挑战,重点展示这些器件的特性及其在微型可穿戴设计中的适用性。

微型可穿戴设备设计的挑战

数字手表、耳塞和智能珠宝以及其他微型可穿戴设备给设计者带来了一些挑战,特别是在尺寸、功耗和热管理方面。为了吸引最终用户,随着像人工智能这样的更高水平功能的提供,挑战只会越来越大。除了为微控制器、电池、蓝牙收发器、扬声器和显示电子装置寻找空间外,设计师现在必须增加神经处理能力。

随着功能的增加,需要先进的功耗最小化方法来延长电池续航。对电力消耗的控制包括关闭不使用的电路元件,但这些电路必须准备好能在需要时迅速打开。虽然打开和关闭电源是有效的,但它要求开关设备低导通电阻,以减少功率损失和产生的热量。有效管理任何产生的热量会因为这些设备的紧凑外形而变得复杂,因此使用高效率、低损耗元件就显得更为重要。

凭借数十年在分立半导体元件生产方面的经验,Nexperia 已经能够缩小其 MOSFET 的尺寸,以满足其 DFN(扁平无引线分立封装)系列中这些经常发生冲突的要求(图 1)。

Nexperia 系列采用 DFN 封装的 MOSFET 器件图片图 1:图示为 Nexperia 系列采用 DFN 封装的 MOSFET 器件,尺寸和封装明显减少,低至 DFN0603。(图片来源:Nexperia)

DFN0603 的封装尺寸为0.63 × 0.33 × 0.25 毫米(mm)。与以前展示的型号相比,最显着的变化是将高度降至0.25 mm——功能没有任何减少。此外,该器件的漏源导通电阻(R DS(开) ) 比早期封装低了 74%。

这一新型超扁平封装系列包括五个 MOSFET 器件,包括 N 沟道和 P 沟道,额定漏源电压 ( 虚拟数字系统 ) 为 20 至 60 伏。

除了因其较低的导通电阻而实现了较低的功率耗散外,DFN0603 产品系列还表现出良好的热传导性,使得安装后器件能够保持较低的温度。

沟槽式 MOSFET

这种尺寸缩小以及 R DS(开) 的降低是通过该器件的沟槽式 MOSFET 设计来实现的(图 2)。

沟槽式 MOSFET 结构图片图 2:剖面图显示了沟槽式 MOSFET 的结构,当器件处于开启状态时,电流在源极和漏极之间垂直流动。虚线表示通道区域。(图片来源:Art Pini)

与其他 MOSFET 一样,沟槽式 MOSFET 单元也有漏极、栅极和源极,但沟槽是垂直形成的,与栅槽平行,通过场效应来实现。因此,电流的流动方向是垂直的,从源极到漏极。与水平分布并占用大量表面积的平面装置相比,这种结构非常紧凑,允许在硅片上有非常多的相邻单元。所有的电池并联工作,以减少 R DS(开) 的值,并增加漏极电流。

Nexperia DFN0603 MOSFET 系列

Nexperia DFN0603 系列包括五个器件——四个 N 沟道 MOSFET 和一个 P 沟道 MOSFET(图 3),VDS限制为 20 至 60 伏。所有这些都使用相同的物理封装,其总功率耗散限制为 300 毫瓦 (mW)。

| | 封装 | DFN0603-3 |

直到 (兆瓦)300
配置波尔
10V4.5V
单极
121.3
30
6020
20

图 3:显示的是用于移动和便携式应用的五个 DFN0603 超低功耗 MOSFETS规格。(图片来源:Nexperia)

其中:

V DS = 最大漏源电压,单位为伏特。

V GS = 最大栅源电压,单位为伏特。

D = 最大漏极电流,单位为安培。

V GSth = 最小和最大的栅源阈值电压。这是在施加到栅极和源极两端所需的电压,以开始打开 MOSFET。最小值和最大值说明了工艺差异。

ESD = 千伏 (kV) 计的 ESD 保护等级,如果包括 ESD。

DS(开) = 所列门栅源电压下的漏源电阻,单位为毫欧 (mΩ)。

[PMX100UNEZ]和 [PMX100UNZ]是类似的 20 伏 N 沟道 MOSFET。主要区别在于,PMX100UNEZ 的 ESD 保护高达 2kV,而 PMX100UNZ 则没有。后者具有更高的最大栅源电压。它们在 4.5 伏的栅源电压下实现了 130 mΩ 和 122 mΩ 的漏源电阻,最大漏极电流分别为 1.4 安培 (A) 和 1.3A。

[PMX400UPZ]是 P 沟道器件,最大漏源电压为 20 伏。与 N 沟道器件相比,其最大漏极电流规格略低,为 0.9A,在栅源电压为 4.5 伏时,漏源电阻为 334 mΩ。

N 沟道 [PMX300UNEZ]的额定最大漏源电压为 30 伏。由于所有 DFN0603 MOSFET 的最大额定功率为 300 mW,增加漏源电压意味着最大漏极电流降低,在这种情况下为 0.82 安培。在栅源电压为 4.5 伏时,漏源电阻为 190 mΩ。

N 沟道 [PMX700ENZ] 的漏源电压最高,达 60 伏。最大漏极电流为 0.3A,其漏源电阻为 760 mΩ,栅源驱动电压为 4.5 伏。

除了最大额定功率耗散为 300 mW 之外,所有 DFN0603 器件的工作温度范围为 -55˚C 至 +150˚C。

MOSFET 电源和负载开关

微型可穿戴设备是最常见的电池供电型设备。需要减少电力使用以确保实现长充电间隔,因此需要在不使用时打开和关闭电路元件。这些开关在开启状态下需要低损耗,以确保低功率耗散,并在关闭状态下低漏电。负载开关可以用 MOSFET 作为开关器件来实现。通过向栅极驱动电路施加适当的电压,它们很容易被控制。负载开关可以使用 P 沟道或 N 沟道 MOSFET 进行配置(图 4)。

位于电源和负载之间的高压侧负载开关示意图图 4:位于电源和负载之间的高压侧负载开关,可以用 P 沟道或 N 沟道 MOSFET 实现,使用适当的栅极驱动信号。(图片来源:Nexperia)

如果使用 P 沟道 MOSFET,拉低栅极将打开开关并使电流流入负载。如果使用 N 沟道,电路则需要施加一个高于输入电压的电压,以使 MOSFET 完全导通。如果没有高压信号,可以采用充电泵来驱动 N 沟道栅极。这增加了电路的复杂性,但由于在一定的尺寸下,N 沟道 MOSFET 的 R DS(开) 比 P 沟道器件更低,因此可能值得作出这样的折衷。另一个选择是,使用 N 沟道 MOSFET 作为负载和地之间的低压侧开关,减少所需的栅极电压。

无论如何实现负载开关,MOSFET 上的压降都等于漏极电流与 R DS(开) 的乘积。功率损耗是漏极电流的平方与 R DS(开) 的乘积。因此,工作在 0.7 A 最大漏极电流时,PMX100UNE 由于其 120 mΩ 的通道电阻,其功率损失仅为 58 mW。这就是为什么在便携式和可穿戴设备的设计中,实现尽可能低的 R DS(开) 值如此重要的原因。更低的功率损耗意味着更低的温升和更长的电池续航。

MOSFET 负载开关也可用于阻断在故障情况下可能出现的反向电流,如充电输入端短路。这是通过将两个 MOSFET 以极性相反方式串联在一起来实现的(图 5)。

反向电流保护负载开关示意图图 5:图示是一个使用共漏极电路配置和 P 沟道 MOSFET 实现的反向电流保护负载开关。(图片来源:Nexperia)

负载开关中的反向电流保护也可以使用共源布局来实现。这种布局需要接入共源点,以便在开启后实现栅极放电。

产品内应用

新兴可穿戴设备绝佳样板就是 AR 和 VR 眼镜。这些设备需要高效的组件,功率耗散要低和物理尺寸要小。它们使用很多 MOSFET 器件作为开关,并用于功率转换(图 6)。

MOSFET 在 AR/VR 眼镜设计中发挥着关键作用示意图(点击放大)图 6:MOSFET 在 AR/VR 眼镜设计中作为负载开关、升压转换器和电池开关发挥着关键作用(以橙色方块标记)。(图片来源:Nexperia)

此类可穿戴设备必须在极长的充电间隔和用户所期望的“永远在线”功能之间取得平衡。MOSFET 开关用于在不使用时关闭设备的部分电源。注意这些开关:这些形状是用 MOSFET 实现的,用于连接和断开射频前端和扬声器。在电源控制方面,MOSFET 则用作电池开关并连接到外部电源进行有线充电。它们还用于显示器的开关模式升压电源转换器。

结语

对于微型可穿戴设备和其他空间和功率受限型设备的设计者来说,Nexperia DFN0603 封装 MOSFET 提供了实现下一代设计所需的微型封装尺寸和最佳 R DS(开) 。它们是用作负载开关、电池开关和开关模式电源转换器的理想元件。

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