摘要 在印刷和蚀刻生产厚金属膜中的精密图案时，需要对化学蚀刻剂有基本的了解，以实现工艺优化和工艺控制。 为了蚀刻纯铝电路，研究了正磷酸、多磷酸和氯化铁的配方。 研究的目的是确定蚀刻速率和图案定义对正
2022-01-07 15:07:48
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摘要 我们华林科纳研究了正磷酸、聚磷酸、和铁(III)氯化物蚀刻剂对工艺条件变化的敏感性，以确定该蚀刻剂系统在纯铝电路光刻制造中的潜在生产应用。温度变化、正磷酸浓度、多磷酸浓度的影响。检测了酸浓度
2022-01-07 15:40:121194 
引言 正在开发化学下游蚀刻(CDE)工具，作为用于半导体晶片处理的含水酸浴蚀刻的替代物。对CDE的要求包括在接近电中性的环境中获得高蚀刻速率的能力。高蚀刻率是由含NF”和0的混合物的等离子体放电分解
2022-06-29 17:21:423345 
开关电源是很多电子硬件产品中都有的电路模块，并且这个模块也是非常重要的，常常对于电路设计的要求也蛮高，并且开关电源包含的相关知识内容也是相比于其他模块有着自己的一套专业术语。 这些专业术语包含了像是
2023-11-06 10:11:34560 
PCB，电路板，基板上面如何出现电路呢？这就要蚀刻来实现。所谓蚀刻，先在板子外层需保留的铜箔部分，也就是电路的图形部分，在上面预镀一层铅锡抗蚀层，然后用化学方式将其余的铜箔腐蚀掉。铜有两层，一层
2017-02-21 17:44:26
为了在基板上形成功能性的MEMS结构，必须蚀刻先前沉积的薄膜和/或基板本身。通常，蚀刻过程分为两类：浸入化学溶液后材料溶解的湿法蚀刻干蚀刻，其中使用反应性离子或气相蚀刻剂溅射或溶解材料在下文中，我们将简要讨论最流行的湿法和干法蚀刻技术。
2021-01-09 10:17:20
本帖最后由 eehome 于 2013-1-5 09:58 编辑
各位大侠：有谁知道哪家有供应蚀刻钛的药水，请告知或提供联系方法。谢谢！！！本人的QQ号码是：414615292
2012-08-08 14:51:57
OpenGL常用术语解析
2021-03-18 06:57:35
`请问PCB蚀刻工艺质量要求有哪些？`
2020-03-03 15:31:05
，通过光化学法，网印图形转移或电镀图形抗蚀层，然后蚀刻掉非图形部分的铜箔或采用机械方式去除不需要部分而制成印制电路板PCB。而减成法中主要有雕刻法和蚀刻法两种。雕刻法是用机械加工方法除去不需要的铜箔，在单
2018-09-21 16:45:08
一、蚀刻液的选择 蚀刻液的选择是非常重要的，它所以重要是因为它在印制电路板制造工艺中直接影响高密度细导线图像的精度和质量。当然蚀刻液的蚀刻特性要受到诸多因素的影响，有物理、化学及机械方面的。现
2018-09-11 15:19:38
PCB印制电路中影响蚀刻液特性的因素一、蚀刻液的选择 蚀刻液的选择是非常重要的，它所以重要是因为它在印制电路板制造工艺中直接影响高密度细导线图像的精度和质量。当然蚀刻液的蚀刻特性要受到诸多因素
2013-10-31 10:52:34
PCB印制电路中影响蚀刻液特性的因素有哪些
2021-04-25 06:45:00
给定值时，溶液便会自动进行添加。 在与此相关的化学蚀刻（亦称之为光化学蚀刻或PCH）领域中,研究工作已经开始，并达到了蚀刻机结构设计的阶段。在这种方法中,所使用的溶液为二价铜，不是氨-铜蚀刻。它将
2018-11-26 16:58:50
1.问题：印制电路中蚀刻速率降低 原因： 由于工艺参数控制不当引起的 解决方法： 按工艺要求进行检查及调整温度、喷淋压力、溶液比重、PH值和氯化铵的含量等工艺参数到工艺规定值。 2.
2018-09-19 16:00:15
计控制系统。当自动测得的PH结果低于给定值时，溶液便会自动进行添加。 在与此相关的化学蚀刻（亦称之为光化学蚀刻或PCH）领域中，研究工作已经开始，并达到了蚀刻机结构设计的阶段。在这种方法中，所
2018-09-13 15:46:18
`书籍：《炬丰科技-半导体工艺》文章：GaN的晶体湿化学蚀刻[/td][td]编号：JFSJ-21-0作者：炬丰科技网址：http://www.wetsemi.com/index.html 目前
2021-07-07 10:24:07
测得的PH结果低于给定值时，溶液便会自动进行添加。在与此相关的化学蚀刻(亦称之为光化学蚀刻或PCH)领域中,研究工作已经开始，并达到了蚀刻机结构设计的阶段。在这种方法中,所使用的溶液为二价铜，不是氨-铜
2018-04-05 19:27:39
你都了解哪些Zigbee术语？
2021-05-20 07:12:05
过程中的一些参数，改变喷淋的一些操作方式等进行相关研究工作。本文将从流体力学的角度，建立模型来分析流体在铜导线之间凹槽底部各个位置的相对蚀刻速度，从本质上研究蚀刻液流体的蚀刻过程的机理。 1. 模型建立
2018-09-10 15:56:56
首家P|CB样板打板通常用于表示侧蚀的术语是蚀刻系数，定义为蚀刻深度(铜箔的厚度)与侧蚀凹度的比率，即蚀刻系数=α/b式中,a为铜锚的厚度; b为侧蚀凹度。要使细纹蚀刻的侧蚀达到最小，最好采用1
2013-09-11 10:58:51
印制电路板的蚀刻可采用以下方法: 1 )浸入蚀刻; 2) 滋泡蚀刻; 3) 泼溅蚀刻; 4) 喷洒蚀刻。 由于喷洒蚀刻的产量和细纹分辨率高，因此它是应用最为广泛的一项技术。 1 浸入
2018-09-11 15:27:47
储液槽的做法,但这样做必须加一套PH计控制系统,当自动监测的PH结果低于默认值时﹐便会自动进行溶液添加。 在相关的化学蚀刻(亦称之为光化学蚀刻或PCH)领域中﹐研究工作已经开始﹐并达至蚀刻机结构设计
2017-06-23 16:01:38
低压差稳压器(LDO)看似简单，但可提供重要功能，例如将负载与不干净的电源隔离开来或者构建低噪声电源来为敏感电路供电。本简短教程介绍了一些常用的LDO 相关术语，以及一些基本概念，如压差、裕量电压
2021-11-15 07:38:55
概述一下无线电的一些相关术语
2014-03-27 10:06:14
晶片边缘的蚀刻机台，特别是能有效地蚀刻去除晶片边缘剑山的一种蚀刻机，在动态随机存取存储单元(dynamic random access memory，DRAM)的制造过程中，为了提高产率，便采用
2018-03-16 11:53:10
求推荐 led芯片通过光蚀刻形成通孔和采用剥离工艺形成具有布线图案的电极的相关书籍
2019-04-15 23:38:47
有些欧洲的汽车公司，喜欢用的汽车电力系统术语KLR汽车电源的ACC模式KL50 汽车在Crank模式KL15 汽车在Run模式KL30 接常电（蓄电池的正）KL31 接常负（蓄电池的负）...
2021-12-31 06:45:13
湿蚀刻是光刻之后的微细加工过程，该过程中使用化学物质去除晶圆层。晶圆，也称为基板，通常是平面表面，其中添加了薄薄的材料层，以用作电子和微流体设备的基础；最常见的晶圆是由硅或玻璃制成的。湿法刻蚀
2021-01-08 10:15:01
我司是做湿法蚀刻药水的，所以在湿法这块有很多年的研究。所以有遇到湿法蚀刻问题欢迎提问，很愿意为大家解答。谢谢！QQ：278116740
2017-05-08 09:58:09
电子工程术语与定义列表
2021-02-26 07:12:58
写在开头学习一样新事物总会带来很多新的专业名词。在学习新事物之前先大致了解一下相关的专业术语，可以帮助我们在学习的过程中事半功倍，不至于在游览一些相关文章的时候看地一头雾水。学习示波器也一样。下面
2019-12-27 14:19:41
示波器性能相关术语接下去要讲的一些术语，可能会当你和朋友们讨论示波器性能的时候用到，理解这些术语可以帮助你评估和比较不同型号示波器的性能。带宽：带宽是示波器的首要指标，这个指标可以告诉我们示波器能
2019-12-30 13:49:35
大量涉及蚀刻面的质量问题都集中在上板面被蚀刻的部分,而这些问题来自于蚀刻剂所产生的胶状板结物的影响。对这一点的了解是十分重要的, 因胶状板结物堆积在铜表面上。一方面会影响喷射力，另一方面会阻档了
2017-06-24 11:56:41
的PH结果低于给定值时，溶液便会自动进行添加。 在与此相关的化学蚀刻(亦称之为光化学蚀刻或PCH)领域中,研究工作已经开始，并达到了蚀刻机结构设计的阶段。在这种方法中,所使用的溶液为二价铜，不是氨-铜
2018-09-19 15:39:21
可见光的相关光学知识和术语¤. 光与电磁波：光是一种电磁波，速度为：30×10000 km/s 波长为780～380nm（纳米），1纳米=10-9米¤. 光谱与颜色：光谱：红、橙、黄、绿、蓝、
2009-09-13 14:33:23
10 与电感器, 线圈相关的名词术语■ 电感器 Inductor凡能产生电感作用的元件统称电感器，一般的电感器由线圈构成，所以又称电感线圈，为了增加电感量和Q 值并
2009-11-14 14:14:0721
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1、Apertures 开口，钢版开口指下游SMD焊垫印刷锡膏所用钢版之开口。通常此种不锈钢版之厚度多在8mil 左右，现行主机板某些多
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光端机的典型物理接口如下：
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2010-01-11 23:51:53780 线路板PCB相关其他术语大全
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2010-01-11 23:53:206218 照明相关术语的定义
光 通 量：光源每秒种发出的可见光量之和，简单说就是发光量。单位：流明（lm）
照
2010-01-16 09:18:08760 电脑声卡相关术语简介
声道 对于普通用户来说，单纯追求完美的CD音质的毕竟是少数。大多数的用户还是用PC来打游戏、看
2010-02-05 11:15:57730
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1、Access Hole 露出孔(穿露孔，露底孔)常指软板外表的保护层 Coverlay(须先冲切出的穿露孔)，用以贴合在软板线路表面做
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2010-02-21 10:34:01975 线路板PCB相关其他术语解析
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2010-02-21 10:42:578275 Modem的种类和作用及其相关术语
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2010-03-23 09:58:45960 触摸屏相关技术与术语补充
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2010-03-24 11:07:14853 太阳能光伏相关术语,大气质量AM(Air Mass) 太阳光通过大气层的路径长度，简称AM，外层空间为AM 0，阳光垂直照射地球时为AM1(相当春/秋分分阳光垂直照射于赤道上之光谱
2011-04-06 10:35:131008 美国伊利诺大学(University of Illinois)实验室开发出一种以金属为蚀刻催化剂的砷化镓晶圆蚀刻法
2012-01-07 11:47:281391 本文首先介绍了蚀刻机的分类及用途，其次阐述了蚀刻机的配件清单，最后介绍了蚀刻机的技术参数及应用。
2018-04-10 14:38:324723 蚀刻液的种类：不同的蚀刻液化学组分不同，其蚀刻速率就不同，蚀刻系数也不同。例如：酸性氯化铜蚀刻液的蚀刻系数通常为3，碱性氯化铜蚀刻液的蚀刻系数可达到4。近来的研究表明，以硝酸为基础的蚀刻系统可以做到几乎没有侧蚀，达到蚀刻的线条侧壁接近垂直。这种蚀刻系统正有待于开发。
2018-10-12 11:27:366335 本模块介绍与使用基于Eclipse的IDE相关的术语和概念。涉及的主题包括透视图和视图的基本知识、查找帮助的方法，以及IDE操作速览。
2019-06-10 06:05:002652 
通常所指蚀刻也称腐蚀或光化学蚀刻（photochemicaletching），指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。
2019-04-25 15:41:3614173 蚀刻指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护摸去处，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版。蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。
2019-06-26 16:02:4820205 侧蚀问题是蚀刻参数中经常被提出来讨论的一项，它被定义为侧蚀宽度与蚀刻深度之比， 称为蚀刻因子。
2019-09-02 10:17:391755 PCB，电路板，基板上面如何出现电路呢？这就要蚀刻来实现。所谓蚀刻，先在板子外层需保留的铜箔部分，也就是电路的图形部分，在上面预镀一层铅锡抗蚀层，然后用化学方式将其余的铜箔腐蚀掉。铜有两层，一层需要
2020-03-08 14:45:214248 一、蚀刻的目的 蚀刻的目的即是将前工序所做出有图形的线路板上的未受保护的非导体部分铜蚀刻去，形成线路。 蚀刻有内层蚀刻和外层蚀刻，内层采用酸性蚀刻，湿膜或干膜为抗蚀剂；外层采用碱性蚀刻
2020-12-11 11:40:587458 1、 PCB蚀刻介绍 蚀刻是使用化学反应而移除多余材料的技术。PCB线路板生产加工对蚀刻质量的基本要求就是能够将除抗蚀层下面以外的所有铜层完全去除干净，仅此而已。在PCB制造过程中，如果要精确地
2021-04-12 13:48:0031008 
蚀刻机的基础原理一、蚀刻的目的蚀刻的目的即是将前工序所做出有图形的线路板上的未受保护的非导体部分铜蚀刻去，形成线路。蚀刻有内层蚀刻和外层蚀刻，内层采用酸性蚀刻，湿膜或干膜为抗蚀剂；外层采用碱性蚀刻，锡铅为抗蚀剂
2020-12-24 12:59:384836 随着万物互联的概念提出，物联网越来越被大众所悉知，与其相关的专业术语也越来越多。所以，继第一期后，在这里整理又了一些物联网相关的专业术语，帮助大家更好的认识物联网。
2021-05-07 16:38:551199 随着万物互联的概念提出，物联网越来越被大众所悉知，与其相关的专业术语也越来越多。今天在这里又整理了一些物联网相关的专业术语，帮助大家更好的认识物联网。
2021-06-20 09:16:421449 引言 了解形成MEMS制造所需的三维结构，需要SILICON的各向异性蚀刻，此时使用的湿式蚀刻工艺考虑的事项包括蚀刻率、长宽比、成本、环境污染等[1]。用于硅各向异性湿式蚀刻 溶液有KOH
2021-12-23 09:55:35484 
湿法蚀刻工艺已经广泛用于生产各种应用的微元件。这些过程简单易操作。选择合适的化学溶液(即蚀刻剂)是湿法蚀刻工艺中最重要的因素。它影响蚀刻速率和表面光洁度。铜及其合金是各种工业，特别是电子工业的重要
2022-01-20 16:02:241860 
我们华林科纳使用K2S2O8作为氧化剂来表征基于KOH的紫外(UV)光辅助湿法蚀刻技术。该解决方案提供了良好控制的蚀刻速率，并产生了光滑的高质量蚀刻表面，同时通过原子力显微镜测量的表面粗糙度降低最小
2022-02-14 16:14:55716 
在 KOH 水溶液中进行湿法化学蚀刻期间，硅 (1 1 1) 的绝对蚀刻速率已通过光学干涉测量法使用掩膜样品进行了研究。蚀刻速率恒定为0.62 ± 0.07 µm/h 且与 60
2022-03-04 15:07:09845 
了解形成MEMS制造所需的三维结构，需要SILICON的各向异性蚀刻，此时使用的湿式蚀刻工艺考虑的事项包括蚀刻率、长宽比、成本、环境污染等[1]。用于硅各向异性湿式蚀刻。
2022-03-11 13:57:43336 
本文研究了用金刚石线锯切和标准浆料锯切制成的180微米厚5英寸半宽直拉单晶硅片与蚀刻时间的关系，目的是确定FAS晶片损伤蚀刻期间蚀刻速率降低的根本原因，无论是与表面结构相关，缺陷相关，由于表面存在的氧化层，还是由于有机残差。
2022-03-16 13:08:09619 
微加工过程中有很多加工步骤。蚀刻是微制造过程中的一个重要步骤。术语蚀刻指的是在制造时从晶片表面去除层。这是一个非常重要的过程，每个晶片都要经历许多蚀刻过程。用于保护晶片免受蚀刻剂影响的材料被称为掩模
2022-03-16 16:31:581134 
的各向同性湿法蚀刻条件相比，由于非常高的各向异性，反应离子蚀刻工艺能够实现更好的蚀刻尺寸控制。尽管如此，当使用敏感材料(即栅极氧化物[1])或当尺寸放宽时，使用光敏抗蚀剂的湿法图案化仍然是参考工艺。本文研究了整个湿法腐蚀过程中抗蚀剂保护的完整性。给出了确保这种保护的一些提示，以及评估这种保护的相关新方法。
2022-04-06 13:29:19666 
本文研究了用金刚石线锯切和标准浆料锯切制成的180微米厚5英寸半宽直拉单晶硅片与蚀刻时间的关系，目的是确定FAS晶片损伤蚀刻期间蚀刻速率降低的根本原因，无论是与表面结构相关，缺陷相关，由于表面存在的氧化层，还是由于有机残差。
2022-04-18 16:36:05406 
微加工过程中有很多加工步骤。蚀刻是微制造过程中的一个重要步骤。术语蚀刻指的是在制造时从晶片表面去除层。这是一个非常重要的过程，每个晶片都要经历许多蚀刻过程。用于保护晶片免受蚀刻剂影响的材料被称为掩模
2022-04-20 16:11:571972 
的各向同性湿法蚀刻条件相比，由于非常高的各向异性，反应离子蚀刻工艺能够实现更好的蚀刻尺寸控制。尽管如此，当使用敏感材料(即栅极氧化物[1])或当尺寸放宽时，使用光敏抗蚀剂的湿法图案化仍然是参考工艺。本文研究了整个湿法腐蚀过程中抗蚀剂保护的完整性。给出了确保这种保护的一些提示，以及评估这种保护的相关新方法。
2022-04-22 14:04:19591 
被认为是一个速度源，这是我们提出的一个数学概念，也适用于位错和晶界，速度源的活动取决于相关的M111N平面与掩模之间的夹角，因此在微观机械结构中蚀刻的薄壁相对的M111N侧可以有不同的值。 在图1a中，示出了S 100T单晶硅炉和部分覆盖它的惰性掩
2022-05-20 17:12:59853 
通常在蚀刻过程之后通过将总厚度变化除以蚀刻时间或者通过对不同的蚀刻时间进行几次厚度测量并使用斜率的“最佳拟合”来测量，当怀疑蚀刻速率可能不随时间呈线性或蚀刻开始可能有延迟时，这样做有时可以实时测量蚀刻速率。
2022-05-27 15:12:133471 引言 我们华林科纳讨论了一种高速率各向异性蚀刻工艺，适用于等离子体一次蚀刻一个晶片。结果表明，蚀刻速率主要取决于Cl浓度，而与用于驱动放电的rf功率无关。几种添加剂用于控制蚀刻过程。加入BCl以开始
2022-06-13 14:33:14904 
蚀刻工艺 蚀刻过程分类
2022-08-08 16:35:34736 
这两种蚀刻液被广为使用的原因之一是其再生能力很强。通过再生反应，可以提高蚀刻铜的能力，同时，还能保持恒定的蚀刻速度。在批量PCB生产中，既要保持稳定的蚀刻速度，还要确保这一速度能实现最大产出率，这一点至关重要。蚀刻速度对生产速率会产生很大的影响，所以在对比蚀刻液的性能时，蚀刻速度是主要考量因素。
2022-08-17 15:11:198547 实验分析了各个因素对蚀刻率的具体影响。 根据目前广泛应用于生产中的技术， 介绍了如何对相关因素进行控制调节， 为得到稳定的热磷酸蚀刻率提供了方向。
2022-08-30 16:41:592997 
反应性离子蚀刻综合了离子蚀刻和等离子蚀刻的效果：其具有一定的各向异性，而且未与自由基发生化学反应的材料会被蚀刻。首先，蚀刻速率显著增加。通过离子轰击，基材分子会进入激发态，从而更加易于发生反应。
2022-09-19 15:17:553387 PTFE管用途：可用于蚀刻摇摆机的摇摆架，PTFE也称：可溶性聚四氟乙烯、特氟龙、Teflon 蚀刻机的简单介绍： 1、采用传动装置，雾化喷淋，结构合理；加工尺寸长度不限制，速度快、精度高
2022-12-19 17:05:50407 蚀刻不是像沉积或键合那样的“加”过程，而是“减”过程。另外，根据刮削方式的不同，分为两大类，分别称为“湿法蚀刻”和“干法蚀刻”。简单来说，前者是熔法，后者是挖法。
2023-01-29 09:39:003850 金属蚀刻是一种通过化学反应或物理冲击去除金属材料的技术。金属蚀刻技术可分为湿蚀刻和干蚀刻。金属蚀刻由一系列化学过程组成。不同的蚀刻剂对不同的金属材料具有不同的腐蚀特性和强度。
2023-03-20 12:23:433172 干法蚀刻与湿法蚀刻之间的争论是微电子制造商在项目开始时必须解决的首要问题之一。必须考虑许多因素来决定应在晶圆上使用哪种类型的蚀刻剂来制作电子芯片，是液体（湿法蚀刻）还是气体（干法蚀刻）
2023-04-12 14:54:331004 写在开头学习一样新事物总会带来很多新的专业名词。在学习新事物之前先大致了解一下相关的专业术语，可以帮助我们在学习的过程中事半功倍，不至于在游览一些相关文章的时候看地一头雾水。学习示波器也一样。下面
2021-11-03 16:00:151318 
示波器性能相关术语接下去要讲的一些术语，可能会当你和朋友们讨论示波器性能的时候用到，理解这些术语可以帮助你评估和比较不同型号示波器的性能。带宽：带宽是示波器的首要指标，这个指标可以告诉我们示波器
2021-11-03 16:01:161677 
关键词：氢能源技术材料，耐高温耐酸碱耐湿胶带，高分子材料，高端胶粘剂引言：蚀刻(etching)是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wetetching)和干蚀刻
2023-03-16 10:30:163504 
GaN及相关合金可用于制造蓝色/绿色/紫外线发射器以及高温、高功率电子器件。由于 III 族氮化物的湿法化学蚀刻结果有限，因此人们投入了大量精力来开发干法蚀刻工艺。干法蚀刻开发一开始集中于台面结构，其中需要高蚀刻速率、各向异性轮廓、光滑侧壁和不同材料的同等蚀刻。
2023-10-07 15:43:56319 
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