文章
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9.5.7 光刻胶∈《集成电路产业全书》2022-02-14 01:13
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7.3.3 “i”区的电势下降∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》2022-02-14 01:12
7.3.3“i”区的电势下降7.3pn与pin结型二极管第７章单极型和双极型功率二极管《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容：7.3.2“i”区中的载流子浓度∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》7.3.1大注入与双极扩散方程∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》7.3pn与pin结型二极管∈《碳化硅技术基本原理——二极管 806浏览量 -
9.5.8 g线和i线的紫外光刻胶∈《集成电路产业全书》2022-02-14 01:11
UVPhotoresistforg-lineandi-line撰稿人：北京科华微电子材料有限公司陈昕审稿人：复旦大学邓海9.5光掩模和光刻胶材料第9章集成电路专用材料《集成电路产业全书》下册ADT12寸全自动双轴晶圆切割机详情：切割机(划片机).ADT.823012寸全自动集成电路 749浏览量 -
7.3.4 电流-电压关系∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》2022-02-14 01:09
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9.5.9 KrF和ArF深紫外光刻胶∈《集成电路产业全书》2022-02-14 01:08
DUVPhotoresistforKrFandArF撰稿人：北京科华微电子材料有限公司陈昕http://www.kempur.com审稿人：复旦大学邓海https://www.fudan.edu.cn9.5光掩模和光刻胶材料第9章集成电路专用材料《集成电路产业全书》下册ADT12寸全自动双轴晶圆切割机详情：切割机(划片机).ADT.82301光刻胶 744浏览量 -
7.3.1 大注入与双极扩散方程∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》2022-02-11 01:08
7.3.1大注入与双极扩散方程7.3pn与pin结型二极管第７章单极型和双极型功率二极管《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容：7.3pn与pin结型二极管∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》7.2肖特基势磊二极管（SBD）∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》7.1.3双极型功率器件优值系数∈《碳化硅技术基本原理SiC 1206浏览量 -
9.5.6 硬掩模∈《集成电路产业全书》2022-02-11 01:07
HardPhotomask撰稿人：中芯国际集成电路制造有限公司郭贵琦审稿人：中芯国际集成电路制造有限公司时雪龙9.5光掩模和光刻胶材料第9章集成电路专用材料《集成电路产业全书》下册ADT12寸全自动双轴晶圆切割机详情：切割机(划片机).ADT.823012寸全自动双轴晶圆切割机成倍提高生产率日本晶圆清洗设备，大量装机，集成电路 885浏览量 -
7.3 pn与pin结型二极管∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》2022-02-10 01:08
7.3pn与pin结型二极管第７章单极型和双极型功率二极管《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容：7.2肖特基势磊二极管（SBD）∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》7.1.3双极型功率器件优值系数∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》7.1.2单极型功率器件优值系数∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用SiC 1324浏览量 -
9.5.5 极紫外光掩模∈《集成电路产业全书》2022-02-10 01:07
ExtremeUltravioletLithographyPhotomask（EUV）撰稿人：中芯国际集成电路制造有限公司郭贵琦审稿人：中芯国际集成电路制造有限公司时雪龙9.5光掩模和光刻胶材料第9章集成电路专用材料《集成电路产业全书》下册ADT12寸全自动双轴晶圆切割机详情：切割机(划片机).ADT.823012寸全集成电路 806浏览量 -
7.1.3 双极型功率器件优值系数∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》2022-02-09 01:09
7.1.3双极型功率器件优值系数7.1SiC功率开关器件简介第７章单极型和双极型功率二极管《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》往期内容：7.1.2单极型功率器件优值系数∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》7.1.1阻断电压∈《碳化硅技术基本原理——生长、表征、器件和应用》第７章单极型和双极型功率二极管6.5总结∈《碳化硅技术基本原理SiC 1042浏览量