一、产品概述
QDR清洗设备（Quadra Clean Drying System）是一款专为高精度清洗与干燥需求设计的先进设备，广泛应用于半导体、光伏、光学、电子器件制造等领域。该设备集成了化学腐蚀清洗、超声波/兆声波清洗、多级漂洗及真空干燥等技术，能够高效去除石英、硅片、金属部件等表面的颗粒、有机物、氧化物及金属污染，同时避免二次损伤，确保器件表面洁净度与工艺兼容性。
二、核心特点
四维清洗技术（Quadra Clean）
- 化学腐蚀：精准调配酸液（如HF、HCL、H₂O₂）或碱性溶液，针对特定污染物（如氧化层、金属残留）实现可控腐蚀。
- 超声波+兆声波协同：
- 超声波（20-40kHz）：剥离顽固颗粒与薄膜。
- 兆声波（>1MHz）：清除亚微米级颗粒，适用于纳米结构清洗。
- 多级漂洗：3-5级去离子水（DI Water）喷淋与溢流冲洗，彻底去除化学残留。
- 真空干燥：低温（<60℃）真空环境脱水，避免高温损伤，防止水痕与氧化。
智能化控制系统
- PLC+触摸屏：预设清洗程序，支持参数可调（时间、温度、功率、流量）。
- 实时监控：在线检测清洗液浓度、pH值、颗粒数，自动补充或更换化学液。
- 数据追溯：记录每次清洗的工艺参数与结果，符合ISO标准与行业追溯要求。
高精度兼容设计
- 多尺寸适配：可处理2寸至12寸晶圆、石英舟、金属载具等，适应不同工艺需求。
- 低损伤清洗：非接触式流体冲刷与声波振动，避免机械应力损伤脆弱结构（如薄膜、纳米图形）。
- 材料兼容性：腔体采用PFA、PTFE等耐腐蚀材料，避免交叉污染。
环保与安全
- 闭环化学液系统：废液自动回收与分离，减少危废处理成本。
- 安全防护：泄漏检测、紧急排液、防爆设计，符合SEMI S8安全标准。
三、应用场景
- 半导体制造：清洗扩散炉石英舟、光刻机部件、CVD石墨载具等。
- 光伏行业：太阳能电池片承载石英舟的颗粒与金属污染去除。
- 光学加工：光学镜片模具、石英坩埚的纳米级清洁。
- 科研实验：实验室级高精度器件清洗（如MEMS传感器、量子芯片载体）。
QDR清洗设备以“四维清洗+真空干燥”为核心，结合智能化与安全性设计，为高端制造业提供高精度、高效率的清洗解决方案，助力提升产品良率与工艺稳定性。
