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电子发烧友网>电子资料下载>电子论文>半导体技术论文>二氧化硅薄膜应用领域及特性的详细资料说明

二氧化硅薄膜应用领域及特性的详细资料说明

2020-03-10 | docx | 0.12 MB | 次下载 | 免费

资料介绍

  SiO2 薄膜具有良好的硬度、光学、介电性质及耐磨、抗蚀、机械等特性,在光学、微电子等领域有着广泛的应用前景

  SiO2薄膜已经是一种普通应用于各个领域的重要膜层(增透膜、多层膜、保护膜、滤光片…等)。在光学薄膜滤光片中,SiO2 薄膜是很好的一种单层抗反射膜,更是最常用的一种低折射率膜层,用來镀制多层光学薄膜滤光片;在镀膜工艺中,作为金属或者其他材料的表面抗刮和保护层;在半导体技术方面,常用来当作绝缘层的一种材料。

  SiO2薄膜其穿透区涵盖0.15μm 至 8μm,具有很小的吸收损耗;和多数不同材料的基板拥有良好的附著性,表面也具有良好的耐刮性;结构稳定,不易与其他材料发生反应,产生变质,具有耐酸性、抗腐蚀的优点。

 

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