伯东企业（上海）有限公司

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• 发布了文章 2023-08-07 14:21

  inTEST热流仪逻辑芯片 FPGA高低温冲击测试

  

  FPGA 芯片需要按照 JED22-A104 标准做温度循环 TC 测试, 让其经受极端高温和低温之间的快速转换. 一般在 -55℃~150℃ 进行测试, 传统的环境箱因为升降温速度受限, 无法满足研发的快速循环测试需求. 上海伯东美国 inTEST 热流仪 ATS-710E 变温速率约 10 s, 实现 FPGA 芯片极端高温和低温之间的快速转换测

  FPGA 测试 芯片 高低温测试机

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• 发布了文章 2023-08-07 14:14

  上海伯东分子泵应用于 LED 芯片退火合金炉

  

  LED 芯片退火合金炉属于真空炉的一种, 需要在真空环境下实现 LED 芯片的退火, 合金, 湿氧氧化, 欧姆电极烧结等工艺. 腔体真空度一般在 10-3 至 10-6 hPa 之间, 上海伯东德国 Pfeiffer 分子泵凭借大抽速,高稳定性广泛应用于退火合金炉设备.

  led 真空泵 芯片

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• 发布了文章 2023-08-07 14:08

  美国KRi 离子源光通信应用, 助力5G技术发展

  

  光通信的信息载体是光波, 为了进一步提高光通信系统中光信号的传输质量, 满足光通信系统的使用要求,  上海伯东美国 KRi 离子源通过离子束溅射, 辅助薄膜沉积等工艺在离子束镀膜系统中实现光模块, 光器件等薄膜元件的精密加工. 离子源典型应用例如, 在光纤连接面镀 AR 增透膜 (减反射膜), 达到减少光纤对光的损耗, 增加光的透过率, 减少反射的工艺效果.

  5G 光纤器 光通讯 离子源 通信

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• 发布了产品 2023-07-11 10:13

  普发分流式分子泵 SplitFlow

  

  产品型号：SplitFlow 产地：德国

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• 发布了产品 2023-07-11 10:09

  普发分子泵 HiPace 80 Neo

  

  产品型号：HiPace 80 Neo 产地：德国

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• 发布了文章 2023-07-07 14:55

  美国 KRi 考夫曼离子源应用于双腔室高真空等离子 ALD 系统

  

  上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 KDC 40 应用于双腔室高真空等离子 ALD 系统, 实现小规模试验中 2-4 英寸硅片等半导体衬底表面的清洁, 确保样品表面清洁无污染, 满足 TiN, ZnO, Al2O3, TiO2 等制备.

  离子源 系统

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• 发布了文章 2023-06-20 16:58

  Aston™ 质谱仪 ALD 工艺控制的原位计量

  

  上海伯东 Aston™ 质谱分析仪是一款快速, 强大的化学特异性气体质谱仪, 提供 ALD 过程控制解决方案, 可在这些非等离子体（“lights-off”）过程中提供原位计量和控制. 它可以实现快速, 化学特定的原位定量气体分析, 低至十亿分之几的水平, 提供 ALD 过程控制所需的实时数据.

  工艺控制 质谱分析

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• 发布了文章 2023-06-20 16:49

  Aston 质谱仪对小开口区域的蚀刻有更高的灵敏度

  

  上海伯东日本 Aston™ 质谱仪能够进行准确且可操作的端点检测, OA% 是传统 OES 计量解决方案的一个数量级（1/10）. Aston™ 质谱仪解决方案适用于具有高蚀刻吞吐量和大量重复相同步骤的工艺中的实时 EPD. 这是通过高信噪比 SNR 实现的, 从而避免了 OES 设备中常见的模棱两可和复杂的多变量分析算法.

  刻蚀 检测 蚀刻 质谱仪

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• 发布了文章 2023-06-20 16:21

  Aston 过程质谱应用于 EUV 极紫外光源卤化锡原位定量

  

  上海伯东日本 Atonarp Aston™ 过程质谱分析仪通过快速, 可操作, 高灵敏度的分子诊断数据实现了更佳的反射板镀锡层清洁, 并且 Aston™ 过程质谱的实时氢气 H2 监测也降低了每个 EUV 工具的氢气消耗

  EUV EUV光刻机 晶圆

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• 发布了文章 2023-06-20 16:17

  Aston™ 质谱分析仪保护 CVD 工艺免受干泵故障的影响

  

  上海伯东代理日本 Atonarp 过程控制质谱仪 Aston™ 为半导体生产而设计, 作为一个强大的平台, Aston™ 可以取代多种传统工具, 提供半导体制程中 ALD, CVD, 蚀刻, ALE 和腔室在大批量生产中的气体侦测分析, 实现尾气在线监控, 诊断并在一系列应用中提供更高的控制水平, 适用于光刻, 电介质和导电蚀刻及沉积, 腔室清洁, 腔室匹配

  CVD 半导体

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