伯东企业（上海）有限公司

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• 发布了文章 2023-05-25 11:19

  晶圆键合机中的无油真空系统

  

  晶圆键合机主要用于将晶圆通过真空环境, 加热, 加压等指定的工艺过程键合在一起, 满足微电子材料, 光电材料及其纳米等级微机电元件的制作和封装需求. 晶圆键合机需要清洁干燥的高真空工艺环境, 真空度一般要求 5E-4 mbar 至 5E-8 mbar, 因为如果参杂了其他气体杂杂质, 会影响到器件的性能. 无油干式真空泵搭配分子泵是晶圆键合机真空系统的标准配

  晶圆 系统

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• 发布了文章 2023-05-25 11:12

  分析仪器中的真空系统(分流分子泵应用)

  

  分析仪器对于真空技术的需求非常复杂. 在基于控制成本的情况下, 对真空泵性能和空间限制要求也很高. 需要在设计阶段就考虑要达到更高的灵敏度, 分辨率和样品通量, 明显改善数据管理等目标, 以及新分析系统中成本和空间的优化, 在这个过程中, 真空系统至关重要, 上海伯东德国 Pfeiffer SplitFlow™ 智能分流分子泵满足分析仪器设备厂家要求并接受定

  分析仪器 系统

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• 发布了产品 2023-05-25 11:07

  销售维修涡轮分子泵 HiPace 350-800

  

  产品型号：HiPace 350-800 品牌：德国 Pfeiffer 产地：德国

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• 发布了产品 2023-05-25 10:55

  销售维修普发涡轮分子泵 HiPace 10-300

  

  产品型号：HiPace 10-300 品牌：德国 Pfeiffer 产地：德国

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• 发布了文章 2023-05-25 10:27

  KRi 射频离子源应用于国产离子束溅射镀膜机 IBSD

  

  上海伯东客户某高校使用国产品牌离子束溅射镀膜机用于金属薄膜制备, 工艺過程中, 国产离子源钨丝仅使用 18个小时就会烧断, 必须中断镀膜工艺更换钨丝, 无法满足长时间离子束溅射镀膜的工艺要求, 导致薄膜质量低的情况. 客户需要离子源的稳定工作时间不低于 48个小时, 经过伯东推荐最终改用美国 KRi 射频离子源 RFICP 100 替换原有的国产离子源, 单

  射频 工艺 离子源

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• 发布了方案 2023-05-25 10:22

  KRi 离子源 e-beam 电子束蒸发系统辅助镀膜应用

  

  上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 KDC 系列, 通过加热灯丝产生电子, 是典型的考夫曼型离子源, 离子源增强设计输出低电流高能量宽束型离子束, 通过同时的或连续的离子轰击表面使原子(分子)沉积在衬底上形成薄膜, 实现辅助镀膜 IBAD.

  电子 离子源

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• 发布了方案 2023-05-25 10:18

  KRi 射频离子源 IBSD 离子束溅射沉积应用

  

  上海伯东美国 KRi 考夫曼品牌 RF 射频离子源, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的宽束离子束, 离子束轰击溅射目标, 溅射的原子(分子)沉积在衬底上形成薄膜, IBSD 离子束溅射沉积 和 IBD 离子束沉积是其典型的应用.

  射频 离子源

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• 发布了方案 2023-05-25 10:10

  KRi 考夫曼离子源表面预清洁 Pre-clean 应用

  

  上海伯东代理美国 KRi 考夫曼离子源适用于安装在 MBE 分子束外延, 溅射和蒸发系统, PLD 脉冲激光系统等, 在沉积前用离子轰击表面, 进行预清洁 Pre-clean 的工艺, 对基材表面有机物清洗, 金属氧化物的去除等, 提高沉积薄膜附着力, 纯度, 应力, 工艺效率等！

  硅片 离子源

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• 发布了方案 2023-05-24 17:22

  美国 KRi 大尺寸射频离子源树脂镜片高性能 AR 工艺

  

  上海伯东美国 KRi 大尺寸射频离子源 RFICP 380, 利用高均匀性的离子分布及高稳定的离子能量成功搭配于 1米7 的大型蒸镀设备, 解决了在树脂基材镜头上无法达到高质量镀膜要求的问题, 同时也提升了企业生产效能.

  Ar 离子源

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• 发布了产品 2023-05-11 16:45

  美国 KRi 霍尔离子源,真空镀膜离子源

  

  产品型号：eH 400 产地：美国 类型：霍尔型 品牌：KRi

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