泽攸科技文章

• 泽攸科技 | EBL和EUV光刻机有何区别？如何影响半导体行业？2026-01-06 16:49

  

  从技术路径上看，电子束光刻和大家熟悉的EUV光刻并不是同一类问题的解法。电子束光刻本质上是一种直接写入技术，利用聚焦电子束在抗蚀剂上逐点曝光，通过电磁控制精确描绘图形。这种方式不依赖掩模，在设计频繁迭代的研发阶段非常有优势，尤其适合量子器件、新型材料结构、原型芯片以及掩模制作等场景。

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• 泽攸科技 | 台阶仪：微观形貌的精密解析工具 —— 原理、技术与产业化应用2025-08-19 10:31

  

  在精密制造与前沿科研领域，微观表面形貌的量化表征是保障产品性能与推动技术创新的关键环节。台阶仪作为一种高精度表面测量仪器，通过对样品表面高度差、粗糙度及薄膜厚度等参数的精确获取，为半导体、纳米材料、光学工程等领域提供了不可或缺的技术支撑。

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• 泽攸科技 | 电子束光刻（EBL）技术介绍2025-08-14 10:07

  

  电子束光刻（EBL）是一种无需掩模的直接写入式光刻技术，其工作原理是通过聚焦电子束在电子敏感光刻胶表面进行纳米级图案直写。

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• 泽攸科技 | 国产台阶仪和进口台阶仪相比，各有什么优势？2025-08-14 09:56

  

  在全球精密测量设备市场中，台阶仪作为微纳形貌检测的核心工具，长期被进口品牌主导。然而，随着国产技术的突破，以泽攸科技为代表的国产台阶仪凭借“高精度、高性价比、强服务”等优势，正加速抢占市场。

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