苏州光子湾科学仪器有限公司

动态

• 发布了文章 2026-02-26 18:05

  半导体QFN的IC 引线框架表面处理粗糙度分析

  

  铜基镀银IC引线框架是半导体塑封器件的核心材料，其表面粗糙度直接影响与塑封料的机械互锁结合力，进而决定QFN塑封器件的抗水汽分层能力和MSL湿敏试验可靠性。为满足QFN器件向大尺寸、高湿敏等级发展的需求，本文以有机酸超粗化结合低电流镀银工艺为研究对象，通过光子湾科技共聚焦显微镜对铜基材及银镀层的表面粗糙度Sa值进行精准表征，分析粗化时间、电镀电流对表面粗糙度

  IC 半导体 机械

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• 发布了文章 2026-02-24 18:05

  基于溶胶-凝胶法光刻胶的FsLDW微透镜制备与三维形貌表征

  

  飞秒激光直写（FsLDW）技术凭借纳米级分辨率、三维结构加工能力成为微透镜制备的核心技术，而溶胶-凝胶基光刻胶兼具有机材料的设计灵活性与无机材料的高稳定性，是制备高精度微透镜的理想材料。本研究以溶胶-凝胶基光刻胶为原料，通过飞秒激光直写技术制备不同曲率半径的微透镜，结合光子湾科技的共聚焦显微镜（LSCM）等多种表征技术，对微透镜的三维形貌进行精准分析，验证制

  光刻胶 透镜

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• 发布了文章 2026-02-10 18:03

  铝合金电化学处理的粗糙度表征与粘接性能优化

  

  铝合金广泛应用于航空航天、新能源汽车等领域，轻量化趋势下其高效高质量连接成为关键难题。粘接技术优势显著，但铝合金表面易形成致密氧化膜，需预处理提升粘接性能。传统酸碱预处理存在污染、低效等问题，中性盐溶液环保经济，是理想替代方案。下文，光子湾科技将详解以NaCl和NaNO₃为介质，研究电化学毛化中溶液与电流参数对表面粗糙度及粘接性能的影响，为铝合金高效粘接提供

  测量 表面轮廓仪 铝合金

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• 发布了文章 2026-02-05 18:04

  三维形貌测量 | 共聚焦显微成像技术研究

  

  随着精密制造与半导体产业的发展，微结构表面形貌的高精度、高效率检测需求日益突出。共聚焦显微成像技术凭借高分辨率、强信噪比和优异的光学层切性能，成为三维表面形貌测量领域的核心技术。该技术的核心成像逻辑的是通过各类扫描方式获取样品完整视场图像，进而完成三维形貌重构。下文，光子湾科技将围绕扫描式、探测数据分析式、光谱编码式三类共聚焦方法，系统探讨其技术特点与应用优

  测量 电动显微成像

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• 发布了文章 2026-02-03 18:03

  硅基光波导表面粗糙度与光损耗的关联分析

  

  在现代光通信与光子集成领域，硅基光波导因其优异的性能已成为核心元件。然而，由侧壁粗糙度引起的光传输损耗，严重限制了其应用性能的进一步提升。因此，对光波导表面粗糙度的精确测量与分析，成为优化器件设计、提升性能的关键所在。下文，光子湾科技将详解共聚焦显微镜（CLSM）在测量硅基波导侧壁粗糙度的应用，并分析其粗糙度与光传输损耗之间的关联。#Photonixbay.

  光波 硅基

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• 发布了文章 2026-01-29 18:03

  激光共聚焦显微镜与光谱共聚焦传感器的区别

  

  在光学检测领域，激光共聚焦显微镜与光谱共聚焦传感器均以“共聚焦”技术为核心，但二者的功能定位、工作原理及应用场景差异显著。前者侧重高分辨率成像，后者专注精准距离与轮廓测量。下文，光子湾科技将从激光共聚焦显微镜与光谱共聚焦传感器的定义、原理、特性及应用等方面，厘清两者的核心区别。#Photonixbay.激光共聚焦显微镜1.定义与核心定位激光共聚焦显微镜，又称

  传感器 光谱 激光

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• 发布了文章 2026-01-27 18:03

  一文读懂：共聚焦显微镜的双向扫描控制技术

  

  共聚焦显微镜作为微观检测的核心工具，凭借高分辨率成像和光学切片能力，广泛应用于材料科学、半导体等领域。传统单向扫描模式中，振镜反向行程的浪费导致成像效率偏低，而双向扫描技术通过充分利用振镜全周期运动，在不提升硬件频率的前提下将成像速度翻倍，同时降低设备损耗，成为共聚焦显微镜的关键升级方向。下文，光子湾科技将详细介绍双向扫描控制技术的原理、设计及优势。#Pho

  显微镜 测量

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• 发布了文章 2026-01-22 18:05

  共聚焦显微镜与光片显微镜的区别

  

  在精密制造、半导体检测等领域中，显微镜技术起到至关重要的作用。共聚焦显微镜和光片显微镜作为两种重要的光学成像技术，因其各自独特的原理和性能，在工业检测与研究中发挥着不同的作用。下文，光子湾科技将从技术原理、成像性能、应用场景等方面，系统比较这两种显微镜技术的区别。#Photonixbay.成像原理的差异1.共聚焦显微镜共聚焦成像共聚焦显微镜基于点扫描成像原理

  工业检测 显微镜

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• 发布了文章 2026-01-20 18:02

  共聚焦显微镜、光学显微镜与测量显微镜的区分

  

  在科研与工业检测领域，显微镜是核心观测工具，而共聚焦显微镜、光学显微镜与测量显微镜常因概念交叉易被混淆。三者虽同属显微技术范畴，却从原理、技术、用途维度各有界定，精准区分对选型应用至关重要。下文，光子湾科技将拆解三者的从属与交叉关系，解析共聚焦显微镜的核心特性，助力清晰认知不同显微镜的定位与适用场景。#Photonixbay.共聚焦显微镜的技术本质：先进的光

  光学 显微镜 测量

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• 发布了文章 2026-01-15 18:02

  共聚焦显微镜VS激光共聚焦显微镜的技术对比

  

  在微观成像与样品表征领域，共聚焦显微镜（ConfocalMicroscope）和激光共聚焦显微镜（CLSM）凭借共焦成像的核心原理，成为材料科学、半导体等多学科研究的关键工具。二者虽共享基础工作原理，但在技术实现、性能表现及应用场景上存在显著分化。下文，光子湾科技将深入剖析二者的区别，助力科研选型、实验精度提升及研究效率优化。#Photonixbay.相同的

  显微镜 激光

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