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电子发烧友网>光电显示>佳能光刻机现在是什么水平?佳能如何看待显示行业寒冬?

佳能光刻机现在是什么水平?佳能如何看待显示行业寒冬?

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佳能6D2什么时候出?佳能有可能锁定今年9月份

虽然关于佳能6D2的传闻没有断过,而随后佳能一直没有发布这款机器,导致关于6D2的传闻似乎变成了一个神话,但是近期的一则新闻指出,佳能很有可能在今年的9月份正式发布这款6D2,于此同时还会发布一款SL2相机,这款相机也就是传闻中的佳能EOS 150D。此外,佳能85mm F1.4也有可能发布。
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佳能6D2最新消息:7月份发布 首款可翻转显示屏的佳能全画幅单反

如果你想要入手一台佳能的全画幅相机,但是又想要可以任意翻转角度和屏幕的显示屏,那么现在值得你期待的好消息来了。根据一份来自佳能公司内部的报告显示,在佳能即将推出的6D MK II单反相机新品上,我们将看到在佳能全画幅单反上首次出现可翻转的液晶显示屏。
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佳能或将于7月发布新品发布会 佳能M20与佳能6D Mark2将重点发布

佳能或将于7月20日或21日召开新品发布会,并推出新款佳能EOS M20无反相机用以取代目前在售的EOS M10
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佳能最近的传言还真不少,上周就传言本周会发布EOS 6D Mark II,发布时间甚至被传言为6月29日,不过最近关于佳能的消息又有了更新。最新消息显示佳能本周会发布三款机器,佳能EOS 6D
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佳能EOS 6D Mark II拍照效果怎么样?佳能EOS 6D Mark II全尺寸样片赏析

2017年6月29日,佳能(中国)有限公司在北京正式发布了多款新品相机,包括佳能EOS 6D Mark II(以下简称6D2)、佳能EOS 200D(以下简称200D)。
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佳能顶级红圈镜头来袭:佳能或将发布最新移轴镜头

根据CR网站消息,佳能或于本月月底或者九月月初发布多款新的移轴镜头,此前也曾传出过佳能要发布新品,但是没有确切的照片为证,而此次外媒曝光了佳能正在进行镜头测试的照片,或许更加证实了佳能正在为新镜头发布做最后的准备。此次新的移轴镜头应该是目前佳能这几支镜头的升级版,但具体是哪只目前还无法确认。
2017-08-08 16:20:421342

光刻机结构组成及工作原理

本文以光刻机为中心,主要介绍了光刻机的分类、光刻机的结构组成、光刻机的性能指标、光刻机的工艺流程及工作原理。
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据美国商业专利数据库显示佳能蝉联全美专利前五超过苹果英特尔

根据美国商业专利数据库显示佳能在2017年提交3285项专利,数量排名全美第三,事实上,作为美国专利提交榜单的前五名,佳能已经保持了32年。 佳能公司表示,专利数量说明了公司致力于开发新产品(除了
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佳能单反77d怎么样 便携更专业

佳能EOS 77D是佳能在今年二月份发布的一款单反新品。从名称上来看,也许会让熟悉佳能的朋友有些困惑。
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光刻机有什么用

光刻机的作用有多大,在这时候就体现出来了。即便是自己能够研发出芯片了,但是没有光刻机还是不能批量生产。并且就现在来说国际上的光刻机咱们国家大陆地区还是买不到的,似乎是在进行技术封锁,这也就苦了华为这样能够自主研发芯片的公司。
2019-03-13 15:16:0720007

光刻机中国能造吗_为什么中国生产不了光刻机

,中国最好的光刻机厂商上海微电子装备有限公司(SMEE)已经量产的光刻机中,性能最好的SSA600/20工艺只能达到90nm,相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。而国外的先进水平已经达到了7纳米,正因如此,国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。
2020-03-18 10:52:1189226

光刻机能干什么_英特尔用的什么光刻机_光刻机在芯片生产有何作用

光刻机是芯片制造的核心设备之一,作为目前世界上最复杂的精密设备之一,其实光刻机除了能用于生产芯片之外,还有用于封装的光刻机,或者是用于LED制造领域的投影光刻机。目前,我国高端的光刻机,基本上是从荷兰ASML进口的。
2020-03-18 11:12:0244388

音圈电机在光刻机掩模台系统中的应用

作为芯片制造的核心设备之一,光刻机对芯片生产的工艺有着决定性影响。 据悉,光刻机按照用途可分为生产芯片的光刻机、封装芯片的光刻机以及用于LED制造领域的投影光刻机。其中,生产芯片的High End
2020-06-15 08:05:54999

佳能半导体光刻机新产品即将开售, 可满足高产能大型基板的封装需求

6月23日消息,佳能1将在2020年7月上旬发售半导体光刻机的新产品——面向后道工序的i线2步进式光刻机“FPA-8000iW”。该产品具备对应尺寸最大到515×510mm大型方形基板的能力以及1.0微米3的高解像力。
2020-06-29 14:58:053018

开发顶级光刻机的困难 顶级光刻机有多难搞?

顶级光刻机有多难搞?ASML的光刻机,光一个零件他就调整了10年!拿荷兰最新极紫外光EUV光刻机举例,其内部精密零件多达10万个,比汽车零件精细数十倍!
2020-07-02 09:38:3911513

擦肩而过的光刻机

1964年中国科学院研制出65型接触式光刻机;1970年代,中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩膜工艺;清华大学研制第四代分部式投影光刻机,并在1980年获得成功,光刻精度达到3微米,接近国际主流水平。而那时,光刻机巨头ASML还没诞生。
2020-09-20 10:35:027124

政策助力光刻机行业发展,我国光刻机行业研发进度仍待加快

光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机是半导体产业中最关键设备,光刻工艺决定了半导体线路的线宽,同时也决定了芯片的性能和功耗。
2020-09-30 16:17:135162

AMSL宣布:无须美国许可同意可向中国供货DUV光刻机,但EUV受限

光刻机,在整个芯片生产制造环节,是最最最核心的设备,技术难度极高。在全球光刻机市场,日本的尼康、佳能,和荷兰的ASML,就占据了市场90%以上份额。而最高级的EUV(极紫外光)技术,则更是只有荷兰的ASML一家可以掌握。
2020-10-17 09:49:453450

一文详解光刻机技术

最近光刻机十分火,我们经常听到别人说7纳米光刻机、5纳米光刻机,但其实严格意义上来说并不存在7纳米光刻机,5纳米光刻机,我为什么会这样说呢?
2020-10-19 11:42:5120305

中国芯片制造行业正进入快速发展的新阶段

大家都知道,ASML是光刻机市场的大巨头,虽说在主流的光刻机上ASML是和日本尼康和佳能三分天下的,但是在EUV的光刻机上,这就只有靠着ASML才行。
2020-11-06 15:44:351781

为何只有荷兰ASML才能制造顶尖EUV光刻机设备?

只有荷兰光刻机巨头ASML能造,对此也有很多网友们感觉到非常疑惑,为何只有荷兰ASML可以造顶尖EUV光刻机设备呢?像我国的上海微电子、日本的索尼、佳能都造不出来吗?
2020-12-03 13:46:226379

日本佳能正加快抢占高功能半导体市场

日本佳能正通过光刻机加快抢占高功能半导体市场。佳能时隔7年更新了面向小型基板的半导体光刻机,提高了生产效率。在用于纯电动汽车(EV)的功率半导体和用于物联网的传感器需求有望扩大的背景下,佳能推进支持多种半导体的产品战略。目标是在三大巨头垄断的光刻机市场上确立自主地位。
2021-01-06 10:03:061540

佳能/尼康/阿斯麦三家制造商占据全球超过90%的半导体光刻机市场

日本光学设备制造巨头佳能(Canon)正计划靠提升光刻机的生产效率来抢占市场。按照计划,今年3月份,佳能将时隔7年(自2013年来),面向市场推出新型光刻机“FPA-3030i5a”,这款新品较旧机型的生产效率提升了将近17%。
2021-01-06 15:47:073242

佳能发售新型光刻机“FPA-3030i5a”,抢占高功能半导体市场

光刻机(图源:日经中文网) 时隔7年,佳能更新了面向小型基板的半导体光刻机,该设备使用波长为365纳米的“i线”光源,支持直径从2英寸(约5厘米)到8英寸(约20厘米)的小型基板,生产效率较以往机型提高了约17%。 就工艺水平而言,佳能的这款新型光
2021-01-06 17:41:067868

佳能即将发售新型光刻机“FPA-3030i5a”

日本的佳能曾经是最大的光刻机制造商之一,后来逐渐衰微。但佳能并没有放弃光刻机业务。据日经中文网报道,佳能将于2021年3月发售新型光刻机“FPA-3030i5a”,用来抢占高功能半导体市场。
2021-01-07 09:03:223005

佳能将推新光刻机,效率提升17%

日本的佳能曾经是最大的光刻机制造商之一,后来逐渐衰微。但佳能并没有放弃光刻机业务。据日经中文网报道,佳能将于2021年3月发售新型光刻机“FPA-3030i5a”,用来抢占高功能半导体市场。
2021-01-07 11:21:093152

佳能时隔7年更新了面向小型基板的半导体光刻机

FPA-3030i5a步进式光刻机的硬件和软件已在其前代产品FPA-3030i5步进式光刻机(2012年6月发布)基础上进行了升级,以帮助降低CoO。FPA-3030i5a继承了FPA-3030i5的解像力,可以曝光0.35μm3的线宽图案
2021-01-07 17:04:063492

芯源微:光刻工序涂胶显影设备成功打破国外厂商垄断

近日,芯源微披露投资者关系活动记录表指出,公司前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证,可以与包括ASML、佳能等国际品牌以及国内的上海微电子(SMEE)的光刻机联机应用。
2021-01-08 13:53:334683

ASML垄断第五代光刻机EUV光刻机:一台利润近6亿

光刻机领域一家独大的荷兰光刻机巨头ASML,占据着芯片行业的顶端,毕竟没有了他们的设备,想要造出先进工艺制程的芯片是没戏的。 财报披露,ASML2020年全年净销售额140亿欧元,毛利率为48.6
2021-01-22 10:38:164677

解析全球光刻机行业发展情况

根据芯思想研究院(ChipInsights)的数据表明,2020年全球集成电路、面板、LED用光刻机出货约58台,较2019年增加3台。其中集成电路制造用光刻机出货约410台;面板、LED用光刻机出货约170台。
2021-02-24 16:56:1211120

光刻机原理介绍

光刻机,是现代光学工业之花,是半导体行业中的核心技术。        可能有很多人都无法切身理解光刻机的重要地位,光刻机,是制造芯片的机器,要是没有了光刻机,我们就没有办法造出芯片,自然也就
2021-07-07 14:31:18125772

佳能暖心服务,让打印更无忧

2021年6月8日至7月8日,佳能(中国)有限公司(以下简称“佳能”)刚刚结束了为期一个月的免费清洁保养系列活动。据悉,该活动覆盖了全国180个城市的近300家佳能维修店,为近两万台企业用户
2021-07-14 15:27:471442

光刻机的难度在哪里

中国是目前世界上消费芯片最多的国家,每年的芯片进口额已超过了石油的进口额。虽然中国芯片行业也已经取得了小有成就,但在世界上还是处于落后的水平,芯片的落后少不了因为光刻机的原因,那么光刻机的难度究竟在在哪里呢?
2022-01-03 17:16:004756

刻蚀机能替代光刻机

刻蚀机不能代替光刻机光刻机的精度和难度的要求都比刻蚀机高出很多,在需要光刻机加工的时候刻蚀机有些不能办到,并且刻蚀机的精度十分笼统,而光刻机对精度的要求十分细致,所以刻蚀机不能代替光刻机
2022-02-05 15:47:0039915

光刻胶和光刻机的关系

光刻胶是光刻机研发的重要材料,换句话说光刻机就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕迹,就需要网硅片上涂一层光刻胶。
2022-02-05 16:11:0011281

光刻机干啥用的

光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前有用于生产的光刻机,有用于LED制造领域的光刻机,还有用于封装的光刻机光刻机是采用类似照片冲印的技术,然后把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0085813

光刻机是干什么用的 光刻机厂商有哪些

光刻机又被称为掩膜对准曝光机,在芯片生产中用于光刻工艺,而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步,所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备,总得来说光刻机是用来制造芯片的。
2022-02-06 07:25:0029436

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佳能新发售KrF半导体光刻机的Grade10升级包

佳能将于2022年8月初发售KrF※1半导体光刻机“FPA-6300ES6a”的“Grade10”产能升级配件包(以下简称“Grade10”升级包)。KrF半导体光刻机“FPA-6300ES6a
2022-06-14 09:14:112006

中国光刻机现在多少纳米 光刻机的基本原理

众所周知,光刻机一直处于垄断地位,在光刻机领域,最有名的就是ASML公司了。
2022-07-04 11:21:15288332

euv光刻机三大核心技术 哪些公司有euv光刻机

中国芯的进步那是有目共睹,我国在光刻机,特别是在EUV光刻机方面,更是不断寻求填补空白的途径。
2022-07-05 10:38:3516742

三星斥资买新一代光刻机 中芯光刻机最新消息

三星电子和ASML就引进今年生产的EUV光刻机和明年推出高数值孔径极紫外光High-NA EUV光刻机达成采购协议。
2022-07-05 15:26:155634

最先进的光刻机多少nm 中国现在能做几nm芯片

光刻机是制作芯片并不可少的重要工具,大家都知道,光刻机技术几乎被荷兰ASML所垄断,那么全球最先进的光刻机是多少nm的?中国现在又能够做出几nm的芯片呢?
2022-07-06 10:07:15247354

euv光刻机可以干什么 光刻工艺原理

光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机
2022-07-06 11:03:077000

euv光刻机目前几纳米 中国5纳米光刻机突破了吗

大家都知道,芯片制造的核心设备之一就是光刻机了。现在,全球最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机,那么euv光刻机目前几纳米呢? 到现在,世界上最先进的光刻机能够实现5nm的加工。也就是荷兰
2022-07-10 11:17:4242766

euv光刻机是哪个国家的

说到芯片,估计每个人都知道它是什么,但说到光刻,许多人可能不知道它是什么。光刻机是制造芯片的机器和设备。没有光刻机的话,就无法生产芯片,因此每个人都知道光刻机对芯片制造业的重要性。那么euv光刻机
2022-07-10 11:42:276977

euv光刻机是干什么的

光刻机是大规模集成电路生产的核心设备,它能够制造和维护需要高水平的光学和电子产业基础,全球只有少数制造商掌握了这一基础。 光刻机的作用是对芯片晶圆进行扫描曝光,对集成电路进行蚀刻。精度更高的光刻机
2022-07-10 14:35:066173

duv光刻机和euv光刻机区别是什么

光刻机和euv光刻机区别是是什么呢? duv光刻机和euv光刻机区别 1.基本上duv只能做到25nm,而euv能够做到10nm以下晶圆的生产。 2. duv主要使用的是光的折射原理,而euv使用的光的反射原理,内部必须是真空操作。 以上就是duv光刻机和euv光刻机区别了,现在基本都是euv光刻机
2022-07-10 14:53:1078127

euv光刻机原理是什么

euv光刻机原理是什么 芯片生产的工具就是紫外光刻机,是大规模集成电路生产的核心设备,对芯片技术有着决定性的影响。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻机生产。那么euv光刻机原理是什么呢? EUV
2022-07-10 15:28:1015099

euv光刻机用途是什么

等多项先进技术。 是半导体行业技术含量最高的设备。 光刻机在芯片制作中扮演着很重要的角色。在加工芯片的时候,光刻机会通过光源能量、形状控制手段,让光束透射过画着线路图的掩膜,能够把线路图缩小然后映射在硅片上,最后用化
2022-07-10 16:34:403116

佳能发售半导体光刻机解决方案Lithography Plus

来源:佳能集团 通过技术与数据优势,提升光刻机的生产效率 佳能将于2022年9月5日起发售解决方案平台“Lithography Plus1”服务(以下简称“Lithography Plus”),该系
2022-09-06 17:01:491195

除ASML之外的光刻机厂商们近况如何?

厂商尼康和佳能为例,他们就仍在坚持开发并扩展自己的光刻机业务。 尼康 尼康的光刻机产品阵容比较全面,包括ArF浸没式扫描光刻机、ArF步进扫描光刻机、KrF扫描光刻机、i线步进式光刻机和FPD面板光刻机,基本涵盖了除EUV以外的主流光刻机
2022-11-24 07:10:033222

佳能发售面向后道工艺的3D技术i线半导体光刻机新产品

来源:佳能 通过100X100mm超大视场曝光 实现大型高密度布线封装的量产   佳能将于2023年1月上旬发售面向后道工艺的半导体光刻机新产品——i线※1步进式光刻机“FPA-5520iV LF2
2022-12-08 17:48:46982

同时实现大视场与高解像力曝光 佳能发布半导体***新品

来源:佳能 佳能于3月13日发售面向前道工序的半导体光刻机新产品----i线※1步进式光刻机“FPA-5550iX”,该产品能够同时实现0.5μm(微米※2)高解像力与50×50mm大视场曝光
2023-03-14 17:25:02599

日本佳能发布新型***

来源:中国半导体论坛 编辑:感知芯视界 Link 10月13日消息,日本佳能宣布推出新型光刻设备:FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备! 受此消息影响,纳米压印概念股午后走高,汇创达午后
2023-10-17 11:07:23230

可绕过EUV量产5nm!佳能CEO:纳米压印设备无法卖到中国!

虽然目前在光刻机市场,还有尼康和佳能这两大供应商,但是这两家厂商的产品主要都是被用于成熟制程芯片的制造,全球市场份额仅有10%左右,ASML一家占据了90%的市场份额,并垄断了尖端的EUV光刻机的供应。
2023-11-23 16:14:45486

佳能预计到2024年出货纳米压印光刻机

来源:DIGITIMES ASIA 佳能预计其纳米压印光刻机将于今年出货,与ASML的EVU设备竞争市场,因为世界各地的经济体都热衷于扩大其本土芯片产能。 佳能董事长兼首席执行官Hiroaki
2024-02-01 15:42:05270

纳米压印光刻技术应用在即,能否掀起芯片制造革命?

压印光刻技术NIL在这条赛道上备受关注,是最有机会率先应用落地的技术路线。   今年早些时候,根据英国金融时报的报道,负责监督新型光刻机开发的佳能高管武石洋明在接受采访时称,采用纳米压印技术的佳能光刻设备FPA-1200NZ2C目标最快在
2024-03-09 00:15:002918

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