第1届全国等离子体生物医学会议由西安交通大学发起的“第一届全国等离子体生物医学学术会议”于2024年3月15日-18日在西安成功举办。会议吸引了来自全国80余家高校、研究所、医院和企业的280
2024-03-22 08:01:18
22 
Aigtek诚邀您参会2024年3月15-17日，Aigtek安泰电子将携一众明星产品及专业测试解决方案亮相第一届全国等离子体生物医学学术会议。在此，我们诚邀您莅临会议参观、洽谈与观摩！-时间
2024-03-07 08:01:05182 现在对 2 个晶圆进行处理，为粘合做好准备。它们经过 N2 等离子体处理以激活表面。等离子处理改变了表面的特性，以增加表面能并使其更加亲水。
2024-03-06 11:31:03235 
pcb等离子处理的5大作用
2024-03-05 10:24:4897 浅析基于泛在电力物联网的智能电表设计与应用 张颖姣 安科瑞电气股份有限公司 上海嘉定 201801 摘要：智能电网出现后,无论是供电测还是用电侧,都会自然地走向万物互联,从而诞生出泛在电力物联网
2024-02-26 11:19:00126 
共读好书 陈婷 周伟洁 王涛 （无锡中微高科电子有限公司） 摘要： 研究了微波等离子工艺影响导电胶形貌的机理，进一步分析了等离子清洗次数对电路可靠性的影响。结果表明，对装片后的电路进行 1 次等离子
2024-02-20 13:37:16125 
等离子发动机原理： 等离子发动机是一种利用电磁力将离子加速并喷射出来产生推力的发动机。它主要包括等离子体产生器、离子加速器和喷嘴等组成。下面将详细介绍等离子发动机的工作原理。 生成等离子体：等离子
2024-02-14 18:18:003168 等离子显示器（Plasma Display Panel，简称PDP）是一种采用气体放电和发光材料发光的平板显示技术。与液晶显示器相比，等离子显示器拥有更高的对比度、更高的色彩饱和度和更快的响应速度
2024-02-03 10:00:17305 材料 去除的影响。重点综述了传统化学机械抛光技术中的游离磨料和固结磨料工艺以及化学机械抛光的辅助增效工艺。同时从工艺条件、加工效果、加工特点及去除机理 4 个方面归纳了不同形式的化学机械抛光技术，最后对碳化硅的化学 机械抛光技术的未来发展方向进行了展望，并对今后研究的侧重点提出了相关思路。
2024-01-24 09:16:36431 
最后的抛光步骤是进行化学蚀刻和机械抛光的结合，这种形式的抛光称为化学机械抛光(CMP)。首先要做的事是，将晶圆片安装在旋转支架上并且要降低到一个垫面的高度，在然后沿着相反的方向旋转。垫料通常是由一种
2024-01-12 09:54:06358 
传统的手工抛光打磨存在劳动强度高、抛光效果不稳定、难以处理复杂形状、安全风险和无法满足高质量要求等痛点。因此，应用工业机器人进行自动化表面精加工的技术随之崛起。
2024-01-11 11:03:37196 卧式离子风机是一种电子设备，用于消除静电。它采用交流型静电消除器技术，通过产生正负离子来中和物体表面的静电荷，从而达到消除静电的目的。卧式离子风机通常具有大风量、可调节风量等特点，适用于宽泛的消除
2024-01-05 16:07:37143 
——利用在基板上的金属薄膜中产生的表面波来散热，是一个重要的突破。 韩国科学技术学院（KAIST）宣布，机械工程系Bong Jae Lee教授的研究小组在世界上首次成功测量了沉积在基板上的金属薄膜中“表面等离子体激元”（surface pla
2024-01-03 15:32:39184 研磨CP+高分辨SEM离子研磨CP又叫氩离子抛光截面制样，原理利用离子束的高能量撞击材料表面,从而达到去除表面杂质、平整表面等目的。 离子研磨CP制样切割宽度约1000微米，深度约600微米。搭配
2024-01-02 17:08:51
智能传感器在半导体制造过程中的重要性不容忽视。精确测量和管理等离子体条件，是提高半导体良率和产量的关键。
2023-12-29 14:16:43125 CMP技术指的是在化学和机械的协同作用下，使得待抛光原料表面达到指定平面度的过程。化学药水与原料接触后，生成易于抛光的软化层，随后利用抛光垫以及研磨颗粒进行物理机械抛光，以清除软化层。
2023-12-28 15:13:06409 需要指出的是，CMP 技术通过化学与机械作用使得待抛光材料表面达到所需平滑程度。其中，抛光液中化学物质与材料表面发生化学反应，生成易于抛光的软化层。抛光垫和研磨颗粒则负责物理机械抛光，清除这一软化层。
2023-12-27 10:58:31335 
据悉，维持半导体生产过程中等离子体均匀性和密度的精细控制对于增强良率至关重要。三星新版智能传感器可深入挖掘每个环节如蚀刻、沉积及清洗的工艺效果，确保整个流程高度科学、高效。
2023-12-26 14:50:03444 01、重点和难点 等离子体通常被认为是物质的第四态，除了固体、液体和气体之外的状态。等离子体是一种高能量状态的物质，其中原子或分子中的电子被从它们的原子核中解离，并且在整个系统中自由移动。这种状态
2023-12-26 08:26:29209 
统的硅功率器件工艺中，高温扩散和离子注入是最主要的掺杂控制方法，两者各有优缺点。一般来说，高温扩散工艺简单，设备便宜，掺杂分布轮廓为等向性，且高温扩散工艺引入的晶格损伤低。离子注入工艺复杂且设备昂贵，但它可独立控制掺杂元素的浓度和结深，虽然也会给衬底引入大量的点缺陷和扩展缺陷。
2023-12-22 09:41:21698 
离子注入是一种重要的半导体工艺，用于在材料中引入离子，改变其物理和化学性质。离子注入仿真是对离子的注入过程进行建模和模拟，以帮助优化工艺参数并预测材料性能的变化。以下将详细介绍离子注入仿真的模型
2023-12-21 16:38:19256 01、重点和难点 在硅材料加工和研究领域，皮秒脉冲激光激发的等离子体对于提高加工技术、开发创新设备以及加深对材料物理特性的理解都有重大研究意义。这种影响尤其体现在硅材料表面等离子体形态变化的研究
2023-12-19 10:53:11236 
众所周知，化合物半导体中不同的原子比对材料的蚀刻特性有很大的影响。为了对蚀刻速率和表面形态的精确控制，通过使用低至25nm的薄器件阻挡层的，从而增加了制造的复杂性。本研究对比了三氯化硼与氯气的偏置功率，以及气体比对等离子体腐蚀高铝含量AlGaN与AlN在蚀刻速率、选择性和表面形貌方面的影响。
2023-12-15 14:28:30227 
技术提供了典型应用。蚀刻工艺对器件特性有着较大的影响，尤其是在精确控制蚀刻深度和较小化等离子体损伤的情况下影响较大。
2023-12-13 09:51:24294 
或分子的集合。等离子体态可以用在半导体工艺流程中的工艺气体方面，由于其高能量的特点，可以应用于高能射频(RF)领域。它们在半导体技术中作为激励源，用于引起气体混合物中的化学反应。它们的优点之一是可以以更低的温度来输送能量，比传统的系统，如烤箱的对流加热温度要更低。
2023-12-08 09:47:18232 
光捕获技术是提高太阳能电池光吸收率的有效方法之一，它可以减少材料厚度，从而降低成本。近年来，表面等离子体（SP）在这一领域取得了长足的进步。利用表面等离子体的光散射和耦合效应，可以大大提高太阳能电池的效率。
2023-12-05 10:52:27497 
CMP（Chemical Mechanical Polishing）即“化学机械抛光”，是为了克服化学抛光和机械抛光的缺点
2023-12-05 09:35:19416 
本文将详细分析国产固态光耦的优势和其在产品工程中的重要作用。
2023-11-30 11:30:01201 高压放大器在等离子体实验中有多种重要应用。等离子体是一种带电粒子与电中性粒子混合的物质，其具有多种独特的物理性质，因此在许多领域具有广泛的应用，例如聚变能源、等离子体医学、材料加工等。下面安泰电子将介绍高压放大器在等离子体实验中的应用。
2023-11-27 17:40:00189 
一种使用等离子体激元的新型成像技术能够以增强的灵敏度观察纳米颗粒。休斯顿大学纳米生物光子学实验室的石伟川教授和他的同事正在研究纳米材料和设备在生物医学、能源和环境方面的应用。该小组利用等离子
2023-11-27 06:35:23121 磁场辅助激光加工技术是利用磁场约束激光加工诱导的等离子体，致使等离子体沿磁场方向膨胀，其余方向受压缩，因而等离子体的密度会很低，大大削弱了屏蔽效果，使更多的激光能量能够穿透材料。
2023-11-23 15:03:11301 化学机械抛光（CMP）是目前最主流的晶圆抛光技术，抛光过程中，晶圆厂会根据每一步晶圆芯片平坦度的加工要求，选择符合去除率（MRR）和表面粗糙度（Ra）等指标要求的抛光液，来提高抛光效率和产品良率。
2023-11-16 16:16:35212 在芯片制程中，很多金属都能用等离子的方法进行刻蚀，例如金属Al，W等。但是唯独没有听说过干法刻铜工艺，听的最多的铜互连工艺要数双大马士革工艺，为什么？
2023-11-14 18:25:332613 
电子发烧友网站提供《锂离子电池工艺流程.pdf》资料免费下载
2023-11-13 09:27:23
7 近日，深圳技术大学阮双琛教授和周沧涛教授团队在国际上首次提出基于超光速等离子体尾波场产生阿秒脉冲、亚周期相干光激波辐射的物理方案，并阐释了一种由电子集体作用主导的全新相干辐射产生机制。
2023-11-09 10:40:40307 
近年来，铜(Cu)作为互连材料越来越受欢迎，因为它具有低电阻率、不会形成小丘以及对电迁移(EM)故障的高抵抗力。传统上，化学机械抛光(CMP)方法用于制备铜细线。除了复杂的工艺步骤之外，该方法的一个显著缺点是需要许多对环境不友好的化学品，例如表面活性剂和强氧化剂。
2023-11-08 09:46:21188 
电子发烧友网站提供《太阳能电池晶体硅光伏组件封装浅析(工艺控制篇).doc》资料免费下载
2023-11-03 10:21:411 电子发烧友网站提供《智能照明控制设计原则浅析.doc》资料免费下载
2023-11-03 09:40:020 电子发烧友网站提供《浅析智能家居照明系统工作原理及应用.pdf》资料免费下载
2023-11-02 11:23:560 众所周知，倾斜光纤光栅可以激发众多的包层模式，并且对光纤表面周围环境敏感。当光纤包层模式与表面等离子共振相位匹配时，倾斜光纤光栅可以在金表面激发倏逝表面等离子体共振波。
2023-10-20 15:48:08330 
等离子体工艺是干法清洗应用中的重要部分，随着微电子技术的发展，等离子体清洗的优势越来越明显。文章介绍了等离子体清洗的特点和应用，讨论了它的清洗原理和优化设计方法。最后分析了等离子体清洗工艺的关键技术及解决方法。
2023-10-18 17:42:36447 
干法蚀刻（dry etch）工艺通常由四个基本状态构成：蚀刻前（before etch），部分蚀刻（partial etch），蚀刻到位（just etch），过度蚀刻（over etch），主要表征有蚀刻速率，选择比，关键尺寸，均匀性，终点探测。
2023-10-18 09:53:19788 
焊线连接：工艺通过使用氩离子进行物理撞击，移除基材上的微量污染和氧化物。这种工艺对于解决焊线接合力不足是一种非常有效的途径。主要优点包括焊线接合力具有显著的增长。焊线过程中对于设备输出压力值的需求降低可以提高生产能力。
2023-10-16 10:24:22799 
等离子表面处理机在PCB制程中扮演了关键的角色，它有助于提高了电路板的质量、可靠性和性能。这对于电子制造和各种应用中的PCB制程都非常重要。
2023-10-05 09:53:47384 
基于电池供电的等离子打火机。制作新奇打印方式的等离子打印机！包含相关图文说明、代码、线路图
2023-09-22 07:54:27
为了提高等离子消融手术系统的频率输出,提出一种新型的全桥拓扑结构。应用LCR谐振原理,对传统的全桥逆变拓扑结构进行改进,当谐振电路工作在恰当的区域可以实现开关管的零电压的开通和近似零电压的关断,能
2023-09-20 07:38:22
纳米级[1] 。传统的平面化技术如基于淀积技术的选择淀积、溅射玻璃 SOG、低压 CVD、等离子体增强 CVD、偏压溅射和属于结构的溅射后回腐蚀、热回流、淀积 —腐蚀 —淀积等 , 这些技术在 IC
2023-09-19 07:23:03
背景 Adi Salomon 教授的实验室主要致力于了解纳米级分子与光的相互作用，并构建利用光传感分子的设备。该小组设计并制造了金属纳米结构，并利用它们通过与表面等离子体激元的相互作用来影响纳米级
2023-09-19 06:28:29223 
近年来，除了锂离子电池，可充电的多价离子电池-镁离子电池吸引起了越来越多的关注。与锂离子电池相比，镁离子电池具有更高的材料丰富度、更安全、成本更低的优势。
2023-09-02 09:08:04666 
在晶硅太阳能电池的生产过程中，离子注入是一项非常重要的工艺，它可以大幅度提高光电转换率，实现在应用中的精益有效。「美能光伏」作为一家具有众多检测电池和组件性能设备的光伏企业，拥有的美能傅里叶红外光
2023-08-29 08:35:56376 
光学加工是一个非常复杂的过程。难以通过单一加工方法加工满足各种加工质量指标要求的光学元件。平面抛光机的基础是加工材料的微去除。实现这种微去除的方法包括研磨加工、微粉颗粒抛光和纳米材料抛光。根据
2023-08-28 08:08:59355 
来自斯图加特大学(德国)的 Harald Gießen 教授的团队正在致力于将光子学和纳米技术用于新的应用和设备。研究人员正在研究通过控制等离子体效应来创建显示器的技术。等离激元学研究光与金属纳米
2023-08-23 06:33:33215 
等离子体显示器在对比度、视角和响应速度等方面的优势较为显著，适合用于娱乐和家庭影院等方面；而液晶显示器则在功耗、分辨率和便携性等方面有一定的优势，适合办公和移动设备等领域。选择时，可以根据使用需求和个人偏好来进行选择。
2023-08-10 14:38:36766 可靠、高感官、高智能、高心意、高掌控”的“五高”核心优势，追求极简魔力的智能化；2023年5月，华为全屋智能4.0带来了业界首款空间穿越屏智能中控屏S2、交互家族新朋友智能MINI，以及全新升级的智慧
2023-08-09 17:14:34
20世纪60年代以前，半导体基片抛光还大都沿用机械抛光，得到的镜面表面损伤是极其严重的。1965年Walsh和Herzog提出SiO2溶胶和凝胶抛光后，以SiO2浆料为代表的化学机械抛光工艺就逐渐代替了以上旧方法。
2023-08-02 10:48:407522 
在常规离子注入中，三氟化硼常用于形成P型浅结的注入不是B,因为BF2+离子大且重。B10H14,B18H22和硼烷（C2B10&或CBH）是研究中的大分子。
2023-07-21 10:18:571397 
CMP 主要负责对晶圆表面实现平坦化。晶圆制造前道加工环节主要包括7个相互独立的工艺流程：光刻、刻蚀、薄膜生长、扩散、离子注入、化学机械抛光、金属化 CMP 则主要用于衔接不同薄膜工艺，其中根据工艺
2023-07-18 11:48:183029 
。 放电等离子烧结(Spark Plasma Sintering,简称SPS)工艺是将金属等粉末装入石墨等材质制成的模
2023-07-16 23:06:19
智能监控离子风机是一种利用离子技术进行空气净化和调节的设备。它通过释放负离子来吸附空气中的灰尘、细菌、病毒等有害物质，有效中和静电。 智能监控离子风机一般具有以下功能： 1. 空气检测与监控：通过
2023-07-14 10:11:17287 
行业简介：微弧氧化(MAO)又称微等离子体氧化(MPO)、阳极火花沉积(ASD)或火花放电阳极氧化(ANOF),还有人称之为等离子体增强电化学表面陶瓷化(PECC)。该技术的基本原理及特点是：在普通
2023-07-11 14:27:42
臭氧-去离子水 (O3 -DI) 工艺可以集成到臭氧 (O3) 具有工艺优势的各种水性应用中。 溶解在水中的臭氧也可用作 HCl 过氧化物混合物中过氧化氢的替代品，从而降低所用化学品的成本，同时
2023-07-07 17:25:07162 上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 KDC 40 应用于双腔室高真空等离子 ALD 系统, 实现小规模试验中 2-4 英寸硅片等半导体衬底表面的清洁, 确保样品表面清洁无污染, 满足 TiN, ZnO, Al2O3, TiO2 等制备.
2023-07-07 14:55:44439 
掺杂物的种类、结深与掺杂物浓度是离子注入工艺的最重要因素。掺杂物种类可以通过离子注入机的质谱仪决定，掺杂物浓度由离子束电流与注入时间的乘积决定。四点探针是离子注入监测中最常使用的测量工具，可以测量
2023-07-07 09:51:172238 
智能离子风棒联网监控静电消除器是一种结合了智能技术和离子风棒技术的设备。其主要作用是消除静电，并通过联网监控系统实时获取设备的运行状态和效果。 智能离子风棒采用离子发生器产生负离子，并通过风机
2023-07-07 09:43:26386 
)、刻蚀(Etch)、离子注入(Ion Implant)、薄膜生长(Dielectric Deposition)、抛光
2023-07-03 09:16:46649 离子注入机是芯片制造中的关键装备。在芯片制造过程中，需要掺入不同种类的元素按预定方式改变材料的电性能，这些元素以带电离子的形式被加速至预定能量并注入至特定半导体材料中，离子注入机就是执行这一掺杂工艺的芯片制造设备。
2023-06-30 16:41:19412 根据制造工艺分类，半导体硅片主要可以分为抛光片、外延片与以SOI硅片为代表的高端硅基材料。单晶硅锭经过切割、研磨和抛光处理后得到抛光片。抛光片经过外延生长形成外延片，抛光片经过氧化、键合或离子注入等工艺处理后形成SOI硅片。
2023-06-27 14:34:383725 
随着集成电路互连线的宽度和间距接近3pm，铝和铝合金的等离子体蚀刻变得更有必要。为了防止蚀刻掩模下的横向蚀刻，我们需要一个侧壁钝化机制。尽管AlCl和AlBr都具有可观的蒸气压，但大多数铝蚀刻的研究
2023-06-27 13:24:11318 
近日，Nano Letters（《纳米快报》）在线发表武汉大学高等研究院梁乐课题组和约翰霍普金斯大学Ishan Barman课题组关于高效构建等离子增强NV色心的纳米器件研究进展，他们利用自下向上的DNA自组装方法开发了一种混合型独立式等离子体纳米金刚石
2023-06-26 17:04:52396 
电抛光smt钢网是什么工艺，它与其他smt钢网相比有哪些优点呢，今天我们为大家做深入的讲解，希望帮助大家在选购适合自己工厂真正需要的smt钢网。
2023-06-19 10:17:44568 交流电源板过载防护高电压气体放电管 气体放电管- GDT /气体等离子体避雷器 2R3600ML5 Gas Discharge
2023-06-14 17:30:02
之前讲锂离子电池适合用于UPS的原因时，只是简略的叙述了一下锂离子电池的一些优势，下面就让我们来更详细的了解一下，锂离子电池与铅酸蓄电池相比到底好在什么地方。
2023-06-12 17:00:39738 阱区注入的工艺说明如下图所示，是高能量离子注入过程，因为它需要形成阱区建立MOS晶体管。NMOS晶体管形成于P型阱区内，而P型晶体管形成于N型阱区。
2023-06-09 11:31:083889 
在现代工业中，表面加工是至关重要的一环。为了达到所需的表面粗糙度、光洁度和平整度等要求，往往需要进行抛光处理。
2023-06-08 11:13:552652 
离子束辅助沉积 (IBAD) 是一种薄膜沉积技术，可与溅射或热蒸发工艺一起使用，以获得具有出色工艺控制和精度的最高质量薄膜。
2023-06-08 11:10:22980 
当质谱仪选择了所需的离子后，离子将进入后段加速区域，射束电流与最后的离子能量被控制在该区内，离子束电流利用可调整的叶片控制，而离子能量则由后段加速电极的电位控制。
2023-06-04 16:38:261180 
使用化学机械抛光(CMP)方法对碳化硅晶片进行了超精密抛光试验，探究了滴液速率、抛光头转 速、抛光压力、抛光时长及晶片吸附方式等工艺参数对晶片表面粗糙度的影响，并对工艺参数进行了优化，最终 得到了表面粗糙度低于0.1 nm的原子级光滑碳化硅晶片。
2023-05-31 10:30:062212 
高压直流电源用于加速离子，大约为200kV的DC电源供应系统被装配在注入机内。为了通过离子源产生离子，需要用热灯丝或射频等离子体源。热灯丝需要大电流和几百伏的供电系统，然而一个射频离子源需要大约
2023-05-26 14:44:171356 
金属银镀PTFE涂层等离子处理是指在金属镀银进行PTFE涂层，并在PTFE涂层上进行等离子处理的一种表面处理技术。该技术可以使金属表面具有一定的耐腐蚀性、耐磨性和耐高温性，同时还可以提高金属表面的润滑性和粘附性。
2023-05-25 15:54:14513 
上海伯东客户某高校使用国产品牌离子束溅射镀膜机用于金属薄膜制备, 工艺過程中, 国产离子源钨丝仅使用 18个小时就会烧断, 必须中断镀膜工艺更换钨丝, 无法满足长时间离子束溅射镀膜的工艺要求, 导致
2023-05-25 15:53:36770 
为了形成高密度等离子体，需要有激发混合气体的射频（RF）源，并直接使高密度等离子体到达硅片表面。在HDP-CVD反应腔中，主要是由电感耦合等离子体反应器（ICP）来产生并维持高密度的等离子体。当射频电流通过线圈（coil）时会产生一个交流磁场
2023-05-22 15:47:373156 
PTFE表面等离子改性是一种有效的技术手段，可以改变PTFE表面的性质，增加其在各个领域的应用。通过引入亲水基团、改善表面形貌、形成致密的氟化物膜等方式，可以提高PTFE表面的粘附性、润湿性、抗腐蚀性、耐磨性、生物相容性和电性能。
2023-05-19 10:45:39628 
在天体物理学中，有许多天体都具有强大的磁场，例如恒星、行星和黑洞。这些天体周围通常有大量的等离子体，例如恒星风、行星际介质和吸积盘。
2023-05-17 09:24:16452 DPC（DirectPlatingCopper）薄膜工艺是一种利用磁控溅射技术制备铜薄膜的方法。该工艺是将目标材料为铜的铜靶放置在真空腔室中，通过磁控溅射技术使得铜靶表面产生等离子体，利用等离子体中的离子轰击靶表面，将其溅射成细小颗粒并沉积在基底上形成铜薄膜的过程。
2023-05-11 17:38:18843 因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准射频等离子体源 RF2100ICP Plasma Source上海伯东代理美国 KRi 考夫
2023-05-11 14:57:22
芯片等离子活化技术是一种物理处理技术，通过改变材料表面的化学性质、物理性质和机械性能，实现对材料的表面处理和改性。芯片等离子活化技术具有处理效率高、处理精度高、无需添加剂、处理后材料性能稳定和应用范围广泛等优势。
2023-05-06 10:44:50651 
智能联网感测型离子风机STC-801GML-CC是新产品，在各项性能指标上可以和进口产品相媲美，完全可以替代进口离子风机，那么它有哪些特点呢？接下来为您详细介绍一下。
2023-05-05 16:15:43260 
通过金徕等离子体处理，可以提高金属表面的活性，改善金属表面的结合力、增强涂层附着力等性质，使得金属制品的质量和性能得到明显的改善和提升。此外，等离子体处理还可以改善金属表面的光洁度，使得金属表面更加平整光滑。
2023-05-05 10:51:23525 
一、自动抛光机的抛光效果因素自动抛光机的抛光效果取决于多个因素，除了自动抛光机本身的质量以外，还包括使用工艺、选用什么样的抛光辅料，要抛光物件材质，操作者的经验技术等，在条件都合适的情况下，自动
2023-05-05 09:57:03535 (6~10mm)、温度漂移等问题,无法满足发动机复杂机械内部非定常测量的需要。而在对新技术的探索中,等离子体技术由于其有着许多先天优势而引起了研究者们的关注，如其理论上有着高频率响应的特性、不受热惯性的限制、基于等离子体原理的探针结构尺寸小,可达毫米尺度。因此认为其具有十分优秀的发展潜力，有望突破高温高
2023-04-19 15:29:42260 
书籍：《炬丰科技-半导体工艺》 文章：III-V族化学-机械抛光工艺开发 编号：JFKJ-21-214 作者：炬丰科技 摘要 III-V材料与绝缘子上硅平台的混合集成是一种很有前景的技术
2023-04-18 10:05:00151 
压力主要控制刻蚀均匀性和刻蚀轮廓，同时也能影响刻蚀速率和选择性。改变压力会改变电子和离子的平均自由程(MFP),进而影响等离子体和刻蚀速率的均匀性。
2023-04-17 10:36:431922 半导体材料和半导体器件在世界电子工业发展扮演的角色我们前几天已经聊过了。而往往身为使用者的我们都不太会去关注它成品之前的过程，接下来我们就聊聊其工艺流程。今天我们来聊聊如何从原材料到抛光晶片的那些事儿。
2023-04-14 14:37:502034 
设备所替代。 自动化抛光设备一般是针对特定工艺特定工件而设计的非标设备，可以进行高效率的抛光打磨工作，常见的设备便是工业机器人。物通博联工业智能网关可以采集各类打磨抛光设备、工业机器人内的控制器PLC数据，将各
2023-04-14 10:21:59337 
全硅等离子体色散效应环形谐振器调制器具有诱人的发展前景。然而，其性能目前受限于调制深度和开关速度之间的权衡。
2023-04-12 09:12:121594 大家目前对于等离子光谱仪的普遍使用早已见怪不怪了，这种相对来说较为细致的设备是一定要尽早的实施维修保养的，否则很容易就没办法运用或者机械设备产生情况，下面大家一起来看看等离子光谱仪需要进行哪种
2023-04-07 07:37:42124 
导读： 屏(也叫面板)，是等离子电视最重要的部件，占整机成本的六、七成。屏的好坏，直接决定着平板电视的优劣。目前世界上只有韩国LG、三星和日本的松下等少数厂商具备等离子屏的生产能力，其中LG的A3生产线被公认为最先进的等离子生产线。很大程度上，等离子电视的选择就是等离子屏的选择。
2023-03-30 15:56:10452 尤为重要了。 1：工业除静电离子风嘴的原理 工业除静电离子风嘴是一种高科技产品，它通过高压电场作用于材料表面，使其电离从而达到除尘的目的。常见的等离子体有CFO、PLAM-SINK及VESD等几种。高压电击产生巨大能量，能够将不良电荷中
2023-03-29 09:35:52367 
2RM3600A6L2 气体放电管- GDT /气体等离子体避雷器3600Discharge 2-Electrode Arrester 5.5*6 直流击穿电压3600V气体
2023-03-27 17:04:09
电子发烧友App
工商网监
评论