全球首颗2nm芯片 美国联合三星突破2nm芯片
早在2021年5月份美国的IBM公司就成功研制出2nm芯片的制造技术，2nm芯片的产生也预示着半导体行业朝着一个更高的水平发展。
据了解2nm芯片的工艺制程采用环绕栅极晶体管 （GAAFET）技术，这也是IBM首次使用底介电隔离通道，将2nm工艺与5nm相对比下，2nm的体积会更小，内含有500亿个晶体管，在处理速度上得到高速提升。
2nm工艺在综合方面也优于7nm，在性能方面提升了45%，但在耗能方面则下降了75%。
至于三星也会尝试将GAAFET技术先布局在未来3nm工艺上，这也意味着从现在到2025年这三年时间三星将独享此种技术工艺，这也成为了三星抢占芯片市场的重要机会。
综合品阅网整合
审核编辑：郭婷
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