0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

二氧化硅层在芯片中有何作用

工程师邓生 来源:xpw432、yeumgixun、sedic 作者:xpw432、yeumgixun、 2021-12-21 15:30 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

二氧化硅它是属于光纤的主要制作材料,属于光波导,不属于半导体也不属于导体,导体就是我们通常所说的电导体。其二氧化硅膜可以制作成一种集成电路器件。

二氧化硅在晶体管和集成电路中主要作杂质扩散的掩蔽膜和保护层。二氧化硅在集成电路制作的过程中,可以阻止杂质扩散。

二氧化硅主要的作用是隔离( isolation),例如在mos和mos之间,metal和metal之间的隔离就需要二氧化硅。

另外就是IC生产过程中的imp blocking.

本文综合整理自xpw432、yeumgixun、sedic

审核编辑:刘清

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 芯片
    +关注

    关注

    462

    文章

    53534

    浏览量

    459018
  • 集成电路
    +关注

    关注

    5446

    文章

    12465

    浏览量

    372674
  • 晶体管
    +关注

    关注

    78

    文章

    10250

    浏览量

    146254
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    为什么LED芯片正电极要插入二氧化硅电流阻挡,而负极没有?

    为什么LED正电极需要二氧化硅阻挡?回答:LED芯片正极如果没有二氧化硅阻挡芯片会出现电流
    的头像 发表于 07-14 17:37 834次阅读
    为什么LED<b class='flag-5'>芯片</b>正电极要插入<b class='flag-5'>二氧化硅</b>电流阻挡<b class='flag-5'>层</b>,而负极没有?

    晶圆背面二氧化硅边缘腐蚀的原因

    集成电路生产过程中,晶圆背面二氧化硅边缘腐蚀现象是一个常见但复杂的问题。每个环节都有可能成为晶圆背面二氧化硅边缘腐蚀的诱因,因此需要在生产中严格控制每个工艺参数,尤其是对边缘区域的处理,以减少这种现象的发生。
    的头像 发表于 07-09 09:43 629次阅读

    芯片制造中解耦等离子体氮化工艺流程

    5纳米以下的芯片制程中,晶体管栅极介质的厚度已缩至1纳米以下(约5个原子)。此时,传统二氧化硅(SiO₂)如同漏水的薄纱,电子隧穿导致
    的头像 发表于 06-12 14:11 2175次阅读
    <b class='flag-5'>芯片</b>制造中解耦等离子体氮化工艺流程

    主流氧化工艺方法详解

    集成电路制造工艺中,氧化工艺也是很关键的一环。通过硅晶圆表面形成二氧化硅(SiO₂)薄膜,不仅可以实现对硅表面的保护和钝化,还能为后续的掺杂、绝缘、隔离等工艺提供基础支撑。本文将对
    的头像 发表于 06-12 10:23 1901次阅读
    主流<b class='flag-5'>氧化</b>工艺方法详解

    VirtualLab Fusion应用:氧化硅的可变角椭圆偏振光谱(VASE)分析

    VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器二氧化硅(SiO2)涂层上的使用。对于系统的参数,我们参考Woollam等人的工作 \"可变角度椭圆偏振光谱仪(VASE)概述。I.
    发表于 06-05 08:46

    氧化制备芯片制造中的重要作用

    本文简单介绍了氧化制备芯片制造中的重要作用
    的头像 发表于 05-27 09:58 1157次阅读
    <b class='flag-5'>氧化</b><b class='flag-5'>层</b>制备<b class='flag-5'>在</b><b class='flag-5'>芯片</b>制造中的重要<b class='flag-5'>作用</b>

    呼气末二氧化碳监测中的传感器应用

    01呼气末二氧化碳呼气末二氧化碳(ETCO2)是指呼气终末期呼出的混合肺泡气体中含有的二氧化碳压(PETCO2)或二氧化碳浓度(CETCO2),已经被认为是除体温、脉搏、呼吸、血压、动
    的头像 发表于 05-19 13:20 730次阅读
    呼气末<b class='flag-5'>二氧化</b>碳监测中的传感器应用

    二氧化碳光声传感技术

    室内CO2浓度高通常是人类存在的结果。我们的身体吸入氧气并排放二氧化碳,如果环境通风不畅,二氧化碳会在室内积聚。而且,现代建筑密集的隔热间接导致二氧化碳的增加。例如,减少消耗和加热或
    的头像 发表于 05-19 13:19 681次阅读
    <b class='flag-5'>二氧化</b>碳光声传感技术

    芯片制造中的二氧化硅介绍

    二氧化硅芯片制造中最基础且关键的绝缘材料。本文介绍其常见沉积方法与应用场景,解析SiO₂栅极氧化、侧墙注入、STI隔离等核心工艺中的重要作用
    的头像 发表于 04-10 14:36 4016次阅读
    <b class='flag-5'>芯片</b>制造中的<b class='flag-5'>二氧化硅</b>介绍

    Low-K材料芯片中作用

    Low-K材料是介电常数显著低于传统二氧化硅(SiO₂,k=3.9–4.2)的绝缘材料,主要用于芯片制造中的间电介质(ILD)。其核心目标是通过降低金属互连线间的寄生电容,解决RC延迟(电阻-电容延迟)和信号串扰问题,从而提升
    的头像 发表于 03-27 10:12 3487次阅读
    Low-K材料<b class='flag-5'>在</b><b class='flag-5'>芯片中</b>的<b class='flag-5'>作用</b>

    矿井下的“隐形守护者”:解码矿用二氧化碳传感器

    在数百米深的地层之下,煤炭开采的轰鸣与矿工们的汗水交织成独特的工业交响曲。而在这幽暗的巷道中,一种看不见的气体——二氧化碳,正悄然威胁着矿工们的生命安全。据统计,我国煤矿每年因有害气体导致的安全事故
    的头像 发表于 03-24 18:22 674次阅读

    VirtualLab Fusion应用:氧化硅的可变角椭圆偏振光谱(VASE)分析

    VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器二氧化硅(SiO2)涂层上的使用。对于系统的参数,我们参考Woollam等人的工作 \"可变角度椭圆偏振光谱仪(VASE)概述。I.
    发表于 02-05 09:35

    OptiFDTD应用:用于光纤入波导耦合的硅纳米锥仿真

    转换器。[2] 锥形耦合器可以是线性[1]或抛物线性[2]过渡。 选择Silicon-on-insulator(SOI)技术作为纳米锥和波导的平台,因为它提供高折射率比,包括二氧化硅作为光学缓冲器
    发表于 01-08 08:51

    红外 CO2(二氧化碳) 气体传感器和分析模组

    随着科技的进步,人们对于生活以及身体健康关注越来越高。CO2(二氧化碳)是地球大气的重要组成部分,与人类生活息息相关。关注CO2(二氧化碳)气体,监测CO2(二氧化碳)气体至关重要。CO2(
    的头像 发表于 01-07 17:01 1113次阅读
    红外 CO2(<b class='flag-5'>二氧化</b>碳) 气体传感器和分析模组

    OptiFDTD应用:用于光纤入波导耦合的硅纳米锥仿真

    转换器。[2] 锥形耦合器可以是线性[1]或抛物线性[2]过渡。 选择Silicon-on-insulator(SOI)技术作为纳米锥和波导的平台,因为它提供高折射率比,包括二氧化硅作为光学缓冲器
    发表于 12-11 11:27