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为超越台积电,三星将在美国新建晶圆工厂

我快闭嘴 来源:创投时报 作者:谛林 2021-02-18 17:11 次阅读
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日前根据媒体报道,台积电为了赶进度、要求建造商加班赶工,在春节期间支付额外的奖金,用于激励3nm新建工程的建设。据了解,这是由于台积电有3nm进入量产时,月产12英寸晶圆超60万片的目标。

此外,台积电还计划在美国建设工厂。同时台积电更是透露出,准备在日本设立全资子公司的计划,并为此斥资1.86亿美元。

由此可见,台积电正在想方设法提升产能,以应对接下来全球范围内愈发严重的晶圆紧缺状况。值得一提的是,在台积电努力扩大产能、提升自身实力的同时,一位台积电的老对手也没有闲着。

美国得克萨斯州官方文件显示,韩国科技巨头——三星电子,正在考虑将晶圆工厂建在奥斯汀市。

此外,该文件还显示,三星电子此次在美国建设的工厂,总投入约为170亿美元,并将为当地创造1800个工作岗位。

而在2020年,台积电在美国亚利桑那州建设的晶圆厂,总投资为120亿美元。这座新工厂计划在2024年实现量产。

而三星在美国建设的新晶圆厂,投入比台积电美国工厂多了50亿美元。据文件透露,三星电子的美国工厂计划2021年第二季度破土动工,预计2023年第三季度就能投入运营。

显然,同为世界级巨头的三星,并不甘心屈居台积电之后,做一个“万年老二”。

自2020年以来,三星电子就一直在实施赶超台积电的计划。公司先是官宣3nm工艺将于2022年实现量产,在工艺研发进度上追平台积电;然后又追随台积电的步伐,尽可能提升产能。

据笔者了解,为了追上台积电,三星甚至曾“威胁”ASML,要求后者必须向三星电子供应一定数量的EUV光刻机

众所周知,随着芯片制程的萎缩,晶圆代工厂需要的高端光刻机数量也越来越多。但荷兰巨头ASML的年产能有限,这就导致台积电和三星势必要斥巨资争夺稀有的EUV光刻机。

相比之下,计划在3nm工艺上使用GAA新技术的三星电子,更需要数量充足的EUV光刻机。

但就目前来看,台积电方面获得的EUV光刻机数量更多。而且,台积电在3nm工艺上,依旧保守采用FinFET工艺。

在你看来,三星能否成功在2022的时间节点上超越台积电?
责任编辑:tzh

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