0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

ASML凭什么称霸光刻机市场

半导体动态 来源:OFweek电子工程网 作者:OFweek电子工程网 2020-03-17 15:25 次阅读
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

近日,荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)公司2019年的年报中披露了关于下一代EUV极紫光刻机的研发进程,预计2022年年初开始出货,2024年实现大规模生产。

新一代EUV光刻机分辨率提升70%

据悉,新一代EUV光刻机EXE:5000系列,NA(数值孔径)为0.55,NA大小则代表了光刻机的精度高低,NA数值越大,光刻机精度更高。

现在ASML生产的EUV光刻机都是第一代产品,主要是NXE:3400B和改进型的NXE:3400C,两者结构相似,物镜系统的NA(数值孔径)为0.33。这意味着新一代EUV光刻机分辨率相比前一代提升了70%左右,可以进一步提升精度。

ASML的EXE:5000系列EUV光刻机主要面向3nm时代,目前台积电和三星已经开始积极量产5nm工艺芯片,3nm工艺制程路线图也早早就开始了布局,要想让技术尽快落地,EXE:5000系列EUV光刻机的研发极为重要。

内外兼修,ASML称霸光刻机市场名副其实

光刻机是芯片制造的核心设备之一,也是世界上最复杂的精密设备之一。光刻机的制造和维护需要高度的光学和电子工业基础,能够掌握这项技术的厂商寥寥无几,目前比较知名的光刻机厂商有尼康、佳能、ABM、欧泰克、上海微电子装备、SUSS等,但是在顶级光刻机领域,却唯有ASML一家独大。

ASML可谓出身名门,原本是荷兰著名的电器制造商飞利浦公司半导体部门拆分出来的独立公司,1995年公司在 NASDAQ与阿姆斯特丹交易所上市, 2001年更名为 ASML。

名门背景只是ASML成功的小部分原因,真正能让ASML与世界上那么多半导体巨头捆绑在一起,还要提起ASML一项特殊的规定。这项规定就是,首先要先投资ASML,才能够成为ASML的客户,获得优先供货权。这项规定看着奇怪,但却异常有效,也许是为了避免自己在日后的半导体大战中落后,世界各地半导体巨头纷纷注资,包括英特尔、三星、台积电、海力士等,都在ASML中占据了相当可观的股份。

正如金庸老爷子笔下“内外兼修”的武林高手一般,ASML除了外在资本支持以外,自身也走出了一条并购逆袭的道路:

2000年,ASML收购了美国光刻机厂商SVGL,市场份额反超佳能,跃升至37%,直追尼康;

2012年,ASML斥资25亿美元(约合人民币174.87亿元),收购了全球知名准分子激光器厂商Cymer,以此加强光刻机光源设备及技术;

2016年,ASML斥资1000亿新台币(约合人民币219.34亿元)收购了***半导体设备厂商汉微科,为公司提供了先进的电子束晶圆检测设备及技术;

2016年ASML以10亿欧元(约合人民币7.82亿元)收购了德国卡尔蔡司子公司24.9%的股份,加强自身微影镜头技术;

2019年,ASML再次宣布,收购其竞争对手光刻机制造商Mapper。

回顾ASML浩浩荡荡的收购史,终让其成为光刻机设备王者。实际上,ASML的成功不仅仅是自身努力的结果,更是多个企业、多个国家共同努力的结果,ASML的成功也代表了数个国家的成功。

根据2019年ASML财报数据显示,ASML在2019年共交付26套EUV光刻机,占净系统销售额的31%,约27.89亿欧元(约214.26亿人民币),净销售额为118.2亿欧元(约907.3亿人民币),同比增长8%;净利润为25.92亿欧元(约198.9亿人民币),同比维持不变。光刻机作为一个高精尖技术的集合体,对于各大厂商来说其背后所能产生的价值绝对远高于此。

这些年来,国内也在积极布局光刻机设备研发,如上海微电子、中电科四十五所、中电科四十八所等,都已经成功研制出了光刻机产品。但是想达到国际一流的光刻机水平,面临的挑战太多、太难,差距不是一星半点。但是我们依然努力相信,未来国内的光刻机产业也能够给国人带来更多好消息。
责任编辑:wv

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1196

    浏览量

    48730
  • ASML
    +关注

    关注

    7

    文章

    734

    浏览量

    43341
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二维码

扫码添加小助手

加入工程师交流群

    评论

    相关推荐
    热点推荐

    俄罗斯亮剑:公布EUV光刻机路线图,挑战ASML霸主地位?

      电子发烧友网报道(文/吴子鹏) 在全球半导体产业格局中,光刻机被誉为 “半导体工业皇冠上的明珠”,而极紫外(EUV)光刻技术更是先进制程芯片制造的核心。长期以来,荷兰 ASML 公司几乎垄断
    的头像 发表于 10-04 03:18 9378次阅读
    俄罗斯亮剑:公布EUV<b class='flag-5'>光刻机</b>路线图,挑战<b class='flag-5'>ASML</b>霸主地位?

    AI需求飙升!ASML光刻机直击2nm芯片制造,尼康新品获重大突破

    *1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板级封装(FOPLP)技术为何会获得台积电、三星等代工大厂的青睐?比较传统的光刻机设备,尼康DSP-100的技术原理有何不同?能解决AI芯片生产当中的哪些痛点问题? 针对2nm、3nm芯片制造难题,光刻机龙头企业
    的头像 发表于 07-24 09:29 7246次阅读
    AI需求飙升!<b class='flag-5'>ASML</b>新<b class='flag-5'>光刻机</b>直击2nm芯片制造,尼康新品获重大突破

    国产高精度步进式光刻机顺利出厂

    近日,深圳稳顶聚芯技术有限公司(简称“稳顶聚芯”)宣布,其自主研发的首台国产高精度步进式光刻机已成功出厂,标志着我国在半导体核心装备领域取得新进展。 此次稳顶聚芯出厂的步进式光刻机属于WS180i
    的头像 发表于 10-10 17:36 734次阅读

    光刻机实例调试#光刻机 #光学 #光学设备

    光刻机
    jf_90915507
    发布于 :2025年08月05日 09:37:57

    ASML官宣:更先进的Hyper NA光刻机开发已经启动

    电子发烧友网综合报道,日前,ASML 技术高级副总裁 Jos Benschop 表示,ASML 已携手光学组件独家合作伙伴蔡司,启动了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻机开发。这一举措标志着
    发表于 06-29 06:39 1820次阅读

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而电子束聚焦后
    发表于 05-07 06:03

    成都汇阳投资关于光刻机概念大涨,后市迎来机会

    【2025年光刻机市场的规模预计为252亿美元】 光刻机作为半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之一,其在半导体制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市场
    的头像 发表于 04-07 09:24 1136次阅读

    不只依赖光刻机!芯片制造的五大工艺大起底!

    在科技日新月异的今天,芯片作为数字时代的“心脏”,其制造过程复杂而精密,涉及众多关键环节。提到芯片制造,人们往往首先想到的是光刻机这一高端设备,但实际上,芯片的成功制造远不止依赖光刻机这一单一工具。本文将深入探讨芯片制造的五大关键工艺,揭示这些工艺如何协同工作,共同铸就了
    的头像 发表于 03-24 11:27 2829次阅读
    不只依赖<b class='flag-5'>光刻机</b>!芯片制造的五大工艺大起底!

    什么是光刻机的套刻精度

    在芯片制造的复杂流程中,光刻工艺是决定晶体管图案能否精确“印刷”到硅片上的核心环节。而光刻Overlay(套刻精度),则是衡量光刻机将不同层电路图案对准精度的关键指标。简单来说,它就像建造摩天大楼
    的头像 发表于 02-17 14:09 4017次阅读
    什么是<b class='flag-5'>光刻机</b>的套刻精度

    远心镜头凭什么称霸高精度测量领域?揭秘微米级精度的秘密武器!

    远心镜头凭什么称霸高精度测量领域?答案就在它的独特成像特性、卓越测量精度以及广泛的应用前景中
    的头像 发表于 02-06 14:54 1225次阅读
    远心镜头<b class='flag-5'>凭什么</b>能<b class='flag-5'>称霸</b>高精度测量领域?揭秘微米级精度的秘密武器!

    光刻机用纳米位移系统设计

    光刻机用纳米位移系统设计
    的头像 发表于 02-06 09:38 957次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>用纳米位移系统设计

    如何提高光刻机的NA值

    本文介绍了如何提高光刻机的NA值。 为什么光刻机希望有更好的NA值?怎样提高?   什么是NA值?   如上图是某型号的光刻机配置,每代光刻机的NA值会比上一代更大一些。NA,又名
    的头像 发表于 01-20 09:44 2254次阅读
    如何提高<b class='flag-5'>光刻机</b>的NA值

    飞利浦将旗下MEMS代工厂Xiver出售,该厂为ASML光刻机提供组件

    近日,飞利浦已将其位于荷兰埃因霍温的 MEMS 晶圆厂和代工厂出售给一个荷兰投资者财团,交易金额不详。该代工厂为 ASML 光刻机等公司提供产品,并已更名为 Xiver。 该 MEMS 代工厂已被
    的头像 发表于 01-16 18:29 2458次阅读

    光刻机的分类与原理

    本文主要介绍光刻机的分类与原理。   光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类,光刻设备有前道和后道之分。前道光刻机包括芯片
    的头像 发表于 01-16 09:29 5720次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的分类与原理

    组成光刻机的各个分系统介绍

      本文介绍了组成光刻机的各个分系统。 光刻技术作为制造集成电路芯片的重要步骤,其重要性不言而喻。光刻机是实现这一工艺的核心设备,它的工作原理类似于传统摄影中的曝光过程,但精度要求极高,能够达到
    的头像 发表于 01-07 10:02 4146次阅读
    组成<b class='flag-5'>光刻机</b>的各个分系统介绍