引言 光刻胶又称“光致抗蚀剂”或“光阻剂”，被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作，是微纳制造技术的关键性材料。 光刻胶是光刻工艺最重要的耗材，其性能决定了加工成品的精密程度和良品率
2022-04-25 17:35:22
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，增幅11.11%。 截图自企查查 光刻胶是芯片制造中光刻环节的重要材料，目前主要被日美把控，国内在光刻胶方面投入研制的厂商主要晶瑞股份、南大光电、上海新阳、徐州博康、北京科华等，那么华为投资的徐州博康在光刻胶方面有何优势，国内厂商在光
2021-08-12 07:49:005380 领域进行激烈竞争的时候，中国国产光刻胶企业在国内晶圆厂布局的成熟制程领域，展开了新产品上市和量产的争夺战。 南大光电最新消息显示，国产193nm（ArF）光刻胶研发成功，这家公司成为通过国家“02专项”验收的ArF光刻胶项目实施主体；徐州博康宣布，该
2022-08-31 07:45:002718 2015年底，中国大陆已经建成投产的面板生产线有25条，其中8.5代线有8条，6代线以下中小尺寸世代线有17条；目前正在建设中的有10条，计划总投资金额为2103亿元；另外还有5条世代线正在规划中，预计到
2016-01-30 11:30:52
的用于保护不被刻蚀区域的光刻胶将被移除。 封装在一块晶圆上制造出芯片需要经过上千道工序，从设计到生产需要三个多月的时间。为了把芯片从晶圆上取出来，要用金刚石锯将其切成单个芯片。这些被称为“裸晶”的芯片
2022-04-08 15:12:41
一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型：正性光刻和负性光刻，区别如下
2021-01-12 10:17:47
,对准精度的提高也受到较多的限制。一般认为，接触式曝光只适于分立元件和中、小规模集成电路的生产。 非接触式曝光主要指投影曝光。在投影曝光系统中，掩膜图形经光学系统成像在感光层上，掩模与晶片上的感光胶
2012-01-12 10:51:59
关于光刻工艺的原理，大家可以想象一下胶片照片的冲洗，掩膜版就相当于胶片，而光刻机就是冲洗台，它把掩膜版上的芯片电路一个个的复制到光刻胶薄膜上，然后通过刻蚀技术把电路“画”在晶圆上。 当然
2020-07-07 14:22:55
SU-8光刻胶 SU-8光刻胶克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题，在近紫外光（365nm-400nm）范围内光吸收度很低，且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致，可得到具有垂直侧壁和高深宽比
2018-07-12 11:57:08
分辨率可达0.15mm；193nm光刻采用OPC技术和多层光刻胶技术分辨率可达0.1 mm。进一步提高分辨率, 直至达到硅材料的极限0.1μｍ左右。另一条路线是采用更短波长的激光如氟157ｎｍ和氩
2018-08-23 11:56:31
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的部分变得容易溶解，经过显影后被
2019-11-07 09:00:18
这是我的版图一部分，然后生成了图案是这样的： 感觉间距小的地方全都有残留，间距大的地方没有残留；工艺参数：s9920光刻胶， evg 620‘未进行蒸汽底漆层涂覆，前烘：100摄氏度，90s
2016-11-29 14:59:18
Futurrex,成立于1985年，位总部设在美国新泽西州，富兰克林市。 公司业务范围覆盖北美、亚太以及欧洲。Futurrex在开发最高端产品方面已经有很长的历史，尤其是其光刻胶
2010-04-21 10:57:46
`浮胶是显影或腐蚀过程中常出现的一种不良现像，也是影响较为严重的一种光刻弊病。显影时产生的浮胶 在显影时，玻璃表面的胶膜皱起呈桔皮状或胶膜大片剥离。产生这一现像，说明胶膜与玻璃表面ITO层粘附不好
2018-11-22 16:04:49
的杂质和油污洗净，然后把水除去并干燥，保证下道工艺的加工质量。C. 涂光刻胶：在ITO玻璃的导电层面上均匀涂上一层光刻胶，涂过光刻胶的玻璃要在一定的温度下作预处理。D. 前烘：在一定的温度下将涂有
2019-07-16 17:46:15
SU 8光刻胶系列产品简介：新型的化学增幅型负像 SU- 8 胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶，克服了普通光刻胶采用 UV光刻导致的深宽比不足的问题，十分适合于制备高深宽比微结构。SU- 8
2018-07-04 14:42:34
传统生产线管理中存在的问题是什么？RFID在生产线管理中的应用有哪些？生产线实时RFID系统后的收益如何？
2021-05-19 06:24:20
ZN-2RXY模块式柔性自动环形生产线实验系统是由哪些部分组成的？ZN-2RXY模块式柔性自动环形生产线实验系统有哪些功能？
2021-09-27 08:56:07
smt生产线介绍 SMT生产线，表面组装技术（SurfaceMountTechnology简称SMT）是由混合集成电路技术发展而来的新一代电子装联技术，以采用元器件表面贴装技术和回流焊接技术为特点
2021-07-23 08:54:42
` 谁来阐述一下smt生产线有辐射吗？`
2020-04-01 17:19:35
书籍：《炬丰科技-半导体工艺》文章：光刻前 GaAs 表面处理以改善湿化学蚀刻过程中的光刻胶附着力和改善湿蚀刻轮廓[/td][td]编号：JFSJ-21-0作者：炬丰科技网址：http
2021-07-06 09:39:22
微米之间,此间隙可以大大减少对掩膜版的损伤.接近式暴光的分辨率较低,一般在2~4微米之间,因此接近式光刻机只能装配在特征尺寸交大的集成电路生产线中.接触或接近式光刻机的主要优点是生产效率较高。 ◆接触式
2012-01-12 10:56:23
显示电路进行显示。单片机计算得到的PID控制值通过Ｄ／Ａ变换成０～10Ｖ电压输出。 将光电测径仪安装在胶管生产线中，通过连接变频器或电子调速器等外接设备实现胶管的外径尺寸的闭环控制，其控制是通过控制
2018-08-01 09:47:26
显示电路进行显示。单片机计算得到的PID控制值通过Ｄ／Ａ变换成０～10Ｖ电压输出。 将光电测径仪安装在胶管生产线中，通过连接变频器或电子调速器等外接设备实现胶管的外径尺寸的闭环控制，其控制是通过控制
2018-12-05 10:23:23
随着今年LED产业不断壮大,我们也随着客户一起成长,在这个过程中德同不断增加产品线及配套服务以达到客户的要求.在这里你看到的不仅仅是目录上的产品,我们所能提供LED耗材一
2008-08-27 10:18:39
，精度控制要求非常高。先进的蚀刻机售价也要数百万美元，而且一条生产线要使用多台蚀刻机，对于卖方来说，总价值很可观。制造 目前，有5nm芯片制造能力的只有台积电一家，该公司也是产业链的核心
2020-03-09 10:13:54
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00:57
如何将RXD与TXD俩条线经过转化后用一条线代替
2013-01-25 10:53:40
模块式柔性自动化生产线实训系统是什么？模块式柔性自动化生产线实训系统有哪些技术参数？
2021-09-27 09:23:42
本人是菜鸟 需要在玻璃上光刻普通的差值电极 以前一直在硅片上面光刻 用的光刻胶是AZ5214E 正胶 同样的工艺和参数在玻璃上附着力差了很多 恳请哪位高人指点一下PS 插值电极的距离为25微米 小女子这厢谢过了
2010-12-02 20:40:41
英寸集成电路生产线，目前已实现3万片月产能。 第二条产线号称华南地区第一条12英寸集成电路生产线，于2016年11月3日开始启动。该项目计划2016年底开工，目前一些相关二手设备已采购完成，预计
2016-12-15 18:27:28
ZN-802CZ自动生产线拆装与调试实训装置是什么？ZN-802CZ自动生产线拆装与调试实训装置由哪些部分组成？
2021-09-26 07:04:50
151n光刻胶曝光显影后开口底部都会有一撮残留，找不到原因。各位帮分析下
2023-04-20 13:13:52
在实际生产过程中，只有一台贴片机的现象很少，除非产品很简单，使用元件类型单一。通常是多台机器连线。生产线优化主要考虑的是线体平衡。线体平衡主要考虑各种生产设备之间的生产量优化平衡。此技术建立
2018-09-06 16:24:22
PMT-2离线光刻胶微粒子计数器是一款新型液体颗粒监测仪器。采用激光光散或光阻原理的颗粒检测传感器，可以对超纯水、自来水、饮用水、去离子水、矿泉水、蒸馏水、无机化学品、有机化学品、有机溶剂、清洗剂
2022-12-14 10:44:24
PMT-2在线光刻胶液体粒子计数器，采用英国普洛帝核心技术创新型的第八代双激光窄光颗粒检测传感器，双精准流量控制-精密计量柱塞泵和超精密流量电磁控制系统，可以对清洗剂、半导体、超纯水
2023-01-03 15:54:49
GK-1000光刻掩膜版测温仪，光刻机曝光光学系统测温仪光刻机是一种用于微纳米加工的设备，主要用于制造集成电路、光电子器件、MEMS（微机电系统）等微细结构。光刻机是一种光学投影技术，通过将光线通过
2023-07-07 11:46:07
辽宁唯一废旧电池回收生产线今年底将投入生产
2009年11月11日8:41:38 随身听、时钟、电动玩具、遥控器……日子越过越好，
2009-11-11 08:41:47775 宜昌建成磷酸亚铁锂电生产线
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2009-12-25 09:32:09473 12英寸集成电路生产线今年底试投产
1月19日，“909工程升级改造———12英寸集成电路生产线项目”启动仪式在上海宏力半导体制造有限公司举行。中共中央
2010-01-25 10:37:371053 拓墣模拟IC供需到今年底
拓墣产业研究所15日在第2季科技产业景气展望发表会上表示，模拟IC设计因国际IDM厂无意针对一般性产品增产，目前已有超过20座晶圆厂
2010-04-17 15:58:47485 根据Computer World报导，英特尔今年底就将开始导入 7 纳米晶圆制程，时间提前于台积电与三星等竞争者，巩固其半导体龙头的位置。日前，英特尔在盈余电话会议上宣布，为了进一步探索芯片生产
2017-02-05 01:11:44371 近几年全球感测相关需求快速成长，台LED厂中，光磊、鼎元等都锁定感测市场积极转型，其中光磊的感测元件生产线已满载，去年即规划进行扩产，预计今年底前至明年新产能开出后，产能可望提升二成。
2018-06-23 11:34:002051 该项目建设地设在亦庄经济开发区东区B15地块，占地面积约为10万平方米，总投资48亿元。芯片生产厂房包含一条月产5万片（25次光刻）0.25um-0.09um（典型工艺为0.11um)、BCD兼容工艺的8英寸芯片生产线，预计今年底投产，建成达产后，可实现年销售收入25.17亿元
2018-07-11 16:06:001716 获悉，随着黄山地质公园博物馆虚拟现实(VR)体验租赁经营项目采购工作的顺利完成，黄山风景区首个VR体验馆即将“上线”，预计今年底面向游客开放。
2018-09-14 10:15:301424 有报道称，总部位于台湾的友达光电（AUO）决定建立一条喷墨OLED生产线，用于生产OLED显示器以及车用OLED。
2018-10-18 09:24:574383 7月17日，南大光电在互动平台透露，公司设立光刻胶事业部，并成立了全资子公司“宁波南大光电材料有限公司”，全力推进“ArF光刻胶开发和产业化项目”落地实施。目前该项目完成的研发技术正在等待验收中，预计2019年底建成一条光刻胶生产线，项目产业化基地建设顺利。
2019-07-18 16:14:594862 预计2019年底建成一条光刻胶生产线，项目产业化基地建设顺利。
2019-07-19 14:08:305317 光刻胶概念股南大光电10月23日公告，拟投资新建光刻胶材料以及配套原材料项目。
2019-10-24 16:47:213114 从经开区企业北京欣奕华科技有限公司（以下简称“欣奕华”）了解到，经过多年的行业累积和技术迭代，欣奕华在平板显示用负性光刻胶领域实现了量产，预计今年将有1000吨的光刻胶交付用户，约占国内市场的8%。
2019-10-28 16:38:493761 数据显示，截至9月底，广东全省建成5G基站21473座，其中广州建成10626座，广州天河区已建成5G基站3020个，天河区基本实现5G全覆盖。深圳建成9504座，佛山619座、东莞398座。预计今年底，全省5G基站将达到3.48万座。
2019-11-27 15:27:08354 近日，上海新阳在投资者互动平台上表示，公司用于KRF248nm光刻胶配套的光刻机已完成厂内安装开始调试，ARF193nm光刻胶配套的光刻机预计12月底到货。
2019-12-04 15:24:457942 今年7月17日，南大光电在互动平台透露，公司设立光刻胶事业部，并成立了全资子公司“宁波南大光电材料有限公司”，全力推进“ArF光刻胶开发和产业化项目”落地实施。目前该项目完成的研发技术正在等待验收中，预计2019年底建成一条光刻胶生产线，项目产业化基地建设顺利。
2019-12-16 13:58:527318 杜邦将扩建位于韩国中部天安市的现有工厂，生产涂覆在半导体基板上的感光剂“光刻胶”。
2020-01-10 15:46:472821 随着电子信息产业发展的突飞猛进，光刻胶市场总需求不断提升。2019年全球光刻胶市场规模预计接近90亿美元，自2010年至今CAGR约5.4%，预计未来3年仍以年均5%的速度增长，预计至2022年全球光刻胶市场规模将超过100亿美元。
2020-03-01 19:02:484098 在国际半导体领域，我国虽已成为半导体生产大国，但整个半导体产业链仍比较落后。特别是由于国内光刻胶厂布局较晚，半导体光刻胶技术相较于海外先进技术差距较大，国产化不足5%。在这种条件下，国内半导体厂商积极开展研究，如晶瑞股份的KrF光刻胶，南大光电的ArF光刻胶均取得较好的研究效果。
2020-03-06 15:40:564165 近日，南大光电在互动平台透露，宁波南大光电目前已安装完成第一条ArF（193nm）光刻胶生产线，该产线仍处于调试阶段。目前，研发的产品正在测试、认证过程中，尚未形成量产和销售。
2020-03-09 10:51:344084 2020年，全球最先进的半导体工艺要从7nm升级到5nm了，台积电最近上半年就开始量产5nm EUV工艺，而三星也加码投资，预计6月底完成5nm EUV生产线。
2020-03-13 08:35:012624 从丰田处获悉，广汽丰田已斥资9.19亿元拍下广州市南沙一处面积超过70万平方米的工业用地，用以投建第五条生产线，计划年产能20万辆，预计2022年建成投产。据悉，未来广汽丰田将主要在此生产新能源汽车产品。
2020-03-20 10:24:25630 集微网消息，据中安在线报道，中科院量子信息与量子科技创新研究院工地，施工团队已全面复工并“加速度建设”，目标于今年底如期建成交付使用。
2020-04-17 16:27:181583 等光刻工序将所需要的微细图形从光罩（掩模版）转移到待加工基片上。依据使用场景，这里的待加工基片可以是集成电路材料，显示面板材料或者印刷电路板。 据第三方机构智研咨询统计，2019年全球光刻胶市场规模预计近90亿美元，
2020-09-15 14:00:1416535 宁波市国资委消息显示，甬矽电子二期项目总投资120多亿元，占地面积500亩，预计今年底开始动工。2020年1月2日，甬矽电子（宁波）股份有限公司二期500亩项目正式签约。据当时甬矽电子官方消息显示
2020-10-26 14:27:126994 国内又要建成一条大型OLED面板生产线了。
2020-12-08 10:26:221113 国内又要建成一条大型OLED面板生产线了。 12月7日上午，维信诺子公司合肥维信诺投资建设的第六代全柔AMOLED生产线点亮仪式在合肥新站高新区隆重举行，维信诺及地方政府高管、中科院院士等人一起
2020-12-08 11:17:092996 今日南大光电发布公告称，其控股子公司 “宁波南大光电”自主研发的 ArF（193nm）光刻胶产品近日成功通过客户的使用认证。报告显示，“本次认证选择客户 50nm 闪存产品中的控制栅进行验证，宁波
2020-12-18 09:29:424499 导 读 日前，南大光电公告称，由旗下控股子公司宁波南大光电材料自主研发的 ArF 光刻胶产品成功通过客户使用认证，线制程工艺可以满足 45nm-90nm光刻需求。 图：南大光电公告 公告
2020-12-25 18:24:096227 日前，在接受投资机构调研时景旺电子对外表示，目前珠海高多层工厂会边建设边投产，预计今年底会释放7.5万㎡/月的高多层产能；珠海高端HDI工厂将会在今年二季度投产，预计释放2万㎡/月的产能
2021-01-12 14:03:102077 摘要 该项目将在今年底建成12条全球先进锂离子大电芯生产线及相应模组、电池包生产线，建成后预计新增产能40GWh。 1月28日，江苏时代动力及储能锂电池研发与生产项目（四期）举行开工仪式
2021-02-02 10:03:009522 5月27日，半导体光刻胶概念股开盘即走强，截至收盘，A股光刻胶板块涨幅达6.48%。其中晶瑞股份、广信材料直线拉升大涨20%封涨停，容大感光大涨13.28%，扬帆新材大涨11.37%，南大光电
2021-05-28 10:34:152623 在半导体制造方面，国内厂商需要突破的不只是光刻机等核心设备，光刻胶也是重要的一环。而南大光电研发的高端ArF光刻机，已经获得了国内某企业的认证，可用于55nm工艺制造。 南大光电发布公告称，控股
2021-06-26 16:32:372200 光刻胶是光刻机研发的重要材料，换句话说光刻机就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片的表面，如果想要硅片的表面不留下痕迹，就需要网硅片上涂一层光刻胶。
2022-02-05 16:11:0011281 待加工基片上。其被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作，是微细加工技术的关键性材料。 一言以蔽之，光刻胶是光刻工艺最重要的耗材，其性能决定了加工成品的精密程度和良品率，而光刻工艺又是精密电子元器件制造
2022-01-20 21:02:461208 
本文提出了一种新型的双层光阻剂方法来减少负光阻剂浮渣。选择正光刻胶作为底层抗蚀剂，选择负光刻胶作为顶层抗蚀胶。研究了底层抗蚀剂的粘度和厚度对浮渣平均数量的影响。实验表明，低粘度正光刻胶AZ703
2022-03-24 16:04:23756 
南大光电最新消息显示，国产193nm（ArF）光刻胶研发成功，这家公司成为通过国家“02专项”验收的ArF光刻胶项目实施主体；徐州博康宣布，该公司已开发出数十种高端光刻胶产品系列，包括
2022-08-31 09:47:141285 光刻胶的组成：树脂（resin/polymer），光刻胶中不同材料的粘合剂，给与光刻胶的机械与化学性质（如粘附性、胶膜厚度、热稳定性等）；感光剂，感光剂对光能发生光化学反应；溶剂（Solvent
2022-10-21 16:40:0415830 此前该公司指出，公司已建成年产5吨ArF干式光刻胶生产线、年产20吨ArF浸没式光刻胶生产线及年产45吨的光刻胶配套高纯试剂生产线，具备ArF光刻胶及配套关键组分材料的生产能力，目前公司送样验证的产品均由该自建产线产出。
2023-04-11 09:25:32920 湖州国资消息，宁波微芯新材料科技有限公司的半导体材料生产基地项目总投资3.5亿元人民币，用地35亩，年产1000吨的电子级光刻胶原材料（光刻胶树脂、高等级单体等核心材料）基地建设。”全部达到，预计年产值可达到约5亿元。
2023-08-21 11:18:26942 光刻胶在未曝光之前是一种黏性流体，不同种类的光刻胶具有不同的黏度。黏度是光刻胶的一项重要指标。那么光刻胶的黏度为什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻胶算高黏度，哪些算低黏度呢？
2023-11-13 18:14:11571 
20日，西陇科学（株）发布公告称，该公司没有生产销售矿产品。公司生产及销售用于清洗剂、显影液、剥离液等的光刻胶，占公司营业收入的比例，是目前用于上述用途的光刻胶配套。
2023-11-21 14:54:57315 KrF光刻胶是指利用248nm KrF光源进行光刻的光刻胶。248nmKrF光刻技术已广 泛应用于0.13μm工艺的生产中,主要应用于150 , 200和300mm的硅晶圆生产中。
2023-11-29 10:28:50284 
匀胶是光刻中比较重要的一步，而旋涂速度是匀胶中至关重要的参数，那么我们在匀胶时，是如何确定匀胶速度呢？它影响光刻胶的哪些性质？
2023-12-15 09:35:56442 
光刻胶主要下游应用包括：显示屏制造、印刷电路板生产、半导体制造等，其中显示屏是光刻胶最大的下游应用，占比30%。光刻胶在半导体制造应用占比24%，是第三达应用场景。
2024-01-03 18:12:21346 
光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料，可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
2024-03-04 17:19:18402 与正光刻胶相比，电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶在显影过程中溶解，而曝光的光刻胶则保留下来，从而形成负像。
2024-03-20 11:36:50200 
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