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光刻技术

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随着半导体技术的发展，光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2～3个数量级（从毫米级到亚微米级），已从常规光学技术发展到应用电子束、 X射线、微离子束、激光等新技术；使用波长已从4000埃扩展到 0.1埃数量级范围。光刻技术成为一种精密的微细加工技术。

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关于高密度布线技术有什么要求？

标签：布线过孔光刻技术 1607 1

193 nm ArF浸没式光刻技术和EUV光刻技术

标签：光刻技术 3742 2

光刻技术原理及应用

标签：光刻技术 9609 5

光刻技术资料下载

集成电路加工光致抗蚀剂概念与光刻技术的介绍立即下载

类别：工控技术 2017-09-29 标签：光刻技术光致抗蚀剂 2053 0

物理接触式光刻技术和以Photons为光源的光刻技术介绍立即下载

类别：显示及光电 2017-09-29 标签：光刻技术 650 0

光刻技术的发展与应用立即下载

类别：IC中文资料 2013-12-10 标签：光刻技术 481 0

摩尔定律全靠它_CPU光刻技术分析与展望立即下载

类别：IC中文资料 2013-12-10 标签：摩尔定律光刻技术 836 0

半导体光刻技术及设备的发展趋势立即下载

类别：半导体技术论文 2011-10-31 标签：半导体光刻技术 978 0

光刻技术资讯

三星电子有望在美国获得超过 60 亿美元的补贴

　据彭博社3月15日报道，三星电子有望从美国政府获得逾60亿美元的《CHIP》法案补贴。该公司目前正在美国得克萨斯州新建一座工厂，此前计划于今年7月开始...

2024-03-15 标签：三星电子纳米制程光刻技术 478 0

纳米压印光刻技术应用在即，能否掀起芯片制造革命？

电子发烧友网报道（文/李宁远）提及芯片制造，首先想到的自然是光刻机和光刻技术。而众所周知，EUV光刻机产能有限而且成本高昂，业界一直都在探索不完全依赖于...

2024-03-09 标签：光刻技术 3107 0

美光科技: 纳米印刷助降DRAM成本

近期的演示会上，美光详细阐述了其针对纳米印刷与DRAM制造之间的具体工作模式。他们提出，DRAM工艺的每一个节点以及浸入式光刻的精度要求使得物理流程变得...

2024-03-05 标签：DRAM 美光光刻技术 256 0

英特尔：预计2027年末10A节点投产，投资千亿美元扩大晶圆制造

　根据先前记载，10A将会是英特尔继使用High-NA EUV光刻技术的首批主要节点之后的第二例，预计可呈现出超过10%的每瓦性能改善。

2024-02-28 标签：英特尔光刻技术晶圆片 152 0

英特尔拟斥资20亿美元扩建爱尔兰半导体工厂，采用先进技术

Fab 34是英国在欧洲如今唯一运用-极紫外线（EUV）光刻技术的芯片制作基地，负责生产英特尔第四代Intel 4工艺的生产力工具如Meteor Lak...

2024-02-18 标签：英特尔服务器光刻技术 299 0

Imec 与三井化学公司签署战略合作协议，将用于 EUV 光刻技术的 CNT 薄膜技术商业化

来源：半导体芯科技 SiSC编译鲁汶（比利时），2023 年 12 月 14 日 — 世界领先的纳米电子和数字技术研究和创新中心 Imec 与日本领先...

2024-01-04 标签：IMEC CNT 光刻技术 221 0

ASML将在未来十年发生变化？

ASML即将上任的首席执行官Christophe Fouquet面临的最大挑战将是带领公司进入一个新时代，救火员工程文化必须改变。

2023-12-28 标签：光刻技术 EUV ASML 488 0

一种制造光学器件的新方法

光刻技术涉及操纵光线将特征精确蚀刻到表面上，通常用于制造计算机芯片和透镜等光学器件。但是制造过程中的微小偏差往往导致这些器件达不到设计者的预期。

2023-12-15 标签：模拟器光刻技术光学器件 272 0

台积电押注先进制程研发，台积电资本支出缩水

台积电因部分制程设备可共享，加上部分递延预算将在今年动用，2024年资本支出恐降至280亿~300亿美元，较今年减少约6.3%~12.5%。外界预期，一...

2023-12-06 标签：台积电晶圆代工光刻技术 106 0

高数值孔径 EUV技术路线图

高数值孔径EUV 今年的大部分讨论都集中在EUV的下一步发展以及高数值孔径EUV的时间表和技术要求上。ASML战略营销高级总监Michael Lerce...

2023-11-23 标签：集成电路光刻技术 EUV 320 0

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