颗粒

PFC数值计算方法及基本理论

PFC5.0软件中提供了10种内置接触模型:Null(无接触)、linear(线性接触)、linearcbond（线性接触黏结)、linearpbond...

2023-04-12 标签：PFC颗粒 8154 0

稀释SC1过程中使用兆声波来增强颗粒去除效率

本文介绍了我们华林科纳在稀释SC1过程中使用兆声波来增强颗粒去除，在SC1清洗过程中，两种化学成分之间存在协同和补偿作用，H2O2氧化硅并形成化学氧化物...

2022-05-18 标签：晶片颗粒兆声波 605 0

一种抛光硅片表面颗粒和有机污染物的清洗方法

本文提出了一种抛光硅片表面颗粒和有机污染物的清洗方法，非离子型表面活性剂可以有效地去除表面上的颗粒，因为它可以显著降低液体的表面张力和界面张力，非离子型...

2022-05-18 标签：硅片清洗颗粒 871 0

采用临界粒子雷诺数方法去除晶圆表面的粘附颗粒

化学机械平面化后的叶片清洗，特别是刷子擦洗，是半导体器件制造的一个关键步骤，尚未得到充分了解。临界粒子雷诺数方法用于评估在刷擦洗过程中去除晶圆表面的粘附...

2022-05-07 标签：半导体晶圆颗粒 1638 0

PVA刷接触式清洗过程中超细颗粒清洗现象

为了LSI的小型·高性能化， 为了实现高精度的基板表面粗糙度，在制造工序中推进了微细且多层布线化。 要求使用粒径100 nm以下的纳米粒子的CMP（Ch...

2022-04-15 标签：纳米清洗颗粒 531 0

基于单分散液滴撞击的颗粒清洁技术

处理纳米级颗粒污染仍然是半导体器件制造过程中的主要挑战之一。对于越来越多的关键处理步骤而言尤其如此，在这些步骤中，需要去除颗粒物质的残留物而不会对敏感器...

2022-03-31 标签：半导体颗粒清洁技术 323 0

为什么要对擦拭材料中液体颗粒进行管控

普洛帝PMT--2擦拭材料液体颗粒计数器. 采用英国普洛帝核心技术创新型的第八代双激光窄光颗粒检测传感器，双精准流量控制-精密计量柱塞泵和超精密流量电磁...

2023-06-09 标签：半导体颗粒 257 0

擦拭布材料中液体颗粒计数器检测方法粒子计数器的广泛应用

液体颗粒计数和颗粒尺寸分级的几种选择。光学显微镜和电子扫描显微镜的结合使用，可将颗粒分成粒径100μm三个等级。该方法的检测限由过滤器孔径决定。普洛帝擦...

2023-06-09 标签：检测颗粒 369 0

清剂产生液体颗粒污染主要原因及管控办法

清洗剂液体颗粒计数器. 采用英国普洛帝核心技 术创新型的第八代双激光窄光颗粒检测传感器，双精准流量控制-精 密计量柱塞泵和超精密流量电磁控制系统，可以对...

2023-06-09 标签：电磁颗粒 294 0

RCA清洗中晶片表面的颗粒粘附和去除

溶液中颗粒和晶片表面之间发生的基本相互作用是范德华力(分子相互作用)和静电力(双电层的相互作用)。近年来，与符合上述两种作用的溶液中的晶片表面上的颗粒粘...

2022-07-13 标签：晶片清洗颗粒 1544 0

微纳米颗粒的磁场驱动控制平台设计

实验内容：设计一套精准的磁场操控平台，并制备两种不同类型磁性颗粒；研究了均匀型磁性颗粒在磁场下的成链的机理，给出成链模型，通过实验研究了不同因素对成链的...

2022-06-21 标签：控制系统功率放大器颗粒 1047 0

湿法和颗粒去除工艺详解

本文考虑了范德华相互作用的2个数量级范围，以考虑了实际粒子的形状和材料，将这些相互作用与静电电荷、阻力、表面张力、冲击波、高加速度和气溶胶粒子所产生的排...

2022-04-11 标签：工艺颗粒 554 0

如何成功地清除来自晶片表面的颗粒污染

为了成功地清除来自晶片表面的颗粒污染，有必要了解颗粒与接触的基底之间的附着力和变形,变形亚微米颗粒的粘附和去除机理在以往的许多研究中尚未得到阐明。亚微米...

2022-04-06 标签：晶片清洗颗粒 1094 0

PMMA颗粒形貌观察和直径测量(扫描电镜，SEM)

  图1 PMMA颗粒形貌（扫描电镜SEM）       图2 PMMA颗粒形貌（扫描电镜SEM）       图3 PMMA颗粒形貌（扫描电镜SEM）...

2021-12-20 标签：SEM颗粒扫描电镜 1418 0