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光刻机

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光刻机技术

光刻机的基本原理和核心技术

虽然DUVL机器可以通过多重曝光技术将线宽缩小到7-5纳米，但如果要获得更小的线宽，DUVL已经达到了极限。采用EUV作为光源的极紫外光刻（EUVL）成...

2024-04-25 标签：光源晶体管光刻机 20 0

光刻机的常见类型解析

光刻机有很多种类型，但有时也很难用类型进行分类来区别设备，因为有些分类仅是在某一分类下的分类。

2024-04-10 标签：摄像机晶体管光刻机 208 0

碳化硅晶片C面与硅面的存在原因探究

Si-Si键能大小为 310 kJ/mol，可以理解键能是把这两个原子拉开的力度，键能越大，需要拉开的力越大。 Si-C键原子间距为 1.89 Å，...

2024-03-26 标签：SiC 晶片光刻机 135 0

光刻机的发展历程及工艺流程

光刻机经历了5代产品发展，每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EU...

2024-03-21 标签：芯片集成电路芯片制造 665 0

刻蚀机是干什么用的刻蚀机和光刻机的区别

刻蚀机的刻蚀过程和传统的雕刻类似，先用光刻技术将图形形状和尺寸制成掩膜，再将掩膜与待加工物料模组装好，将样品置于刻蚀室内，通过化学腐蚀或物理磨蚀等方式将...

2024-03-11 标签：芯片制造光刻光刻机 1018 0

浅谈不同阶段光刻机工作方式

在曝光过程中，掩模版与涂覆有光刻胶的硅片直接接触。接触式光刻机的缩放比为1:1，分辨率可达到4-5微米。由于掩模和光刻胶膜层反复接触和分离，随着曝光次数...

2024-03-08 标签：芯片制造光刻光刻机 213 0

光刻机精密碳化硅陶瓷部件揭秘

集成电路制造关键装备要求零部件材料具有高纯度、高致密度、高强度、高弹性模量、高导热系数和低热膨胀系数等特点，且且结构件要具有极高的尺寸精度和结构复杂性，...

2024-03-07 标签：集成电路光刻机光刻技术 110 0

一文解析半导体设计电路的“光刻工艺”

利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用。

2024-03-06 标签：集成电路光刻机光刻胶 119 0

光刻胶和光刻机的区别

光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料，可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。

2024-03-04 标签：半导体材料半导体器件光刻机 727 0

EUV反射镜的镀膜工艺：如何选择合适的镀膜机

对基板移动进行仔细管理和将基板支架的机械公差降至最低，实现无与伦比的厚度均匀性溅射工艺的卓越稳定性和极高水平的层厚度精度。

2024-02-21 标签：光谱反射镜镀膜机 157 0

浅谈半导体设备高精密陶瓷关键部件的技术

对于芯片制造来讲，光刻是一个必不可少的环节，可以说，没有光刻机，就没有现代芯片产业。在集成电路制造过程中，光刻工艺的费用约占制造成本的1/3 左右，耗费...

2024-01-31 标签：芯片制造 CMP 光刻机 518 0

高数值孔径EUV光刻：引领下一代芯片制造的革命性技术

摩尔定律是指在给定面积的硅片上，晶体管的数量大约每两年翻一番，这种增益推动了计算技术的发展。在过去半个世纪里，我们将该定律视为一种类似进化或衰老的不可避...

2024-01-24 标签：摩尔定律晶体管芯片制造 218 0

晶圆需要抛光的原因分析

　光刻机的镜头要实现纳米级的成像分辨率，就得拼命增大镜片的数值孔径（Numerical Aperture），但这同时会导致焦深（DoF）的下降，焦深是指...

2024-01-22 标签：晶圆芯片制造半导体器件 480 0

一文弄懂半导体掩膜版制造工艺及流程

微电子制造过程中的图形转移母版掩膜版（Photomask）又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微电子制造过程中的图形转移工具或母版，是图形设计和工艺技术等...

2024-01-06 标签：集成电路液晶显示器光刻机 6239 0

半导体零部件行业深度报告

半导体设备主要应用于集成电路的制造和封测环节，可细分为晶圆制造设备(前道设备）和封装、测试设备（后道设备)。其中，前道设备主要有光刻机、刻蚀机、薄膜沉积...

2023-12-27 标签：集成电路芯片制造光刻机 328 0

全面解析***结构及工作原理

光刻与光刻机 ➢对准和曝光在光刻机(Lithography Tool)内进行。 ➢其它工艺在涂胶显影机(Track)上进行。光刻机结...

2023-12-19 标签：控制系统 IC设计测量系统 289 0

光刻工艺的基本步骤 ***的整体结构图

光照条件的设置、掩模版设计以及光刻胶工艺等因素对分辨率的影响都反映在k₁因子中，k₁因子也常被用于评估光刻工艺的难度，ASML认为其物理极限在0.25，...

2023-12-18 标签：集成电路摩尔定律光刻机 440 0

半导体制造之光刻工艺讲解

光刻工艺就是把芯片制作所需要的线路与功能做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图...

2023-12-04 标签：半导体光刻机半导体制造 1660 0

全球主要晶圆厂制程节点技术路线图

雕刻电路图案的核心制造设备是光刻机，它的精度决定了制程的精度。光刻机的运作原理是先把设计好的芯片图案印在掩膜上，用激光穿过掩膜和光学镜片，将芯片图案曝光...

2023-11-24 标签：台积电晶体管光刻机 2146 0

什么是纳米压印技术？能否取代***？

纳米压印是微纳工艺中最具发展潜力的第三代光刻工艺，是最有希望取代极紫外光的新一代工艺。最近，海力士公司从佳能购买了一套奈米压印机，进行了大规模生产，并取...

2023-11-08 标签：芯片晶体管光刻机 656 0

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UHD是”超高清“的意思UHD的应用在电视机技术上最为普遍，目前已有不少厂商推出了UHD超高清电视。
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四轴飞行器，又称四旋翼飞行器、四旋翼直升机，简称四轴、四旋翼。这四轴飞行器（Quadrotor）是一种多旋翼飞行器。四轴飞行器的四个螺旋桨都是电机直连的简单机构，十字形的布局允许飞行器通过改变电机转速获得旋转机身的力，从而调整自身姿态。具体的技术细节在“基本运动原理”中讲述。
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