资料介绍
离子注入是另一种对半导体进行掺杂的方法。将杂质电离成离子并聚焦成离子束,在电场中加速而获得极高的动能后,注入到硅中(称为 “靶” )而实现掺杂。
离子束是一种带电原子或带电分子的束状流,能被电场或磁场偏转,能在高压下加速而获得很高的动能。
离子束的用途
掺杂、曝光、刻蚀、镀膜、退火、净化、改性、打孔、切割等。不同的用途需要不同的离子能量 E :
E < 10 KeV ,刻蚀、镀膜
E = 10 ~ 50 KeV,曝光
E > 50 KeV,注入掺杂
离子束加工方式可分为
1、掩模方式(投影方式)
2、聚焦方式(扫描方式,或聚焦离子束(FIB)方式)
掩模方式是对整个硅片进行均匀的地毯式注入,同时象扩散工艺一样使用掩蔽膜来对选择性区域进行掺杂。扩散工艺的掩蔽膜必须是 SiO2 膜,而离子注入的掩蔽膜可以是 SiO2 膜,也可以是光刻胶等其他薄膜。
掩模方式用于掺杂与刻蚀时的优点是 生产效率高,设备相对简单,控制容易,所以应用比较早,工艺比较成熟。缺点是 需要制作掩蔽膜。
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