一氧化硅的性能介绍资料免费下载

资料大小: 0.10 MB

所需积分: 0

下载次数:

用户评论: 0条评论,查看

上传日期: 2019-01-09

上 传 者: ats0523他上传的所有资料

资料介绍

标签:电子束(12)反射镜(8)元器件(746)

  一氧化硅分子量44.09,密度2.1,熔点1702℃,在10-2Pa真空下的蒸发温度为850℃。可用钨、钼、钽舟加热蒸发,用电子束加热蒸发效果很好。

  一氧化硅薄膜的透明区为0.5~8μm,8μm以上吸收增加。一氧化硅薄膜的折射率与蒸镀参数密切相关,在高真空中快速蒸发其折射率较高,低真空中慢速蒸发其折射率较小。

  一氧化硅薄膜是中短波红外区最常用的光学薄膜之一,在光学薄膜中具有广泛的应用,它不但可以用于铝前面反射镜的保护膜,多层减反射膜,还可以用于红外光学元件的减反射膜。

  另外一氧化硅薄膜对氧气、水汽、气味等具有良好的阻气性,淀积在塑料膜上形成阻气膜,用于食品、药品、精密电子部件等的包装上。

用户评论

查看全部 条评论

发表评论请先 , 还没有账号?免费注册

发表评论

用户评论
技术交流、我要发言! 发表评论可获取积分! 请遵守相关规定。
上传电子资料