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电子发烧友网>今日头条>一种除去晶片表面有机物的清洗方法

一种除去晶片表面有机物的清洗方法

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利用蚀刻法消除硅晶片表面金属杂质​

为了将硅晶片中设备激活区的金属杂质分析为ICP-MS或GE\AS,利用HF和HNQ混酸对硅晶片进行不同厚度的重复蚀刻,在晶片表面附近,研究了定量分析特定区域中消除金属杂质的方法
2022-04-24 14:59:23497

通过两步湿化学表面清洗来结合硅和石英玻璃晶片的工艺

摘要 本文展示了一种通过两步湿化学表面清洗来结合硅和石英玻璃晶片的简易结合工艺。在200℃后退火后,获得没有缺陷或微裂纹的强结合界面。在详细的表面和结合界面表征的基础上,对结合机理进行了探索和讨论
2022-05-07 15:49:061091

晶片清洗技术

本文阐述了金属杂质和颗粒杂质在硅片表面的粘附机理,并提出了一些清洗方法
2022-05-11 16:10:274

一种抛光硅片表面颗粒和有机污染物的清洗方法

本文提出了一种抛光硅片表面颗粒和有机污染物的清洗方法,非离子型表面活性剂可以有效地去除表面上的颗粒,因为它可以显著降低液体的表面张力和界面张力,非离子型表面活性剂分子具有亲水和疏水两部分,实验选择了脂肪醇-聚氧乙烯醚作为一种非离子型表面活性剂,这种非离子表面活性剂不能被电离,因此不会带来离子污染物。
2022-05-18 16:01:22829

溢流晶片清洗工艺中的流场概述

引言 描述了溢流晶片清洗工艺中的流场。该信息被用于一项倡议,其主要目的是减少晶片清洗中的用水量。使用有限元数值技术计算速度场。大部分的水无助于晶片清洗。 介绍 清洗步骤占工厂中使用的ulaa纯水
2022-06-06 17:24:461044

使用脉动流清洗毯式和图案化晶片的工艺研究

表面和亚微米深沟槽的清洗在半导体制造中是一个巨大的挑战。在这项工作中,使用物理数值模拟研究了使用脉动流清洗毯式和图案化晶片。毯式晶片清洗工艺的初步结果与文献中的数值和实验结果吻合良好。毯式和图案化晶片的初步结果表明,振荡流清洗比稳定流清洗更有效,并且振荡流的最佳频率是沟槽尺寸的函数。
2022-06-07 15:51:37291

降低超薄栅氧化层漏电流的预氧化清洗方法

本发明涉及一种在集成电路制造中减少漏电流的方法,更具体地说,涉及一种在集成电路制造中通过新的预氧化清洗顺序减少超薄栅氧化物漏电流的方法。 根据本发明的目的,实现了一种预氧化清洗衬底表面的新方法。我们
2022-06-17 17:20:40783

基于晶圆键合的三维集成应用中的高效单片清洗

本文描述了我们华林科纳单晶片超电子清洗方法的开发、测试和验证,该传感器设计满足极端颗粒中性、颗粒去除效率(PRE)和生产规模晶片粘合的可重复性要求,以及其他需要极低颗粒水平的应用。不同的微电子过程
2022-06-28 17:25:04809

单次清洗晶圆的清洗方法及解决方案

本文讲述了我们华林科纳的一种在单个晶圆清洗工艺中使用新型清洗溶液的方法,该方法涉及在单一晶片模式下使用清洗溶液,并且清洗溶液包括至少包括氢氧化铵(NH-OH)、过氧化氢(HO)、水(HO)和螯合剂
2022-06-30 17:22:112101

不同的湿法晶片清洗技术方法

虽然听起来可能没有极紫外(EUV)光刻那么性感,但对于确保成功的前沿节点、先进半导体器件制造,湿法晶片清洗技术可能比EUV更重要,这是因为器件的可靠性和最终产品的产量都与晶片的清洁度直接相关,因为晶片要经过数百个图案化、蚀刻、沉积和互连工艺步骤。
2022-07-07 16:24:231578

晶片清洗技术

摘要 随着越来越高的VLSIs集成度成为商业实践,对高质量晶片的需求越来越大。对于表面上几乎没有金属杂质、颗粒和有机物的高度洁净的晶片来说,尤其如此。为了生产高清洁度的晶片,有必要通过对表面杂质行为
2022-07-11 15:55:451025

RCA清洗晶片表面的颗粒粘附和去除

溶液中颗粒和晶片表面之间发生的基本相互作用是范德华力(分子相互作用)和静电力(双电层的相互作用)。近年来,与符合上述两种作用的溶液中的晶片表面上的颗粒粘附机制相关的研究蓬勃发展,并为阐明颗粒粘附机制做了大量工作。
2022-07-13 17:18:441491

紫外光表面清洗技术与UV光清洗

低压紫外汞灯发射的双波段短波紫外光照射到试件表面后,与有机污染物发生光敏氧化作用,不仅能去除污染物而且能改善表面的性能,从而提高物体表面的浸润性和粘合强度,或者使材料表面得到稳定的表面性能。根据
2022-08-18 16:16:301080

激光清洗设备的应用领域

可以对各种材料进行清洗,包括有机物和无机物。   例如,在文物修复领域,激光清洗设备可以用来清洗金属表面的氧化物和其他污垢,以及石材表面的污垢和霉菌等。在工业领域,激光清洗设备可以用来清洗金属表面的氧化物、油渍
2023-05-08 17:11:07571

针对去离子水在晶片表面处理的应用的研究

随着半导体科技的发展,在固态微电子器件制造中,人们对清洁基底表面越来越重视。湿法清洗一般使用无机酸、碱和氧化剂,以达到去除光阻剂、颗粒、轻有机物、金属污染物以及硅片表面上的天然氧化物的目的。然而,随着硅电路和器件结构规模的不断减小,英思特仍在专注于探索有效可靠的清洁方法以实现更好的清洁晶圆表面
2023-06-05 17:18:50437

VOCs挥发性有机物处理技术有哪些

关于VOCs挥发性有机物的处理技术有哪些呢?谈及这个话题,可能很多小伙伴都是一头雾水,今天小编就来跟大家具体介绍一下VOCs挥发性有机物的处理技术吧。众所周知,VOCs挥发性有机物一般都有
2022-01-10 10:53:52648

KRi 考夫曼离子源表面预清洁 Pre-clean 应用

上海伯东代理美国 KRi 考夫曼离子源适用于安装在 MBE 分子束外延, 溅射和蒸发系统, PLD 脉冲激光系统等, 在沉积前用离子轰击表面, 进行预清洁 Pre-clean 的工艺, 对基材表面有机物清洗, 金属氧化物的去除等, 提高沉积薄膜附着力, 纯度, 应力, 工艺效率等!
2023-05-25 10:10:31378

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