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电子发烧友网>今日头条>ZnO薄膜的湿法刻蚀研究报告—华林科纳

ZnO薄膜的湿法刻蚀研究报告—华林科纳

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2023-06-09 17:30:34418

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研究报告1.0版》,总计192页,分为技术篇、产业篇、评测篇、职业篇、风险篇、哲理篇、未来篇、团队篇等多个篇章,对AIGC产业的发展现状和趋势进行了详尽研究和分析
2023-06-09 10:32:36550

重点阐述湿法刻蚀

光刻工艺后,在硅片或晶圆上形成了光刻胶的图形,下一步就是刻蚀
2023-06-08 10:52:353320

晶片湿法刻蚀方法

硅的碱性刻蚀液:氢氧化钾、氢氧化氨或四甲基羟胺(TMAH)溶液,晶片加工中,会用到强碱作表面腐蚀或减薄,器件生产中,则倾向于弱碱,如SC1清洗晶片或多晶硅表面颗粒,一部分机理是SC1中的NH4OH
2023-06-05 15:10:011597

清华大学AIGC发展研究报告1.0版震撼发布!192页PPT

发展研究报告1.0版》,总计192页,分为技术篇、产业篇、评测篇、职业篇、风险篇、哲理篇、未来篇、团队篇等多个篇章,对AIGC产业的发展现状和趋势进行了详尽研究和分析。 以下为报告内容 受篇幅限制,以上仅为部分报告预览 后台回复【 AIG
2023-06-04 16:15:01503

半导体工艺装备现状及发展趋势

集成电路前道工艺及对应设备主要分八大类,包括光刻(光刻机)、刻蚀刻蚀机)、薄膜生长(PVD-物理气相沉积、CVD-化学气相沉积等薄膜设备)、扩散(扩散炉)、离子注入(离子注入机)、平坦化(CMP设备)、金属化(ECD设备)、湿法工艺(湿法工艺设备)等。
2023-05-30 10:47:121131

研究报告丨汽车电子2023车载充电机(OBC)市场分析

自己的模板 研究 报告《 汽车电子2023车载充电机(OBC)市场分析》,如需领取报告,请关注公众号,后台回复   OBC  即可领取! 声明 : 本文由电子发烧友原创 ,转载请注明以上来源。如需
2023-05-29 17:55:02896

金属湿法刻蚀

但是,HCl为基体的刻蚀溶液,会严重地侵蚀Ni(Pt)Si或Ni(Pt)SiGe,使金属硅化物阻值升高。这就要求有一种刻蚀剂是无氯基体,而且对Ni(Pt)Si或Ni(Pt)SiGe无伤害、对金属选择性又高。这就是目前常用的高温硫酸和双氧水混合液
2023-05-29 10:48:271461

采用光刻胶牺牲层技术改善薄膜电路制备工艺

改善之后的工艺与之前最大的区别在于使用光刻胶充当溅射的掩膜,在电镀之前将电路图形高精度的制备出来,不再进行湿法刻蚀,避免了侧腐蚀对线条精度和膜基结合力的影响,同时,基板只浸入丙酮中一次以去除光刻胶,避免了大量溶液的使用
2023-05-16 09:40:351218

微波组件中的薄膜陶瓷电路板

薄膜陶瓷基板一般采用磁控溅射、真空蒸镀等工艺直接在陶瓷基片表面沉积金属层。通过光刻、显影、刻蚀、电镀等工艺,将金属层图形化制备成特定的线路及膜层厚度。通常,薄膜陶瓷基板表面金属层厚度较小 (一般小于 4μm)。薄膜陶瓷基板可制备高精密图形 (线宽/线距小于 10 μm、精度±1μm)。
2023-05-15 10:18:56591

研究报告丨工业视觉产业与工业图像传感器技术趋势分析

自己的模板 研究 报告《 工业视觉产业与工业图像传感器技术趋势分析》,如需领取报告,请关注公众号,后台回复   工业   即可领取! 声明 : 本文由电子发烧友原创 ,转载请注明以上来源。如需入群交
2023-05-11 20:16:37145

开源鸿蒙OpenHarmony系统已成功用于微卫星

工作组) 组长、大连理工大学于晓洲教授在题为“微卫星技术与 OpenHarmony 实时操作系统”的主题报告中宣布, OpenHarmony 操作系统已经成功应用于中国科学院微小卫星创新研究院“电磁组装试验
2023-04-26 13:59:54

《炬丰科技-半导体工艺》单晶的湿法蚀刻和红外吸收

书籍:《炬丰科技-半导体工艺》 文章:单晶的湿法蚀刻和红外吸收 编号:JFKJ-21-206 作者:炬丰科技 摘要 采用湿法腐蚀、x射线衍射和红外吸收等方法研究了物理气相色谱法生长AlN单晶的缺陷
2023-04-23 11:15:00118

介绍薄膜开关薄膜按键

薄膜按键都是“按键+薄膜”的基本结构,所以,按键的手感、特色等很大方面都取决于薄膜按键的设计。考虑到开关触点的分离和回弹的可靠性,薄膜的厚度一般选择在为佳,过薄回弹无力,触点分离不灵敏。薄膜按键
2023-04-21 11:02:191389

工业泵在半导体湿法腐蚀清洗设备中的应用

【摘要】 在半导体湿法工艺中,后道清洗因使用有机药液而与前道有着明显区别。本文主要将以湿法清洗后道工艺几种常用药液及设备进行对比研究,论述不同药液与机台的清洗原理,清洗特点与清洗局限性。【关键词
2023-04-20 11:45:00823

半导体行业之刻蚀工艺介绍

压力主要控制刻蚀均匀性和刻蚀轮廓,同时也能影响刻蚀速率和选择性。改变压力会改变电子和离子的平均自由程(MFP),进而影响等离子体和刻蚀速率的均匀性。
2023-04-17 10:36:431922

研究报告丨汽车MCU产业链分析报告

自己的模板 研究 报告《 汽车MCU产业链分析报告》,如需领取报告,请关注公众号,后台回复   MCU  即可领取! 声明 : 本文由电子发烧友原创 ,转载请注明以上来源。如需入群交流 ,请添加
2023-04-12 15:10:02390

干法蚀刻与湿法蚀刻-差异和应用

干法蚀刻与湿法蚀刻之间的争论是微电子制造商在项目开始时必须解决的首要问题之一。必须考虑许多因素来决定应在晶圆上使用哪种类型的蚀刻剂来制作电子芯片,是液体(湿法蚀刻)还是气体(干法蚀刻)
2023-04-12 14:54:331004

【新闻】全国普通高校大学生计算机类竞赛研究报告正式发布

全国普通高校大学生计算机类竞赛研究报告链接:https://mp.weixin.qq.com/s/bdcp-wGqvXY_8DPzn8dhKw各高校在计算机类竞赛中的表现情况是评估相关高校计算机
2023-04-10 10:16:15

半导体行业之刻蚀工艺介绍

金属刻蚀具有良好的轮廓控制、残余物控制,防止金属腐蚀很重要。金属刻蚀时铝中如果 有少量铜就会引起残余物问题,因为Cu Cl2的挥发性极低且会停留在晶圆表面。
2023-04-10 09:40:542330

半导体行业之刻蚀工艺技术

DRAM栅工艺中,在多晶硅上使用钙金属硅化物以减少局部连线的电阻。这种金属硅化物和多晶硅的堆叠薄膜刻蚀需要增加一道工艺刻蚀W或WSi2,一般先使用氟元素刻蚀钧金属硅化合物层,然后再使用氯元素刻蚀多晶硅。
2023-04-07 09:48:162198

浪潮云洲入选IDC《中国工业边缘市场分析》研究报告

济南2023年3月31日 /美通社/ -- 近日,国际数据公司(IDC)发布了《中国工业边缘市场分析》研究报告(以下简称《报告》)。浪潮云洲凭借云边缘一体化机器视觉等特色解决方案布局,入选工业边缘
2023-04-01 08:03:30540

薄膜面板厂家定制薄膜开关和薄膜面板

经常定制薄膜开关和薄膜面板时候,对其步骤却不甚了解,对此,雨菲跟大家分享薄膜开关和薄膜面板定制的步骤。
2023-03-29 17:02:451701

薄膜集成电路--薄膜电阻

薄膜电阻应用于光通讯、 射频微波毫米波通讯,如放大、耦合、衰减、滤波等模块电路。电阻网络应用于微波集成电路中,能够缩小电路板空间,降低元器件成本。薄膜衰减器应用于光通讯、微波集成电路模块,其
2023-03-28 14:19:17

研究报告丨国内电源管理IC企业2022年业绩分析

自己的模板 研究 报告《 国内电源管理IC企业2022年业绩分析》,如需领取报告,请关注公众号,后台回复   电源管理  即可领取! 声明 : 本文由电子发烧友原创 ,转载请注明以上来源。如需入群交
2023-03-27 20:25:04478

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