电子发烧友网报道（文/李宁远）提及芯片制造，首先想到的自然是光刻机和光刻技术。而众所周知，EUV光刻机产能有限而且成本高昂，业界一直都在探索不完全依赖于EUV光刻机来生产高端芯片的技术和工艺。纳米
2024-03-09 00:15:00
2911 电子发烧友网报道（文/李弯弯）近期，各大视频平台疯传一条消息，称清华大学EUV项目，把ASML的光刻机巨大化，实现了光刻机国产化，并表示这个项目已经在雄安新区落地，还在视频中配了下面这张图，表示图片
2023-09-20 08:56:502576 
电子发烧友网报道（文/李宁远）不久前，英特尔正式发布了一款硅自旋量子芯片，命名为“Tunnel Falls”。这也是继去年10月英特尔宣布成功以现有硅半导体技术生产自旋量子计算芯片之后发布的迄今为止
2023-07-23 10:56:401997 
电子发烧友网报道（文/李宁远）提及芯片制造技术，首先想到的自然是光刻机和光刻技术。众所周知在芯片行业，光刻是芯片制造过程中最重要、最繁琐、最具挑战也最昂贵的一项工艺步骤。在光刻机的支持下，摩尔定律
2023-07-16 01:50:153008 
据传感器专家网获悉，3月11日，广州增芯科技有限公司12英寸先进智能传感器及特色工艺晶圆制造量产线项目在广州增城开发区举行光刻机搬入活动，标志着增芯项目顺利进入调试投产准备阶段。 据悉， 增芯项目
2024-03-22 18:10:3815 光刻机经历了5代产品发展，每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次从接触接近式光刻机发展到浸没步进式投影光刻机和极紫外式光刻机。
2024-03-21 11:31:4142 
量子技术作为未来产业如何上“新”，硅臻芯片给出了自己的答案。硅臻芯片抓住光量子集成芯片方向，始终锚定关键量子器件芯片化目标，用实用量子芯片为量子科技新赛道的产业化道路提供抓手。
2024-03-19 16:01:55373 
EUV 光刻机持续更新升级，未来目标在 2025 年推出 NXE:4000F 机型。 上两代 NXE 系列机型 3400C 和 3600D 分别适合 7~5、5~3 纳米节点生产，德媒 ComputerBase 因此预测 3800E 有望支持 3~2
2024-03-14 08:42:345 
首先感谢发烧友提供的试读机会。 略读一周，感触颇深。首先量子计算机作为一种前沿技术，正逐步展现出其巨大的潜力，预示着未来社会和技术领域的深刻变革。下面，我将从几个方面探讨量子计算机如何重构我们
2024-03-13 19:28:09
计算机无法解决或需要花费巨大时间和资源才能解决的问题，从而推动科学技术的发展，改变我们的生活方式。虽然目前仍面临诸多挑战，但科学家们正在努力克服这些障碍，相信量子计算机的实现将会给我们带来深远的影响。
2024-03-13 18:18:29
如何生产制造。。。。。。
近来通过阅读《量子计算机—重构未来》一书，结合网络资料，了解了一点点量子叠加知识，分享给大家。
先提一下电子计算机，电子计算机使用二进制表示信息数据，二进制的信息单位是比特（bit
2024-03-13 17:19:18
本书内容从目录可以看出本书主要是两部分内容，一部分介绍量子计算机原理，一部分介绍其应用。 其实个人也是抱着对这两个问题的兴趣来看的。 究竟什么是量子计算机相信很多读者都是抱着这个疑问
2024-03-11 12:50:10
很高兴，有可以有书看了。
对量子计算感兴趣，要从大概10年前说起了，虽然我之前从事的工作跟计算关系不是很直接。
但是，后来随着接触的任何事情越来越多，才发现，原来很多事情都可以交给机器做了。
于是
2024-03-10 16:33:46
据荷兰《电讯报》3月6日报道，因荷兰政府的反移民政策倾向，光刻机巨头阿斯麦（ASML）正计划搬离荷兰。
2024-03-08 14:02:15179 在曝光过程中，掩模版与涂覆有光刻胶的硅片直接接触。接触式光刻机的缩放比为1:1，分辨率可达到4-5微米。由于掩模和光刻胶膜层反复接触和分离，随着曝光次数的增加，会引起掩模版和光刻胶膜层损坏、芯片良率下降等不良后果。
2024-03-08 10:42:3788 
近日，光刻机巨头ASML传出可能因荷兰政府的反移民政策倾向而考虑迁离本国的消息，这令业界哗然。据悉，荷兰政府为阻止这一可能发生的变故，已专门成立了由首相马克·吕特亲自挂帅的“贝多芬计划”特别工作组。
2024-03-07 15:36:51209 本帖最后由 oxlm_1 于 2024-3-6 23:20 编辑
之所以将第二章单独拿出来，是因为在阅读过程中，发现第二章知识点较多，理解起来比较耗时间。
第二章的主要知识点：
量子
2024-03-06 23:17:41
英特尔最近因决定从荷兰 ASML 购买世界上第一台高数值孔径(High-NA)光刻机而成为新闻焦点。到目前为止，英特尔是全球唯一一家订购此类光刻机的晶圆厂，据报道它们的售价约为3.8亿美元
2024-03-06 14:49:01162 
利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用。
2024-03-06 14:28:5062 
欣喜收到《量子计算机——重构未来》一书，感谢电子发烧友论坛提供了一个让我了解量子计算机的机会！
自己对电子计算机有点了解，但对量子计算机真是一无所知，只是听说过量子纠缠、超快的运算速度等等，越发
2024-03-05 17:37:23
ASML在半导体产业中扮演着举足轻重的角色，其光刻机技术和市场地位对于全球半导体制造厂商来说都具有重要意义。
2024-03-05 11:26:00123 本帖最后由 oxlm_1 于 2024-3-4 23:24 编辑
非常感谢能有这次机会参与《量子计算机重构未来》这本书的试读活动。当看到这本书的测评时，首先好奇的是，量子计算机能做什么，为此
2024-03-04 23:09:44
光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料，可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
2024-03-04 17:19:18399 抓住科技前沿，就是找到人类未来不远了。学习了解量子技术，为人类创造价值。
2024-02-02 13:54:29
来源：DIGITIMES ASIA 佳能预计其纳米压印光刻机将于今年出货，与ASML的EVU设备竞争市场，因为世界各地的经济体都热衷于扩大其本土芯片产能。 佳能董事长兼首席执行官Hiroaki
2024-02-01 15:42:05270 
了解量子计算机对于工业生产和产品研发的使用
2024-02-01 15:30:35
自己从事语音识别产品设计开发，而量子技术和量子计算机必将在自然语言处理方面实现重大突破，想通过此书学习量子计算技术，储备知识，谢谢！
2024-02-01 12:51:50
量子计算，神奇神秘，多多学习，与时俱进！
2024-02-01 09:05:53
光刻机是微电子制造的关键设备，广泛应用于集成电路、平面显示器、LED、MEMS等领域。在集成电路制造中，光刻机被用于制造芯片上的电路图案。
2024-01-29 09:37:24359 
、工作方式和其实际应用进行说明。第 3 章主要介绍在汽车行业及其他制造业中，量子计算机未来将引起怎样的变化，并根据实证实验的事例进行说明。第 4 章给出了细分领域的多家企业人士采访实录，从他们所处领域的角度
2024-01-26 14:00:46
来源：AIot工业检测，谢谢 编辑：感知芯视界 Link 随着芯片需求的不断增长，芯片制造商正加大采购晶圆厂设备的力度，以提高产能。作为EUV光刻机制造商，ASML受益于这一趋势，其2023
2024-01-26 09:20:12409 关于光刻机，大家还记得美国荷兰日本的三方协议吗？来回忆一下。 随着芯片在各个领域的重要性不断提升，人们对芯片制造的关注也日益增加。 但半导体产业链非常复杂，不仅仅涉及到底层的架构设计，还需要通过
2024-01-17 17:56:59292 什么是光电量子计算芯片？ 光电量子计算芯片，也被称为光子量子计算芯片，是一种新型的计算芯片，利用光子来存储和处理信息。它的核心原理是基于光子的量子叠加性和量子纠缠性质，通过精确控制光子携带的信息
2024-01-09 14:42:01241 在10-11月份中国进口ASML的光刻机激增10多倍后，美国官员联系了荷兰政府。荷兰外交发言人表示，出口许可证是根据荷兰国家安全逐案评估的。
2024-01-03 15:22:24553 1. ASML 声明：2050 及2100 光刻机出口许可证已被部分撤销 ASML日前发表声明，称荷兰政府最近部分撤销了此前颁发的NXT:2050i and NXT:2100i光刻机在2023
2024-01-02 11:20:33934 
如果我们假设光刻机成本为 3.5 亿至 4 亿美元，并且 2024 年 10 个光刻机的HIGH NA 销售额将在 35亿至40亿美元之间。
2023-12-28 11:31:39406 从路线图上可以清晰地看到，IBM对于量子比特的未来充满信心，相信在未来的某个时刻，量子比特的限制将不再是制约量子计算机规模的关键因素。
2023-12-26 14:34:03151 
，常见的量子计算芯片中，无论是超导、离子阱，还是光子芯片，都是肉眼可见的。而原子级量子集成电路，则需要通过扫描隧道显微镜等工具才能一探究竟。
2023-12-21 09:58:00300 
光刻与光刻机
➢对准和曝光在光刻机(Lithography Tool)内进行。
➢其它工艺在涂胶显影机(Track)上进行。
光刻机结构及工作原理
➢光刻机简介
➢光刻机结构及工作原理
2023-12-19 09:28:00245 
欢迎了解 光刻机（Lithography Machine）是一种半导体工业中常用的设备，用于将掩模版上的芯片电路图转移到硅片上，是IC制造的核心环节，光刻机的基本工作原理是利用光学原理将图案投射
2023-12-18 08:42:12278 
光学模型是基于霍普金斯（Hopkins）光学成像理论，预先计算出透射相交系数（TCCs），从而描述光刻机的光学成像。光学模型中，经过优化的光源，通过光刻机的照明系统，照射在掩模上。如果在实际光刻
2023-12-11 11:35:32288 
让量子计算机走出实验室真正为人类社会服务量子芯片载板是量子芯片封装中不可或缺的一部分，量子芯片的载板就好比城市的‘地基’，它能够为半导体量子芯片提供基础支撑和信号连接，其上集成的电路和器件可有效提升
2023-12-08 15:51:30211 
IBM展示了一款新的量子运算芯片Heron和量子运算系统Quantum System Two，该公司希望这款芯片和机器能在10年后成为更大系统的基石。据悉，量子运算系统Quantum System Two将搭载3个Heron量子运算芯片。
2023-12-05 10:27:30194 光刻工艺就是把芯片制作所需要的线路与功能做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用
2023-12-04 09:17:241334 
介绍了光量子芯片在未来实现可实用化大规模光量子计算与信息处理应用方面展示出巨大潜力，并对硅基集成光量子芯片技术进行介绍。
2023-11-30 10:33:07673 
超导量子芯片是超导量子计算机的核心，超导量子芯片技术也是超级核心技术，我国首枚超导量子芯片日前已经正式交付。推动了全球量子计算产业链的共同繁荣。 这家企业是国内量子计算行业内最快完成国际化市场布局
2023-11-29 18:49:33922 雕刻电路图案的核心制造设备是光刻机，它的精度决定了制程的精度。光刻机的运作原理是先把设计好的芯片图案印在掩膜上，用激光穿过掩膜和光学镜片，将芯片图案曝光在带有光刻胶涂层的硅片上，涂层被激光照到之处则溶解，没有被照到之处保持不变，掩膜上的图案就被雕刻到芯片光刻胶涂层上。
2023-11-24 12:27:061280 
让量子计算机走出实验室真正为人类社会服务芯片设计离不开EDA软件，传统芯片卡脖子‘第一枪’就是从EDA软件‘打响’的，当时国外公司关闭了EDA对中国用户的供应。EDA是指利用计算机辅助设计软件来完成
2023-11-23 08:22:18218 EUV曝光是先进制程芯片制造中最重要的部分，占据总时间、总成本的一半以上。由于这种光刻机极为复杂，因此ASML每年只能制造约60台，而全球5家芯片制造商都依赖ASML的EUV光刻机，包括英特尔、美光、三星、SK海力士、台积电。目前，AMSL约有70%的EUV光刻机被台积电购买。
2023-11-22 16:46:56383 据了解，量子芯片是利用量子力学原理实现信息的存储、处理和计算，其最核心的是量子比特。相比传统的比特只能存储0或1两种状态，量子比特可以同时处于0和1这两种状态的叠加态，这使得量子芯片能够实现并行计算和高效的信息处理。
2023-11-20 14:42:34478 
颠覆性技术!半导体行业再放大招! 近日，日本佳能官方发布 纳米压印(NIL)半导体制造设备 未来，或将替代ASML光刻机 成为更低成本的芯片制造设备! 要知道，半导体是目前全球经济的核心，在中国
2023-11-08 15:57:14199 
摘要 玻璃基集成光量子芯片已经应用于量子计算、量子模拟、量子通信、量子精密测量等光量子信息处理领域，显示出强大的功能。文章从量子计算和量子模拟两个方面介绍利用飞秒激光三维高精度直写技术在玻璃
2023-10-25 10:04:02507 
大家好，我是硬件花园，一名乐于分享的硬件工程师。关注我，了解更多精彩内容！ 近日，华中科技大学刘世元教授团队成功打破国外垄断，成功研发中国首款完全自主可控的OPC芯片光刻软件。 没有它，即使有光刻机
2023-10-20 08:44:011482 
当制程节点演进到5nm时，DUV和多重曝光技术的组合也难以满足量产需求了，EUV光刻机就成为前道工序的必需品了，没有它，很难制造出符合应用需求的5nm芯片，即使不用EUV能制造出一些5nm芯片，其整个生产线的良率也非常低，无法形成大规模的商业化生产。
2023-10-13 14:45:03834 
UV光刻机一般可以分为5种，即：接触式光刻机，接近式光刻机，扫描投影式光刻机
2023-09-19 11:32:521303 
在芯片制造过程中，光刻机用于在硅片上形成光刻胶图形，作为制造电路的模板。光刻机使用紫外光或其他光源照射硅片上的光刻胶，并通过投影光学系统将图形投射到硅片上，以形成所需的微小结构和图案。
2023-09-12 14:34:372324 光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上，这一过程通过光刻来实现， 光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。
2023-08-23 10:47:531585 
光刻机有半导体工业“皇冠上的明珠“之称，是高速生产芯片所需要的最关键和最复杂的设备之一（一台光刻机有10万个组件）。目前全世界的高端光刻机被荷兰公司ASML垄断（中低端产品美国、日本和中国均能生产），而绝大部分的组件供应商又被美国控制。
2023-08-21 16:09:33472 电子发烧友网报道（文/周凯扬）离商用上真正可行的量子计算机成熟至少也还需要几年的时间，但已经开始有人质疑，目前的EDA工具是否可以满足量子芯片的设计需求？这是因为量子计算的设计，有时会对传统的半导体
2023-08-14 09:32:411348 芯片制造的国产化任重道远，比如在EDA工具的国产化、光刻机等，国产化都还有很长的路要走。有统计数据显示，目前阶段我国在清洗、热处理、去胶设备的国产化率分别达到34％、40％、90％，在涂胶显影、刻蚀
2023-08-09 11:50:204182 随着制程工艺的进步，DRAM内存芯片也面临着CPU/GPU一样的微缩难题，解决办法就是上EUV光刻机，但是设备实在太贵，现在还要榨干DUV工艺最后一滴，DDR5内存有望实现单条1TB。
2023-07-31 17:37:07875 
半导体技术的未来通常是通过光刻设备的镜头来看待的，尽管高度挑战性的技术问题几乎永无休止，但光刻设备仍继续为未来的工艺节点提供更好的分辨率。
2023-07-28 17:41:161130 
EUV（Extreme Ultraviolet）光刻机是一种高级光刻设备，用于半导体制造业中的微电子芯片生产。EUV光刻机是目前最先进的光刻技术之一，它采用极端紫外光作为曝光光源，具有更短的波长
2023-07-24 18:19:471095 摘要 ：随着微电子产业的迅猛发展，我国迫切需要研制极大规模集成电路的加工设备-光刻机。曝光波长为193nm的投影式光刻机因其技术成熟、曝光线宽可延伸至32nm节点的优势已成为目前光刻领域的主流设备
2023-07-17 11:02:38592 
GK-1000光刻掩膜版测温仪，光刻机曝光光学系统测温仪光刻机是一种用于微纳米加工的设备，主要用于制造集成电路、光电子器件、MEMS（微机电系统）等微细结构。光刻机是一种光学投影技术，通过将光线通过
2023-07-07 11:46:07
电子发烧友网报道（文/周凯扬）在上游的半导体制造产业中，除了光刻机等设备外，光刻胶、掩膜版等材料也是决定晶圆质量与良率的关键因素。就拿掩膜版来说，这个承载设计图形的材料，经过曝光后将图形信息转移到
2023-06-22 01:27:001984 因此光刻机对芯片制造非常重要，它是影响芯片制造质量和效率的重要因素。纵观全球光刻机市场，荷兰ASML公司一家独大，占据全球80%的光刻机市场份额，高端EUV光刻机的市占比更是达到100%。
2023-06-20 11:42:271258 文章大纲 光刻是芯片制造最核心环节，大陆自给率亟待提升 ·光刻机是芯片制造的核心设备，市场规模全球第二 ·一超两强垄断市场，大陆卡脖子现象凸显 光刻机：多个先进系统的组合，核心零部件被海外厂商垄断
2023-06-19 10:04:008367 
研发的最先进的硅自旋量子比特芯片，利用了英特尔数十年来积累的晶体管设计和制造能力。 在英特尔的晶圆厂里，Tunnel Falls是在300毫米的硅晶圆上生产的，利用了英特尔领先的晶体管工业化制造能力，如极紫外光刻技术（EUV），以及栅极和接触层加工技术。在硅自旋量子比特中，信息（0/1）被编码
2023-06-17 10:15:03417 
光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机。光刻机既可以用在前道工艺，也可以用在后道工艺，前道光刻机用于芯片的制造，曝光工艺极其复杂，后道光刻机主要用于封装测试，实现高性能的先进封装，技术难度相对较小。
2023-06-15 11:14:533429 
光刻机是芯片制造中最复杂、最昂贵的设备。芯片制造可以包括多个工艺，如初步氧化、涂光刻胶、曝光、显影、刻蚀、离子注入。这个过程需要用到的设备种类繁多，包括氧化炉、涂胶显影机、光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀
2023-06-12 10:13:334452 
光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机。光刻机既可以用在前道工艺，也可以用在后道工艺，前道光刻机用于芯片的制造，曝光工艺极其复杂，后道光刻机主要用于封装测试，实现高性能的先进封装，技术难度相对较小。
2023-06-09 10:49:205857 
够高同样以3400B来说，该EUV光刻机的生产效率是每小时125片晶圆，还不到DUV光刻机生产效率的一半。
随机效应严重DUV时代就存在，但对芯片制造影响不大，因此被芯片代工厂忽略。但在EUV时代，该问题开始严重影响芯片的良率，随芯片工艺尺寸越来越小，随机效应越发明显
2023-06-08 15:56:42283 
。因此，如果芯片厂商想要生产10nm以下的芯片，必须得有ASML供应的EUV光刻机及相应的支持服务。目前最先进的EUV光刻机能制造小于7nm制程的芯片，每台能卖到
2023-06-08 14:55:0020068 
芯片前道制造可以划分为七个环节，即沉积、涂胶、光刻、去胶、烘烤、刻蚀、离子注入。
2023-06-08 10:57:093765 
由于美国的干涉，asml的极紫外线光刻机无法出口到中国，甚至深度紫外线光刻机也受到了限制。很明显，美国不会放松对 EUV光刻机的出口限制。
2023-06-01 10:43:441552 量子芯片是将量子电路小型化、集成化的工程化实现，是量子计算与量子通信等任务实现实用化与商业化的必然路径。根据量子电路所依赖物理平台的不同，量子芯片的技术路线可以分为超导量子芯片、半导体量子点量子芯片、光量子芯片等。
2023-05-30 15:46:101119 
之前的小讲堂有介绍过，光刻过程就好比用照相机拍照，将掩模版上的芯片设计版图曝光到晶圆上，从而制造出微小的电路结构。ASML光刻机的镜片组使用极其精密的加工手段制造，使得最终像差被控制在納米级别，才能稳定地通过曝光印刷微电路。
2023-05-25 10:13:28497 
需要明确什么是EUV光刻机。它是一种采用极紫外线光源进行曝光的设备。与传统的ArF光刻机相比，EUV光刻机可以将曝光分辨率提高到7纳米以下的超高级别，从而实现更高清晰度和更高性能的芯片制造。
2023-05-22 12:48:373985 EUV光刻技术仍被认为是实现半导体行业持续创新的关键途径。随着技术的不断发展和成熟，预计EUV光刻将在未来继续推动芯片制程的进步。
2023-05-18 15:49:041790 
不仅是国内的网友这么认为，唯光刻机论在海外也很有市场，似乎大部分网友都是这样想的，已经到了神化ASML的地步了，只要提到芯片制造就会强调光刻机会卡脖子，而有了光刻机，台积电这样的公司就能随便复制一样。
2023-05-15 11:10:271112 
在集成电路制造领域，如果说光刻机是推动制程技术进步的“引擎”，光刻胶就是这部“引擎”的“燃料”。
2023-05-13 11:28:381121 
在整个芯片制造过程中，几乎每一道工序的实施都离不开光刻技术。光刻技术也是制造芯片最关键的技术，占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:031033 光刻就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用
2023-04-25 11:05:322260 
光刻是在晶圆上创建图案的过程，是芯片制造过程的起始阶段，包括两个阶段——光掩膜制造和图案投影。
2023-04-25 09:22:16696 
内容来源：光明日报光明日报记者常河4月14日是第三个世界量子日。记者从安徽省量子计算工程研究中心获悉，中国量子科技企业正发力打造中国量子芯片设计与生产制造链，成功开发出国产自主量子芯片设计软件及国产量子
2023-04-20 10:21:37542 光刻机是半导体工业中非常重要的设备，用于在半导体芯片制造过程中将芯片图形化。由于光刻机的精度和性能要求非常高，其制造难度也相对较大，目前市场上仅有少数几家公司能够生产出顶级光刻机。那么，中国能否造出顶级光刻机呢？
2023-04-07 13:35:244597 光刻机是芯片智造的核心设备之一，也是当下尤为复杂的精密仪器之一。正因为此，荷兰光刻机智造商阿斯麦通研制的EUV光刻机才会“千金难求”。 很多人都对光刻机有所耳闻，但其实不同光刻机的用途并不
2023-04-06 08:56:49679 
制造量子计算机的硬件系统，由于目前尚处于早期研发阶段，技术难度相对高很多。首先，需要制造量子计算机的核心计算单元——量子处理器（英文简称QPU，也称量子芯片）。
2023-03-31 10:50:16946 为2nm及更先进芯片的生产提供更强大的助力。 计算光刻是芯片设计和制造领域中最大的计算工作负载，每年消耗数百亿CPU小时。而NVIDIA cuLitho计算光刻库利用GPU技术实现计算光刻，可以极大的降低功耗、节省时间。 目前台积电、光刻机制造商阿斯麦，以及EDA巨头新思科技都已经导入
2023-03-23 18:55:377488 
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