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中科院半导体所

文章:842 被阅读:201.8w 粉丝数:132 关注数:0 点赞数:25

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一文了解碳化硅(SiC)半导体结构及生长技术

SiC 是一种二元化合物,其中 Si-Si 键原子间距为3.89 Å,这个间距如何理解呢?目前市面上....
的头像 中科院半导体所 发表于 01-14 14:09 5455次阅读
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利用莫尔图样开发的莫尔突触晶体管

受人脑的启发,研究人员开发出了一种新的突触晶体管,它可以像人脑一样同时处理和存储信息,进行更高层次的....
的头像 中科院半导体所 发表于 01-13 11:12 446次阅读

硅的电阻率和方阻测定和使用问题解析

在MEMS器件设计过程中电学性能是重中之重。MEMS大多数由衬底、介质层和金属层组成,硅衬底、多晶硅....
的头像 中科院半导体所 发表于 01-13 10:38 1759次阅读
硅的电阻率和方阻测定和使用问题解析

盘点人形机器人中的传感器

机器人可以说是目前最炙手可热的话题,人形机器人和通用人工智能可以说是未来科技行业的制高点,工业和信息....
的头像 中科院半导体所 发表于 01-12 10:56 433次阅读
盘点人形机器人中的传感器

详解硅的晶面及应用

研究人员利用硅(100)、(110)和(111)晶面的不同特性对其进行各向异性湿法腐蚀,从而制备出不....
的头像 中科院半导体所 发表于 01-11 10:16 5665次阅读
详解硅的晶面及应用

飞秒激光直写技术:突破光学衍射极限 开启量子制造新时代!

飞秒激光直写技术是一种具备三维加工能力的制造技术,其加工分辨率问题一直是研究者关注的重点和国际研究前....
的头像 中科院半导体所 发表于 01-10 09:57 706次阅读
飞秒激光直写技术:突破光学衍射极限 开启量子制造新时代!

离子注入涉及到的隧道效应为什么需要7°角?

隧道效应,又称沟道效应,对晶圆进行离子注入时,当注入离子的方向与晶圆的某个晶向平行时,其运动轨迹将不....
的头像 中科院半导体所 发表于 01-08 10:25 500次阅读
离子注入涉及到的隧道效应为什么需要7°角?

MEMS制造工艺过程中膜厚测试详解

膜厚测试在MEMS制造工艺中至关重要,它不仅关乎工艺质量,更直接影响着最终成品的性能。为了确保每一片....
的头像 中科院半导体所 发表于 01-08 09:40 333次阅读
MEMS制造工艺过程中膜厚测试详解

硅面临的挑战 硅以外的半导体材料选择

随着技术的快速发展,硅作为传统半导体材料的局限性逐渐显现。探索硅的替代材料,成为了科研领域的重要任务....
的头像 中科院半导体所 发表于 01-08 09:38 281次阅读

SiC外延层的缺陷控制研究

探索SiC外延层的掺杂浓度控制与缺陷控制,揭示其在高性能半导体器件中的关键作用。
的头像 中科院半导体所 发表于 01-08 09:35 785次阅读
SiC外延层的缺陷控制研究

光电智能计算架构和芯片研究

当前,人工智能技术的复兴正引领着新一代信息技术迅猛发展,由电子驱动的计算处理器在过去十年中发生了巨大....
的头像 中科院半导体所 发表于 01-08 09:13 403次阅读
光电智能计算架构和芯片研究

光波干涉的原理是什么?光波干涉的应用有哪些?

介绍了光波干涉的原理是什么,以及该原理可以应用于什么领域。
的头像 中科院半导体所 发表于 01-07 15:41 540次阅读
光波干涉的原理是什么?光波干涉的应用有哪些?

铜材料的CVD工艺是怎么实现的

介绍了铜材料的CVD工艺是怎么实现的以及什么情况下会用到铜CVD工艺。
的头像 中科院半导体所 发表于 01-07 14:08 670次阅读
铜材料的CVD工艺是怎么实现的

原位掺杂、扩散和离子注入的相关原理及其区别介绍

半导体改变电阻率的方式有三种,原位掺杂、扩散和离子注入,这三种方式分别过程如何,有何区别呢?
的头像 中科院半导体所 发表于 01-05 18:21 1603次阅读
原位掺杂、扩散和离子注入的相关原理及其区别介绍

一种用于2D/3D图像处理算法的指令集架构以及对应的算法部署方法

二维(2D)和三维(3D)双模视觉信息在自动驾驶、工业机器人、人机交互等前沿领域具有广泛的应用前景。
的头像 中科院半导体所 发表于 01-05 10:35 218次阅读
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偏振成像激光雷达与短波红外复合光学接收系统设计与分析介绍

三维成像激光雷达因具备主动照明、角度分辨率高、可探测距离信息等优势,被视为是被动遥感和微波雷达后的下....
的头像 中科院半导体所 发表于 01-05 10:29 540次阅读
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谈谈中国激光的技术升级之路

激光陀螺领域,美国是毫无疑问的先发者。激光陀螺不仅集成了光、机、电、算等众多高技术,更涉及超高精度抛....
的头像 中科院半导体所 发表于 01-03 09:45 342次阅读

如何制作出反射率更高的MIR反射镜?

为了提高MIR光谱的灵敏度和分辨率,我们需要使用光学腔来增强光路长度和光强度。光学腔是由两个或多个反....
的头像 中科院半导体所 发表于 01-03 09:43 267次阅读

CFET将开启三维晶体管结构新纪元?

CFET结构“初露端倪”,让业界看到了晶体管结构新的发展前景。然而,业内专家预估,CFET结构需要7....
的头像 中科院半导体所 发表于 01-02 17:34 681次阅读
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利用飞秒激光直写技术制备微光学元件和系统的研究进展

飞秒激光直写是利用飞秒激光的超快脉冲和超强瞬时能量进行微纳米加工的技术。
的头像 中科院半导体所 发表于 01-02 16:57 574次阅读
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几纳米指什么尺寸?了解芯片节点命名的多次更改

在20世纪70年代、80年代和90年代的大部分时间里,最近的金属线半节距和栅极长度半节距的尺寸基本上....
的头像 中科院半导体所 发表于 01-02 11:18 534次阅读
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薄膜淀积工艺的保角性=台阶覆盖性吗?如何做到好的保角性呢?

薄膜的保角性,又称保形性,指的是薄膜淀积台阶覆盖能力和空隙填充能力,以及保留原始形状的能力。
的头像 中科院半导体所 发表于 01-02 10:55 493次阅读
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什么是红外辐射?红外探测器的分类

红外辐射是波长介于可见光与微波之间的电磁波,人眼察觉不到,红外探测器是可以将入射的红外辐射信号转变成....
的头像 中科院半导体所 发表于 01-02 09:56 376次阅读
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如何理解扫描电子显微镜(SEM)中的充电效应

扫描电子显微镜(SEM)已广泛用于材料表征、计量和过程控制的研究和先进制造中,我们在对半导体材料和结....
的头像 中科院半导体所 发表于 12-29 15:57 564次阅读
如何理解扫描电子显微镜(SEM)中的充电效应

靶材的种类及制备工艺 靶材在半导体领域的应用

选择合适的靶材在半导体工艺中十分重要。
的头像 中科院半导体所 发表于 12-28 16:03 445次阅读

介绍一种高度精密的工艺—光刻工艺

用光作为画笔在微纳米世界中作画。
的头像 中科院半导体所 发表于 12-28 16:00 209次阅读

什么是双极性晶体管?双极型晶体管的放大模式解析

双极型晶体管,电子工业的基石,引领着人类科技发展的重要引擎。
的头像 中科院半导体所 发表于 12-28 15:55 1032次阅读
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罗姆与Quanmatic携手合作旨在将量子技术应用于半导体工艺

罗姆(Rohm)与Quanmatics公司合作,首次在大规模半导体生产设施中部署了量子技术。
的头像 中科院半导体所 发表于 12-28 11:42 382次阅读
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伯努利吸盘的应用场景、原理及优势

伯努利吸盘是一种基于伯努利原理而工作的非接触式吸盘。伯努利原理是流体动力学中的一个基本概念,由18世....
的头像 中科院半导体所 发表于 12-27 11:32 743次阅读
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一颗来自40年前的透明芯片究竟暗藏了哪些奥秘

通过拆开老式计算机中损坏的接口芯片时发现一颗透明的芯片。虽然看上去十分魔幻,但该芯片并不是该公司的一....
的头像 中科院半导体所 发表于 12-26 17:13 773次阅读
一颗来自40年前的透明芯片究竟暗藏了哪些奥秘