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中科院半导体所

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一文解析拉曼散射和光谱学

拉曼光谱是一种功能强大且用途广泛的分析技术,用于研究分子和材料样品。该技术基于光的非弹性散射,也称为....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-29 11:36 107次阅读
一文解析拉曼散射和光谱学

关于静电放电你不知道的知识

在整个半导体制造过程中,微粒污染、静电放电损坏以及与此相关联的设备停机,是静电带来的三大问题。
的头像 中科院半导体所 发表于 03-27 11:12 87次阅读

浅析多晶硅锭中位错存在的两种来源

根据晶体凝固生长与位错形成、运动与增殖的理论,多晶硅锭中位错存在两种来源:原生和增殖。
的头像 中科院半导体所 发表于 03-27 11:09 95次阅读
浅析多晶硅锭中位错存在的两种来源

FinFET是什么?22nm以下制程为什么要引入FinFET呢?

随着芯片特征尺寸的不断减小,传统的平面MOSFET由于短沟道效应的限制,难以继续按摩尔定律缩小尺寸。
的头像 中科院半导体所 发表于 03-26 10:19 209次阅读
FinFET是什么?22nm以下制程为什么要引入FinFET呢?

什么是无定形碳膜?为什么选碳作为3D NAND的硬掩模?

无定形碳膜(Amorphous Carbon Film),即非晶碳膜,指的是一种由碳原子构成但没有长....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-22 15:38 114次阅读
什么是无定形碳膜?为什么选碳作为3D NAND的硬掩模?

XeF2和SF6可以相互替换吗?XeF2和SF6对硅腐蚀的区别?

我们知道含F的XeF2和SF6都被当做腐蚀硅的气体,XeF2常被作为各向同性腐蚀硅的气体,而SF6常....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-21 15:06 80次阅读
XeF2和SF6可以相互替换吗?XeF2和SF6对硅腐蚀的区别?

光镊optical tweezers是什么?光镊的用处有哪些呢?

光镊optical tweezers利用光来操纵小到单个原子的微观物体。来自聚焦激光束的辐射压力能够....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-21 11:47 176次阅读
光镊optical tweezers是什么?光镊的用处有哪些呢?

浅析功率半导体IGBT及SiC技术的相关知识

电力电子技术在新能源汽车中应用广泛,是汽车动力总成系统高效、快速、稳定、安全能量变换的基础。
的头像 中科院半导体所 发表于 03-21 10:08 667次阅读
浅析功率半导体IGBT及SiC技术的相关知识

用光子连接悬浮在真空中的纳米粒子,并控制它们之间的相互作用

文本介绍了用光子连接悬浮在真空中的纳米粒子,并控制它们之间的相互作用的实验。这展示了一种在宏观尺度上....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-20 11:47 195次阅读

关于光刻胶的关键参数介绍

与正光刻胶相比,电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-20 11:36 252次阅读
关于光刻胶的关键参数介绍

频率滤波的原理、傅立叶变换与频域滤波以及滤波应用介绍

干涉图是光学实验中常见的现象,它反映了光波相互叠加形成的干涉条纹,展现了光的波动性质。
的头像 中科院半导体所 发表于 03-20 11:05 117次阅读
频率滤波的原理、傅立叶变换与频域滤波以及滤波应用介绍

什么是沟道通孔?沟道通孔刻蚀需要考虑哪些方面?

沟道通孔(Channel Hole)指的是从顶层到底层垂直于晶圆表面,穿过多层存储单元的细长孔洞。
的头像 中科院半导体所 发表于 03-20 10:19 81次阅读
什么是沟道通孔?沟道通孔刻蚀需要考虑哪些方面?

探讨三种超构器件表面的加工方法

超构表面是近年来出现一种新型的光学器件,也被称为超构器件。
的头像 中科院半导体所 发表于 03-19 15:23 107次阅读
探讨三种超构器件表面的加工方法

MEMS工艺中快速退火的应用范围和优势介绍

在MEMS工艺中,常用的退火方法,如高温炉管退火和快速热退火(RTP)。RTP (Rapid The....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-19 15:21 153次阅读
MEMS工艺中快速退火的应用范围和优势介绍

有了2D NAND,为什么要升级到3D呢?

2D NAND和3D NAND都是非易失性存储技术(NVM Non-VolatileMemory),....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-17 15:31 332次阅读
有了2D NAND,为什么要升级到3D呢?

电子束光刻的参数优化及常见问题介绍

本文从光刻图案设计、特征尺寸、电镜参数优化等方面介绍电子束光刻的参数优化,最后介绍了一些常见问题。
的头像 中科院半导体所 发表于 03-17 14:33 197次阅读
电子束光刻的参数优化及常见问题介绍

波长与波数相互转换的方法介绍

光的“颜色”通常通过作为波长 λ 函数的功率或强度分布来识别。可见光的波长范围为约 400 nm 至....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-17 14:23 252次阅读
波长与波数相互转换的方法介绍

FD-SOI与PD-SOI他们的区别在哪?

本文简单介绍了两种常用的SOI晶圆——FD-SOI与PD-SOI。
的头像 中科院半导体所 发表于 03-17 10:10 230次阅读
FD-SOI与PD-SOI他们的区别在哪?

可以用铝或多晶硅做栅极材料,是什么原因呢?

栅(Gate)是一种控制元件,通常用于场效应晶体管(FET)中,比如金属-氧化物-半导体场效应晶体管....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-13 11:41 277次阅读
可以用铝或多晶硅做栅极材料,是什么原因呢?

芯片内部有多小呢?芯片内部为什么能这么小?

芯片藏身于城市中随处可见的电子设备,智能手机、电脑、家电等都离不开它的控制。
的头像 中科院半导体所 发表于 03-12 10:25 133次阅读
芯片内部有多小呢?芯片内部为什么能这么小?

CMOS工艺技术的概念、发展历程、优点以及应用场景介绍

CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor, 互补金属....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-12 10:20 484次阅读
CMOS工艺技术的概念、发展历程、优点以及应用场景介绍

什么是超快激光?超快激光的应用有哪些呢?

激光的原理早在 1916 年已经由著名物理学家爱因斯坦(Albert Einstein)的受激辐射理....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-11 14:36 175次阅读
什么是超快激光?超快激光的应用有哪些呢?

集成电路基础知识介绍:从原子结构到晶体管

在19世纪末期,消费类产品包括照明、加热、电话和电报等一些简单的电路。但是无线电的发明和对于能够整流....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-11 14:32 185次阅读
集成电路基础知识介绍:从原子结构到晶体管

噪声对相位解包裹的影响及其抑制方法研究

当光学粗糙表面被扩展的激光束照射时,形成的图像是斑点图案(亮斑和暗斑)。噪声对相位展开过程产生了灾难....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-11 10:04 111次阅读
噪声对相位解包裹的影响及其抑制方法研究

半导体所研制出室温连续功率4.6W的GaN基大功率紫外激光器

氮化镓(GaN)基材料被称为第三代半导体,其光谱范围覆盖了近红外、可见光和紫外全波段,在光电子学领域....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-08 10:32 397次阅读
半导体所研制出室温连续功率4.6W的GaN基大功率紫外激光器

在SPICE模拟器中应该调谐优化哪些模型参数?需要全部调优吗?

在SPICE模拟器中有几十种标准的半导体器件模型,例如,用于GaN器件的最新ASM-HEMT模型有近....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-06 10:37 158次阅读
在SPICE模拟器中应该调谐优化哪些模型参数?需要全部调优吗?

MCU、DSP、PLC三者的比较和分析

PLC广泛应用于工业自动化控制系统中,包括机床控制、流水线控制、机器人控制、电力系统控制等领域。PL....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-04 14:51 649次阅读

如何在芯片中减少光刻胶的使用量

光刻胶不能太厚或太薄,需要按制程需求来定。比如对于需要长时间蚀刻以形成深孔的应用场景,较厚的光刻胶层....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-04 10:49 154次阅读
如何在芯片中减少光刻胶的使用量

基于SEM的电子束光刻技术开发及研究

电子束光刻(e-beam lithography,EBL)是无掩膜光刻的一种,它利用波长极短的聚焦电....
的头像 中科院半导体所 发表于 03-04 10:19 249次阅读
基于SEM的电子束光刻技术开发及研究

光学巴比涅原理及应用

巴比涅原理‍‍‍,也译作巴俾涅原理,指在点光源照射下,一个不透光物体产生的衍射图样和一个带有与该物体....
的头像 中科院半导体所 发表于 02-29 14:39 333次阅读
光学巴比涅原理及应用