光刻机不光是制造芯片用。一张平面(不论硅片还是什么材料)想刻出繁复的图案,都可以用光刻——就像照相,图像投在感光底片上,蚀掉一部分。半个多世纪前,美国人用这个原理“印刷”电路,从而有了大规模集成电路——芯片。为了节能和省硅料,芯片越做越小,逼得光刻机越做越极端。线条细到一定程度,投影就模糊了。要清晰投影,线条粗细不能低于光波长的一半。顶尖光刻机用波长13.5纳米的极紫外光源,好刻10纳米以下的线条。但稳定的、大功率的极紫外光源很难造,一个得3000万元人民币。要求工作环境严苛,配合的光学和机械部件又极端精密,所以荷兰的ASML公司独家垄断极紫外光刻机,创造了“一台卖一亿美金”的神话。
一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。光刻机,可以说是我国目前还需要进行大力研发的核心科技之一。由于光刻机涉及到的工艺过于复杂和高端,虽然我国一直在做出努力,但依然是很难与世界上的一流企业相比肩。光刻机可以说得上是世界上最难以掌握的现代工业之一了,所以光刻机也被称为现代光学工业之花。
光刻机到底是什么首先我们来看看什么是光刻机。光刻机主要用于芯片的生产,芯片在现代人生活中的作用恐怕没有人不会不知道的。手机、电脑等等的电子设备,离开了芯片就是一堆破铜烂铁,所以没有了光刻机,就制造不出芯片,没有芯片,也就没有手机和电脑。
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原文标题:国产光刻机真的这么厉害吗?这些光刻机知识您得知道
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