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苏州硅时代推出快速制版服务

MEMS 来源:麦姆斯咨询 作者:麦姆斯咨询 2021-05-09 09:38 次阅读

据麦姆斯咨询介绍,掩膜版(Photomask)又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等,是微电子制造过程中的图形转移工具或母版,是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。在MEMS加工过程中,光掩模版被定义为在一次曝光中能把图形转移到整个硅片中(或另一张光掩模版上)的工具。

掩膜版主要由基板和遮光膜两个部分组成。

基板分为树脂基板和玻璃基板。用以制作掩模版的掩膜基板必须内部和两表面都无缺陷。必须于光刻胶的曝光波长下有高的光学透射率。用来制作掩模版的常见材质有石英玻璃,苏打玻璃等。

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苏州硅时代的快速制版业务选用进口原材料,并根据客户不同应用场景合理推荐高性价比光刻版。

根据遮光膜种类的不同,可以分为硬质遮光膜和乳胶。光掩膜按用途分类可分为四种,分别为铬版(chrome)、干版、液体凸版和菲林。其中,铬版精度最高,耐用性更好,铬是最广泛应用的材料,,它以溅射或蒸发的方式淀积到圆片上。尽管溅射铬比蒸发铬的反射性强,但用抗反射膜可以弥补。抗反射膜包含一层薄的(200A)的Cr2O3,从而降低反射率。

铬版广泛应用于平板显示、IC、印刷线路板和精细电子元器件行业;干版、液体凸版和菲林主要用于中低精度LCD行业、PCB及IC载板等行业。

光刻掩膜版的制作流程主要分为以下几步:

图形光刻:通过光刻机进行激光光束直写完成图形曝光。通过激光作用使需要曝光区域的光刻胶内部发生交联反应,从而产生性能改变。

显影:将曝光完成后的掩膜版显影,以便进行蚀刻。在显影液的作用下,经过激光曝光区域的光刻胶会溶解,而未曝光区域则会保留并继续保护铬膜。

蚀刻:对铬层进行蚀刻,保留图形。在蚀刻液的作用下,没有光刻胶保护的区域会被腐蚀溶解,而有光刻胶保护的区域的铬膜则会保留。

脱膜:光刻胶的保护功能已经完成,脱膜工序通过脱膜液去除多余光刻胶。

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目前高端掩膜版受制于国外,国内市场主要还是中低端掩膜版,国外的掩膜版厂家主要以日本凸版印刷TOPAN、日本大印刷,美国Photronics,日本豪雅HOYA,日本SK电子等,国内掩膜版市场主要被几家大型制版厂垄断,分别为超大Foundry、国有大型制版厂两类,设计公司及中小客户更多依赖中小型制版厂。

超大Foundry、国有大型制版厂主要服务于大型工厂及规模性设计公司,光刻掩膜版资源紧张,平均制作周期再15~30天,交货周期较长,价格较高,中小型制版厂主要服务于中小规模设计公司及高校科研院所,制版周期短,质量参差不齐,价格悬殊较大,技术水平差异大。

苏州硅时代采用标准化制版流程,严控质量关,严把价格关,让利中小企业,服务广大客户,提供7x24小时技术支持,一对一技术交流,实现快速制版,三天交付。

苏州硅时代电子科技有限公司简介

Paving the way for customer‘s MEMS

快速制版业务:www.mask-making.com

微纳代工业务:www.si-era.com

联系方式:0512-62996316/15301560529

信号:mask15301560529

邮箱:sales@mask-making.com

苏州硅时代电子科技有限公司(Si-Era),位于国内最大的MEMS产业集聚区——苏州纳米城。利用MEMS领域近20年的技术积累,在MEMS传感器、生物MEMS、光学MEMS以及射频MEMS方面都拥有大量的设计和工艺经验。

基于成熟的设计及工艺团队,苏州硅时代面向MEMS领域,提供全方位的技术服务。可提供MEMS芯片定制设计开发、集成电路芯片设计、MEMS芯片工艺验证、MEMS芯片小批量试制、MEMS芯片中试化量产、MEMS芯片封装方案设计等系统解决方案,也提供MEMS设计、加工、测试等单步或多步工艺实验开发。

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在MEMS加工(微纳加工)、MEMS代工(微纳代工)领域,拥有丰富的技术积累和工艺经验,在掩膜版制作方面积累了丰富的经验,可提供快速制版,三天交付的专业服务,苏州硅时代电子科技有限公司作为一家专注于MEMS设计、MEMS加工的高技术公司,拥有丰富的MEMS加工资源,可实现4/6/8寸MEMS芯片设计、代工,以及多种单步工艺代工的完整工艺能力。具备成熟的光刻、刻蚀、镀膜、封装、测试等微纳加工能力。所使用设备状况精良,设备能力优异,并可多工艺合作开发,高效评估,高质量实施,全流程收集实验数据,精细的流程管理以及优质的服务。

责任编辑:lq

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原文标题:掩膜版服务领军企业——苏州硅时代推出快速制版服务

文章出处:【微信号:MEMSensor,微信公众号:MEMS】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

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