0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

应用材料增价59%收购国际电气 为获得薄膜沉积技术

21克888 来源:互联网 作者:综合报道 2021-01-06 10:04 次阅读

美国半导体设备制造商应用材料本周一表示,计划以35亿美元价格(较先前报价增加59%),从私募股权公司KKR手中收购规模较小的日本同行国际电气(Kokusai Electric),理由是其前景良好且估值较高。收购国际电气将使应用材料获得其薄膜沉积技术。


据日经新闻报道,应用材料在在向美国证券交易委员会提交的文件中表示,将向私募股权业者KKR支付35亿美元收购国际电气,高于先前已同意的22亿美元出价。双方已同意将收购截止日期延后三个月至3月19日,因为还需解决中国的监管批准。应用材料表示,截止本申请之日,除了中国大陆之外其他地区监管部门的批准均已获得。

实际上,应用材料早在2019年7月就提议收购国际电气,但由于中国监管当局迟迟不批准,无法完成交易,这也是双方要签订本桩收购案之前的最后一道监管障碍。应用材料首席财务官Dan Durn在2020年2月的财报电话会议上表示,“我们预计将在今年年中完成Kokusai交易。”但是此后,中美技术紧张局势进一步恶化,美国对一些中国最大的公司实施了制裁,其中包括华为、中芯国际等,中国半导体行业也受到了一定程度打击。

目前应用材料在半导体设备市场已经占据了主导地位,若与国际电气合并,将进一步巩固其垄断地位。

根据上述文件,应用材料表示“相信这桩收购案将为应材股东带来十足的价值”,“在过去18个月,应用材料已观察到整个半导体设备市场长期展望愈来愈有利,包括在存储领域有正面趋势。”日经新闻曾报导,国际电气拥有用于薄膜沉积设备的技术,这也是应用材料希望能购并国际电气的原因。

本文由电子发烧友综合报道,内容参考自日经新闻、应用材料,转载请注明以上来源。
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 半导体
    +关注

    关注

    327

    文章

    24186

    浏览量

    201077
  • 应用材料公司

    关注

    0

    文章

    56

    浏览量

    16815
  • 国际电气
    +关注

    关注

    0

    文章

    1

    浏览量

    2323
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    流量控制器在半导体加工工艺化学气相沉积(CVD)的应用

    薄膜沉积是在半导体的主要衬底材料上镀一层膜。这层膜可以有各种各样的材料,比如绝缘化合物二氧化硅,半导体多晶硅、金属铜等。用来镀膜的这个设备就叫薄膜
    的头像 发表于 03-28 14:22 81次阅读
    流量控制器在半导体加工工艺化学气相<b class='flag-5'>沉积</b>(CVD)的应用

    用材料宣布与谷歌合作,开发AR技术

    此外,应用材料公司的保罗·迈斯纳博士指出,本司将运用先进光学技术及卓越轻量化设计理念,助力新一代AR产品的诞生。他还强调,应用材料与谷歌的联合,将为AR产品打开无限可能。
    的头像 发表于 01-11 09:51 141次阅读

    化学气相沉积与物理气相沉积的差异

    在太阳能电池的薄膜沉积工艺中,具有化学气相沉积(CVD)与物理气相沉积(PVD)两种薄膜沉积方法
    的头像 发表于 12-26 08:33 360次阅读
    化学气相<b class='flag-5'>沉积</b>与物理气相<b class='flag-5'>沉积</b>的差异

    一文详解金属薄膜沉积工艺及金属化

    金属栅极的沉积方法主要由HKMG的整合工艺决定。为了获得稳定均匀的有效功函数,两种工艺都对薄膜厚度的均匀性要求较高。另外,先栅极的工艺对金属薄膜没有台阶覆盖性的要求,但是后栅极工艺因为
    的头像 发表于 12-11 09:25 714次阅读
    一文详解金属<b class='flag-5'>薄膜</b><b class='flag-5'>沉积</b>工艺及金属化

    溅射沉积薄膜的微观结构和应力演化

    众所周知,材料的宏观性质,例如硬度、热和电传输以及光学描述符与其微观结构特征相关联。通过改变加工参数,可以改变微结构,从而能够控制这些性质。在薄膜沉积的情况下,微结构特征,例如颗粒尺寸和它们的颗粒
    的头像 发表于 11-22 10:20 217次阅读
    溅射<b class='flag-5'>沉积</b>镍<b class='flag-5'>薄膜</b>的微观结构和应力演化

    钙钛矿太阳能电池沉积ITO薄膜的核心技术——真空蒸镀

    在钙钛矿太阳能电池的生产工艺中,ITO薄膜沉积是能够提升钙钛矿太阳能电池光电转换率的关键步骤,其中,真空蒸镀沉积技术可较为便捷的制备高纯度、高质量的ITO
    的头像 发表于 10-10 10:15 671次阅读
    钙钛矿太阳能电池<b class='flag-5'>沉积</b>ITO<b class='flag-5'>薄膜</b>的核心<b class='flag-5'>技术</b>——真空蒸镀

    沉积氮化硅薄膜的重要制备工艺——PECVD镀膜

    PECVD作为太阳能电池生产中的一种工艺,对其性能的提升起着关键的作用。PECVD可以将氮化硅薄膜沉积在太阳能电池片的表面,从而有效提高太阳能电池的光电转换率。但为了清晰客观的检测沉积后太阳能电池
    的头像 发表于 09-27 08:35 1879次阅读
    <b class='flag-5'>沉积</b>氮化硅<b class='flag-5'>薄膜</b>的重要制备工艺——PECVD镀膜

    异质结电池的ITO薄膜沉积

    由于异质结电池不同于传统的热扩散型晶体硅太阳能电池,因此在完成对其发射极以及BSF的注入后,下一个步骤就是在异质结电池的正反面沉积ITO薄膜,ITO薄膜能够弥补异质结电池在注入发射极后的低导电性
    的头像 发表于 09-21 08:36 413次阅读
    异质结电池的ITO<b class='flag-5'>薄膜</b><b class='flag-5'>沉积</b>

    技术前沿:原子层沉积ALD介绍

    薄膜沉积是指在基底上沉积特定材料形成薄膜,使之具有光学、电学等方面的特殊性能。
    的头像 发表于 07-13 09:10 7923次阅读
    <b class='flag-5'>技术</b>前沿:原子层<b class='flag-5'>沉积</b>ALD介绍

    韫茂科技获数亿元融资,加快薄膜沉积设备量产

    韫茂科技成立于2018年,致力于成为平台形态的纳米级薄膜沉积设备制造企业。目前拥有ald原子层沉积系统、pvd物理气体沉积系统、cvd化学气体沉积
    的头像 发表于 06-28 10:41 547次阅读

    原子层ALD沉积介绍

    原子层沉积(Atomic layer deposition,ALD)是一种可以沉积单分子层薄膜的特殊的化学气相沉积技术
    的头像 发表于 06-15 16:19 2085次阅读
    原子层ALD<b class='flag-5'>沉积</b>介绍

    与传统溅射或热蒸发技术相比,离子束辅助沉积有哪些优势?

    离子束辅助沉积 (IBAD) 是一种薄膜沉积技术,可与溅射或热蒸发工艺一起使用,以获得具有出色工艺控制和精度的最高质量
    的头像 发表于 06-08 11:10 1024次阅读
    与传统溅射或热蒸发<b class='flag-5'>技术</b>相比,离子束辅助<b class='flag-5'>沉积</b>有哪些优势?

    浅析芯片沉积工艺

    在了解芯片沉积工艺之前,先要阐述下薄膜(thin film)的概念。薄膜材料是厚度介于单原子到几毫米间的薄金属或有机物层。
    的头像 发表于 06-08 11:00 2241次阅读
    浅析芯片<b class='flag-5'>沉积</b>工艺

    基于PVD 薄膜沉积工艺

    PVD篇 PVD是通过溅射或蒸发靶材材料来产生金属蒸汽,然后将金属蒸汽冷凝在晶圆表面上的过程。应用材料公司在 PVD 技术开发方面拥有 25 年以上的丰富经验,是这一领域无可争议的市场领导者
    的头像 发表于 05-26 16:36 1790次阅读

    晶圆制造的三大核心之薄膜沉积的原子层沉积(ALD)技术

    ALD技术是一种将物质以单原子膜的形式逐层镀在基底表面的方法,能够实现纳米量级超薄膜沉积
    发表于 04-25 16:01 2511次阅读
    晶圆制造的三大核心之<b class='flag-5'>薄膜</b><b class='flag-5'>沉积</b>的原子层<b class='flag-5'>沉积</b>(ALD)<b class='flag-5'>技术</b>