0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

中芯国际EUV光刻机谈判在即?

我快闭嘴 来源:创投时报 作者:BU 2021-01-04 14:28 次阅读

受前段时间,CEO梁孟松辞职的影响,中芯国际股价一度出现大幅动荡。

但在12月30日,中芯国际H股价格一度上涨超过16%,中芯国际的市值大涨167亿。而在次日,中芯国际股价再度飙升8.33%,令人瞩目。

关于中芯国际市值上涨的缘由,有消息称是受EUV光刻机谈判在即的影响。一旦EUV光刻机到手,国产芯片有望打通5nm。

不久前曾有消息人士称,中芯国际将寻求同荷兰ASML就EUV光刻机问题展开谈判的机会,希望能采购EUV光刻机。

据悉,这项谈判的牵线人,便是近来回归中芯国际的蒋尚义。或许这是为何,中芯国际执意邀请蒋尚义回归的原因。

蒋尚义曾是台积电核心人物,不仅有着丰厚的经验,在半导体行业的威望也颇高。中芯国际与ASML的谈话,很大概率是由蒋尚义促成。

目前,中芯国际可量产制程已经来到了14nm,产能正在不但扩大。而中芯国际第二代N+1制程,也可以进行小量试产,预计在2021年实现风险量产。

中芯国际的第二代N+1制程,虽然芯片本身并不是7nm制程,但效果却同7nm相近。

同时,据曝光的梁孟松辞职信上显示,在5nm、3nm上,中芯国际也做好了准备。据悉,中芯国际5nm和3nm最核心的8大项技术已经有序展开,只待EUV光刻机的到来,就可以进入全面开发阶段。

也就是说,一旦EUV光刻机到手,中芯国际便有望攻克5nm难题,带领国产芯片追上台积电、三星

由此,中芯国际市值数日实现增长。不过,想要买到ASML的EUV光刻机谈何容易,要绕过美国的重重阻挠。

2018年,中芯国际便成功向ASML订购一台EUV光刻机,并约定在2019年年初交货。但是,此事最终在美国对荷兰政府的多次施压下,没有了音讯。

至今,ASML的这台EUV光刻机还没有到厂。因此,中芯国际若是真与ASML谈成功,又该如此抵住美国的压力,是一个不小的问题。

EUV光刻机制作复杂、工作量庞大,从生产到交付大约要一年的时间,在这一年里,可能会有很多意想不到的问题发生,令人担忧。

不过,尽管困难颇多,还是希望中芯国际能够买来EUV光刻机,带领国产芯片突破海外垄断,保证中国芯片产业安全可控。

你认为,中芯国际买到EUV光刻机的可能性大吗?
责任编辑:tzh

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 芯片
    +关注

    关注

    446

    文章

    47683

    浏览量

    408736
  • 中芯国际
    +关注

    关注

    27

    文章

    1388

    浏览量

    64953
  • 三星电子
    +关注

    关注

    34

    文章

    15600

    浏览量

    180092
  • EUV
    EUV
    +关注

    关注

    8

    文章

    568

    浏览量

    85574
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    纳米压印光刻技术应用在即,能否掀起芯片制造革命?

    电子发烧友网报道(文/李宁远)提及芯片制造,首先想到的自然是光刻机光刻技术。而众所周知,EUV光刻机产能有限而且成本高昂,业界一直都在探索不完全依赖于
    的头像 发表于 03-09 00:15 3081次阅读

    光刻机的发展历程及工艺流程

    光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次从接触接近式光刻机
    发表于 03-21 11:31 545次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的发展历程及工艺流程

    ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装

    3 月 13 日消息,光刻机制造商 ASML 宣布其首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 已完成安装,新机型将带来更高的生产效率。 ▲ ASML 在 X 平台上的相关动态
    的头像 发表于 03-14 08:42 100次阅读
    ASML 首台新款 <b class='flag-5'>EUV</b> <b class='flag-5'>光刻机</b> Twinscan NXE:3800E 完成安装

    光刻胶和光刻机的区别

    光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
    的头像 发表于 03-04 17:19 680次阅读

    三星希望进口更多ASML EUV***,5年内新增50台

    EUV曝光是先进制程芯片制造中最重要的部分,占据总时间、总成本的一半以上。由于这种光刻机极为复杂,因此ASML每年只能制造约60台,而全球5家芯片制造商都依赖ASML的EUV光刻机,包
    的头像 发表于 11-22 16:46 405次阅读

    什么是EUV光刻EUV与DUV光刻的区别

    EUV 光是指用于微芯片光刻的极紫外光,涉及在微芯片晶圆上涂上感光材料并小心地将其曝光。这会将图案打印到晶圆上,用于微芯片设计过程中的后续步骤。
    发表于 10-30 12:22 792次阅读

    能耗成了EUV***的最大掣肘

    电子发烧友网报道(文/周凯扬)随着双碳目标的提出,越来越多的行业应用开始注意到能耗问题,尤其是在半导体制造设备上。就拿我们常常提及的EUV光刻机来说,就是一个不折不扣的耗电大户,结合光刻半导体
    的头像 发表于 10-25 01:14 1086次阅读

    日本的EUV***引进之路

    电子发烧友网报道(文/周凯扬)随着欧美韩等国家均已引进EUV光刻机,为其晶圆代工厂提供最先进的工艺支持,日本虽然半导体制造水平这些年来提升不大,却也计划引进EUV光刻机来打破这一困局,
    的头像 发表于 10-10 01:13 1470次阅读

    EUV光刻:缩小的艺术,制程的新篇章

    制程工艺EUV光刻机
    北京中科同志科技股份有限公司
    发布于 :2023年09月02日 09:32:27

    EUV光刻市场高速增长,复合年增长率21.8%

    EUV掩膜,也称为EUV掩模或EUV光刻掩膜,对于极紫外光刻(EUVL)这种先进光刻技术至关重要
    的头像 发表于 08-07 15:55 416次阅读

    EUV光刻DDR5内存狂飙 单条1TB不是梦

    随着制程工艺的进步,DRAM内存芯片也面临着CPU/GPU一样的微缩难题,解决办法就是上EUV光刻机,但是设备实在太贵,现在还要榨干DUV工艺最后一滴,DDR5内存有望实现单条1TB。
    的头像 发表于 07-31 17:37 903次阅读
    <b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>DDR5内存狂飙 单条1TB不是梦

    EUV***市场:增长趋势、竞争格局与前景展望

    EUV(Extreme Ultraviolet)光刻机是一种高级光刻设备,用于半导体制造业中的微电子芯片生产。EUV光刻机是目前最先进的
    的头像 发表于 07-24 18:19 1114次阅读

    ASML的EUV***研发历程

    asml是euv技术开发的领先者。asml公司是半导体领域光刻机生产企业的领头羊,也是全球市场占有率最大的光刻机生产企业。2012年,asml推出了世界上第一个euv试制品,并于201
    的头像 发表于 06-08 09:37 3272次阅读

    一文看懂EUV光刻

    极紫外 (EUV) 光刻系统是当今使用的最先进的光刻系统。本文将介绍这项重要但复杂的技术。
    发表于 06-06 11:23 729次阅读
    一文看懂<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>

    什么是EUV***?

    需要明确什么是EUV光刻机。它是一种采用极紫外线光源进行曝光的设备。与传统的ArF光刻机相比,EUV光刻机可以将曝光分辨率提高到7纳米以下的
    发表于 05-22 12:48 4034次阅读