台积电和三星均已投入5nm工艺的量产,前者代工的产品包括苹果A14、M1、华为麒麟9000等,后者则包括Exynos 1080、骁龙888等。
其实从7nm开始,台积电和三星就开始引入EUV光刻,但过程层数较少。按照ASML(阿斯麦)的说法,迭代到5nm后,EUV的层数达到了10~14层,包括但不限于触点、过孔以及关键金属层等过程。未来的3nm、2nm,对EUV的依赖将更甚。
根据最新数据显示,ASML在12月中完成了第100台EUV光刻机的出货。更加利好的消息是,业内预估ASML今年(2021年)的EUV光刻机产能将达到45~50台的规模。
毕竟,2019年ASML仅出货了26台,去年三季度后全年累计出货23台(全年预估35台),可谓少得可怜。
另外,ASML定于明年中旬交付最新一代EUV光刻机TWINSCAN NXE:3600D,生产效率提升18%、机器匹配套准精度改进为1.1nm,单台价格或高于老款的1.2亿欧元(约合9.5亿元人民币)。
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