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EUV工艺已拉响战局 美光计划在2021年持续加码投资DRAM

454398 来源:闪存市场 作者:闪存市场 2021-02-27 12:09 次阅读

美光计划在 2021 年提出建设 A5 厂项目的申请,持续加码投资 DRAM,将用于 1Znm 制程之后的微缩技术发展。

据悉,目前美光在台湾地区布局,包括中科的前段晶圆制造 A1、A2 厂和后段封装厂,在桃园有 A、B 两厂,其中 1Znm 产线主要位于台中厂,而桃园厂则以 1ynm 量产技术为主。此外,美光正在新建 A3 工厂洁净室,预估将在 2021 年投入量产 1Znm 或 1α技术,进一步扩大先进技术的量产规模。

图源:美光

美光 2021 年 A5 厂建设计划主要彰显了美光对 DRAM 未来发展的乐观看法,也提高了美光在台湾地区 DRAM 生产基地的重要战略地位。不过,目前美光没有透露 A5 投产计划的细节,对于新厂地址也不予评论。

美光投资建厂不断,对短期 DRAM 市场影响有限,新产能将在 2021 年放量

据中国闪存市场 ChinaFlashMarket 数据,2020 年第二季度 DRAM 整体销售额 170.6 亿美元,环比增长 15%,同比增长 16%,三星、SK 海力士、美光三大原厂占据 95%以上的市场份额,一直处于全球垄断地位,而美光市场份额占比 21.2%,排名第三,原厂 DRAM 扩产动作对市场影响深远。

图源:中国闪存市场 ChinaFlashMarket

2020 年由于受“疫情”影响,导致全球经济不景气,尤其是到下半年,据中国闪存市场 ChinaFlashMarket 报价,在近 2 个月的时间里,服务器 DRAM 出现了小幅度的价格下滑,消费类内存条价格跌幅也超过 10%,部分产品价格跌幅甚至已超过了 20%,包括原厂、品牌厂等存储产业链企业出货和获利均面临压力。

9 月份是传统的“备货时期”,再加上华为备货、物流紧张等影响,行业市场订单略有好转,渠道市场询单也有所增加,市场价格初现回温迹象。然而,A5 工厂是继 A3 新工厂之后,美光又一新厂建设项目,意在持续加码在 DRAM 领域的投资。面对美光投资扩产消息,业内人士不免会担忧,恐会抑制当前市场需求回暖。

不过,根据投资建厂的进度,美光正在新建 A3 工厂洁净室,预估将在 2021 年 Q1 投入量产 1Znm 或 1α技术,而 A5 工厂规划的是在 2021 年开始建设,预估投产的时间节点将在 2022 年,也就是说美光投资导致的 DRAM 产出明显增加将从 2021 年开始,所以短期对 DRAM 市场的影响是有限的。

EUV 工艺已拉响战局,美光新建 A5 工厂或为导入 EUV 工艺准备

2020 年三大原厂三星、美光、SK 海力士等 DRAM 技术主要是从 1Ynm 全面向 1Znm 推进,这也是 DRAM 第三代 10nm 级技术。但是 DRAM 到第四代 10nm 级之后,原厂将会大规模的导入 EUV 工艺。

在 EUV 工艺方面,三星从 1Znm 制程就在导入 EUV 工艺,可谓抢占了先机。今年 3 月,三星率先宣布已经成功出货 100 万个业界首款基于极紫外光(EUV)技术的 10nm 级(D1x)DDR4 模块。8 月三星再次宣布位于韩国平泽市的第二条生产线(P2 工厂)已开始导入极紫外(EUV)技术批量生产 16Gb LPDDR5。新 16Gb LPDDR5 采用的是三星第三代 10nm 级(1znm)工艺为基础,拥有更高容量和更高性能,能够满足下一代智能手机5GAI 功能的应用。

为了加快下一代技术的发展,SK 海力士内部也已经成立了研究小组,专门针对 DRAM 技术的 EUV 光刻展开相关研究,并着手研发 1anm DRAM 技术,内部的代号为“南极星”,工艺节点将在 15nm 左右,预计将会在该制程中引入 EUV 光刻技术。

此外,SK 海力士也在建设利川“ M16”工厂,目前该工厂还在建设中,安装设备后计划于 2021 年 1 月投产,初期 12 英寸晶圆产出 1.5 万 -2 万片 / 月,或用于扩大新一代 DDR5 产量,以及导入 EUV 工艺,量产 1anm DRAM。

至于美光,DRAM 1Ynm 和 1Znm 技术节点产量已超过 50%,根据规划,1Znm DRAM 技术之后将向 1α、1β、1γ发展。在 2 年前,美光曾表示在 1α及 1β工艺之前不会用到 EUV。但是,随着三星导入 EUV 工艺,以及 DRAM 价格在近 2 年时间里持续下滑,使得美光重新评估 EUV 工艺的导入时间节点,而将在 2021 年规划开建的 A5 或是未雨绸缪,以便带来更优的 DRAM 成本效益。

就在几年前,美光在加工技术方面远远落后于竞争对手。今天,该公司仍然落后于三星,但似乎已经能够超越 SK 海力士。基于其新的路线图,该公司仍然积极推出基于 DUV 的节点,因此它将向感兴趣的各方提供具有竞争力的 DDR 和 LPDDR 设备。此外,DDR5 的开发似乎在技术和制造过程方面都在走上正轨。

美光还在扩大其 DRAM 生产能力(下一代工艺和下一代存储器所需),因此假设其产品足够好,它将能够保持其市场份额。了解美光之后,我们知道美光更感兴趣的是利润丰厚的专业 / 颠覆性解决方案,而不是 DRAM 产品本身。

看起来有点令人不安的是,美光似乎对 EUV 光刻过于谨慎。根据最近的评论,该公司只是在评估技术,但(据我们所知)没有投资为 EUV 准备的洁净室。极紫外光刻并不是一个短期或中期的问题,但是看到美光如此害羞地谈论它有点奇怪。

总体而言,美光对 DRAM 市场的前景以及未来的竞争地位持乐观态度,预计各种新兴应用(自动驾驶汽车,AI / ML,物联网等)将被广泛采用。
编辑:hfy

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