0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

ASML最新一代EUV光刻生产效率增加18%

21克888 来源:电子发烧友 作者:Norris 2020-10-16 10:24 次阅读

本土晶圆代工企业崛起之际,设备进口议题备受关注。光刻机龙头ASML近日表示,从荷兰向中国出口DUV光刻机无需许可证。


“根据当前法规,ASML无需获得美国出口许可证便可以继续从荷兰向中国客户出货DUV光刻系统;对于直接从美国发货系统或零件到受法规影响的客户,ASML需获得许可证。”光刻机龙头ASML总裁兼CEO Peter Wennink 在最新季度财报说明会上对中芯国际等中国客户的出货情况做了解释。

ASML近日公布了光刻机产品的最新进展。其中TWINSCAN NXE:3600D作为其目前研发中的最先进光刻机系统,终于敲定最终规格。具体来说,30mJ/cm2的曝光速度达到每小时曝光160片晶圆,提高了18%的生产率,并改进机器匹配套准精度至1.1nm。

3600D定于2021年中旬出货交付,客户还需要一定时间等待,价格应该不会低于现款老型号的1.2亿美元。

目前,ASML已经投产的最先进光刻机是3400C,但主力出货型号是3400B。参数方面,3400B的套刻精度为2nm、曝光速度20mJ/cm2,每小时可曝光125片晶圆。

另外,ASML透露,3400B在三季度也完成了软件升级。全新的DUV光刻机TWINSCAN NXT:2050i已经在三季度结束验证,四季度早期开始正式出货。

据悉,在截止9月30日的单季度,ASML共获得60台光刻机收入,出货了10台EUV光刻机。关于最为先进的EUV光刻机出口中国的政策,ASML并未提及。

本文由电子发烧友综合报道,内容参考自ASML,CnBeta,转载请注明以上来源。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • EUV
    EUV
    +关注

    关注

    8

    文章

    561

    浏览量

    85561
  • ASML
    +关注

    关注

    7

    文章

    659

    浏览量

    40656
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装

    3 月 13 日消息,光刻机制造商 ASML 宣布其首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 已完成安装,新机型将带来更高的
    的头像 发表于 03-14 08:42 40次阅读
    <b class='flag-5'>ASML</b> 首台新款 <b class='flag-5'>EUV</b> <b class='flag-5'>光刻</b>机 Twinscan NXE:3800E 完成安装

    三星清空ASML股份,11年盈利超16倍

    根据资料显示,在2012年,为了支持ASML EUV光刻机的研发与商用,并获得EUV光刻机的优先供应,在2012年,英特尔、台积电、三星均斥
    的头像 发表于 02-23 17:27 567次阅读

    ASML为什么能在EUV领域获胜?

    在讨论ASML以及为何复制其技术如此具有挑战性时,分析通常集中在EUV机器的极端复杂性上,这归因于竞争对手复制它的难度。
    发表于 01-17 10:46 116次阅读
    <b class='flag-5'>ASML</b>为什么能在<b class='flag-5'>EUV</b>领域获胜?

    三星希望进口更多ASML EUV***,5年内新增50台

    EUV曝光是先进制程芯片制造中最重要的部分,占据总时间、总成本的一半以上。由于这种光刻机极为复杂,因此ASML每年只能制造约60台,而全球5家芯片制造商都依赖ASML
    的头像 发表于 11-22 16:46 387次阅读

    今日看点丨骁龙 7 Gen 3 测试版规格曝光;消息称三星将投资 10 万亿韩元用于半导体设备,大量采购 ASML EUV

    1. 消息称三星将投资 10 万亿韩元用于半导体设备,大量采购 ASML EUV 光刻机   据报道称,三星计划进口更多 ASML 极紫外(EUV
    发表于 11-15 09:59 600次阅读

    ASML携全景光刻解决方案亮相进博会

    第六届进博会于近日在上海国家会展中心正式收官,ASML2023进博之旅也圆满落幕! 今年,ASML继续以“光刻未来,携手同行”为主题,携全景光刻解决方案惊艳亮相,还创新性地带来了“芯”
    的头像 发表于 11-11 15:23 601次阅读
    <b class='flag-5'>ASML</b>携全景<b class='flag-5'>光刻</b>解决方案亮相进博会

    佳能纳米压印半导体制造机价格或比ASML EUV设备低一位数

    据悉,asml是唯一的极紫外光刻工具供应商,极紫外线刻印工具是世界上最先进的芯片制造机器,每台价值数亿美元。euv设备是数十年研究和投资的产物,是大规模生产最快、能源
    的头像 发表于 11-06 09:29 383次阅读

    什么是EUV光刻EUV与DUV光刻的区别

    EUV 光是指用于微芯片光刻的极紫外光,涉及在微芯片晶圆上涂上感光材料并小心地将其曝光。这会将图案打印到晶圆上,用于微芯片设计过程中的后续步骤。
    发表于 10-30 12:22 667次阅读

    ASML如何能干掉两个行业巨头,进而成为垄断EUV领域的光刻巨人

    光刻机有半导体工业“皇冠上的明珠“之称,是高速生产芯片所需要的最关键和最复杂的设备之一(一台光刻机有10万个组件)。目前全世界的高端光刻机被荷兰公司
    的头像 发表于 08-21 16:09 479次阅读

    EUV光刻市场高速增长,复合年增长率21.8%

    EUV掩膜,也称为EUV掩模或EUV光刻掩膜,对于极紫外光刻(EUVL)这种先进光刻技术至关重要
    的头像 发表于 08-07 15:55 402次阅读

    ASML产品路线图曝光,EUV***出货已超200台

    euv光刻系统从2014年第一季度到2019年第四季度,nxe:3400c在客户端使用30 mj/cm2的电力,达到了约140芯片/小时的生产效率。nxe:3600d在现场的功率为30
    的头像 发表于 07-31 10:07 768次阅读
    <b class='flag-5'>ASML</b>产品路线图曝光,<b class='flag-5'>EUV</b>***出货已超200台

    日本与荷兰签署半导体合作备忘录:采购 ASML ***,加强技术合作

    报道称,ASML 量产尖端半导体工艺所需的 EUV 光刻机。Rapidus 计划利用经产省提供的补贴,采购 EUV 光刻设备。IT之家注意到
    的头像 发表于 06-27 16:08 504次阅读
    日本与荷兰签署半导体合作备忘录:采购 <b class='flag-5'>ASML</b> ***,加强技术合作

    极紫外光刻随机效应的表现及产生原因

      极紫外光刻的制约因素   耗电量高极紫外线波长更短,但易被吸收,可利用率极低,需要光源提供足够大的功率。如ASML 3400B光刻机,250W的功率,每天耗电达到三万度。   生产
    发表于 06-08 15:56 286次阅读
    极紫外<b class='flag-5'>光刻</b>随机效应的表现及产生原因

    ASMLEUV***研发历程

    asmleuv技术开发的领先者。asml公司是半导体领域光刻生产企业的领头羊,也是全球市场占有率最大的
    的头像 发表于 06-08 09:37 3215次阅读

    一文看懂EUV光刻

    极紫外 (EUV) 光刻系统是当今使用的最先进的光刻系统。本文将介绍这项重要但复杂的技术。
    发表于 06-06 11:23 689次阅读
    一文看懂<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>