0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

离子刻蚀机 解剖芯片

电子工程师 来源:上海季丰电子 作者:上海季丰电子 2020-09-27 18:34 次阅读

责任编辑:xj

原文标题:芯片解剖,逐层剥离

文章出处:【微信公众号:上海季丰电子】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 芯片
    +关注

    关注

    445

    文章

    47496

    浏览量

    407915
  • 反应离子刻蚀

    关注

    0

    文章

    5

    浏览量

    1784

原文标题:芯片解剖,逐层剥离

文章出处:【微信号:zzz9970814,微信公众号:上海季丰电子】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    浅析反应离子刻蚀工艺技术

    刻蚀气体在等离子体中分解电离,形成离子和自由基等刻蚀类物质,称为Enchant → Enchant到达晶圆表面的过程。
    的头像 发表于 03-27 16:11 248次阅读
    浅析反应<b class='flag-5'>离子刻蚀</b>工艺技术

    什么是线刻蚀 干法线刻蚀的常见形貌介绍

    刻蚀过程中形成几乎完全垂直于晶圆表面的侧壁,是一种各向异性的刻蚀刻蚀后的侧壁非常垂直,底部平坦。这是理想的刻蚀形态,它能够非常精确地复制掩膜上的图案。
    发表于 03-27 10:49 50次阅读
    什么是线<b class='flag-5'>刻蚀</b> 干法线<b class='flag-5'>刻蚀</b>的常见形貌介绍

    中微公司喜迎ICP刻蚀设备Primo nanova®系列第500台付运里程碑

    中微公司的电感耦合等离子体(ICP)刻蚀设备Primo nanova系列第500台反应腔顺利付运国内一家先进的半导体芯片制造商。
    的头像 发表于 03-21 15:12 142次阅读

    刻蚀机是干什么用的 刻蚀机和光刻机的区别

    刻蚀机的刻蚀过程和传统的雕刻类似,先用光刻技术将图形形状和尺寸制成掩膜,再将掩膜与待加工物料模组装好,将样品置于刻蚀室内,通过化学腐蚀或物理磨蚀等方式将待加工物料表面的非掩膜区域刻蚀
    的头像 发表于 03-11 15:38 622次阅读
    <b class='flag-5'>刻蚀</b>机是干什么用的 <b class='flag-5'>刻蚀</b>机和光刻机的区别

    什么是刻蚀呢?干法刻蚀与湿法刻蚀又有何区别和联系呢?

    在半导体加工工艺中,常听到的两个词就是光刻(Lithography)和刻蚀(Etching),它们像俩兄弟一样,一前一后的出现,有着千丝万缕的联系,这一节介绍半导体刻蚀工艺。
    的头像 发表于 01-26 10:01 599次阅读
    什么是<b class='flag-5'>刻蚀</b>呢?干法<b class='flag-5'>刻蚀</b>与湿法<b class='flag-5'>刻蚀</b>又有何区别和联系呢?

    干法刻蚀常用设备的原理及结构

    干法刻蚀技术是一种在大气或真空条件下进行的刻蚀过程,通常使用气体中的离子或化学物质来去除材料表面的部分,通过掩膜和刻蚀参数的调控,可以实现各向异性及各向同性
    的头像 发表于 01-20 10:24 1201次阅读
    干法<b class='flag-5'>刻蚀</b>常用设备的原理及结构

    为什么深硅刻蚀中C4F8能起到钝化作用?

    对DRIE刻蚀,是基于氟基气体的高深宽比硅刻蚀技术。与RIE刻蚀原理相同,利用硅的各向异性,通过化学作用和物理作用进行刻蚀。不同之处在于,两个射频源:将等
    的头像 发表于 01-14 14:11 557次阅读
    为什么深硅<b class='flag-5'>刻蚀</b>中C4F8能起到钝化作用?

    湿法刻蚀液的种类与用途有哪些呢?湿法刻蚀用在哪些芯片制程中?

    湿法刻蚀由于成本低、操作简单和一些特殊应用,所以它依旧普遍。
    的头像 发表于 11-27 10:20 484次阅读
    湿法<b class='flag-5'>刻蚀</b>液的种类与用途有哪些呢?湿法<b class='flag-5'>刻蚀</b>用在哪些<b class='flag-5'>芯片</b>制程中?

    什么是刻蚀的选择性?刻蚀选择比怎么计算?受哪些因素的影响呢?

    刻蚀(或蚀刻)是从晶圆表面去除特定区域的材料以形成相应微结构。但是,在目标材料被刻蚀时,通常伴随着其他层或掩膜的刻蚀
    的头像 发表于 10-07 14:19 2186次阅读
    什么是<b class='flag-5'>刻蚀</b>的选择性?<b class='flag-5'>刻蚀</b>选择比怎么计算?受哪些因素的影响呢?

    干法刻蚀与湿法刻蚀各有什么利弊?

    在半导体制造中,刻蚀工序是必不可少的环节。而刻蚀又可以分为干法刻蚀与湿法刻蚀,这两种技术各有优势,也各有一定的局限性,理解它们之间的差异是至关重要的。
    的头像 发表于 09-26 18:21 3427次阅读
    干法<b class='flag-5'>刻蚀</b>与湿法<b class='flag-5'>刻蚀</b>各有什么利弊?

    芯片制造的刻蚀工艺科普

    在半导体制程工艺中,有很多不同名称的用于移除多余材料的工艺,如“清洗”、“刻蚀”等。如果说“清洗”工艺是把整张晶圆上多余的不纯物去除掉,“刻蚀”工艺则是在光刻胶的帮助下有选择性地移除不需要的材料,从而创建所需的微细图案。半导体“刻蚀
    发表于 09-24 17:42 1033次阅读
    <b class='flag-5'>芯片</b>制造的<b class='flag-5'>刻蚀</b>工艺科普

    上海伯东大口径射频离子源成功应用于12英寸IBE 离子束蚀刻机

    上海伯东美国 KRi 考夫曼公司大口径射频离子源 RFICP 380, RFICP 220 成功应用于 12英寸和 8英寸 IBE 离子束蚀刻机, 实现 300mm 和 200mm 硅片蚀刻, 刻蚀
    的头像 发表于 06-15 14:58 674次阅读
    上海伯东大口径射频<b class='flag-5'>离子</b>源成功应用于12英寸IBE <b class='flag-5'>离子</b>束蚀刻机

    芯片制造光刻步骤详解

    芯片前道制造可以划分为七个环节,即沉积、涂胶、光刻、去胶、烘烤、刻蚀离子注入。
    的头像 发表于 06-08 10:57 3837次阅读
    <b class='flag-5'>芯片</b>制造光刻步骤详解

    半导体图案化工艺流程之刻蚀简析

    图案化工艺包括曝光(Exposure)、显影(Develope)、刻蚀(Etching)和离子注入等流程。
    的头像 发表于 04-28 11:24 1088次阅读
    半导体图案化工艺流程之<b class='flag-5'>刻蚀</b>简析

    半导体行业之刻蚀工艺介绍

    压力主要控制刻蚀均匀性和刻蚀轮廓,同时也能影响刻蚀速率和选择性。改变压力会改变电子和离子的平均自由程(MFP),进而影响等离子体和
    的头像 发表于 04-17 10:36 1968次阅读