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中芯国际或直接跳过10nm工艺节点 今年有望看到国产7nm工艺

半导体动态 来源:快科技 作者:宪瑞 2020-01-07 09:54 次阅读

作为中国半导体行业最薄弱但也是最重要的环节,芯片工艺一直是国内的痛点,所以国内最大的晶圆代工厂中芯国际任重而道远。此前中芯国际已经表态14nm工艺已经试产,今年就会迎来一轮爆发,年底的产能将达到目前的3-5倍,同时今年内还有可能试产更先进的7nm工艺。

中芯国际的14nm工艺从2015年开始研发,已经进行了多年,在2019年就已经解决技术问题了,之前有报道援引中芯国际高管的表态,称14nm工艺的良率已经达到了95%,技术成熟度还是很不错的。

不过良率达标之后,大规模量产还是个一道坎,这个过程需要有14nm工艺客户的支持,精英代工是看客户需求的,客户需求高,产能才有可能建设的更大。在这一点上,中芯国际相比台积电、三星是有劣势的,后两家的14nm同级工艺都已经过了折旧期了,成本优势明显,中芯国际只能依靠国内的客户。

截至2019年底,中芯国际的14nm产能据悉只有3000到5000晶圆/月,不过2020年14nm产能会增长很快,年底的时候将达到15000片晶圆/月,是目前的3-5倍,最多能增长400%。

14nm之后还有改进型的12nm FinFET工艺,根据中芯国际之前介绍,该工艺相比14nm晶体管尺寸进一步缩微,功耗降低20%、性能提升10%,错误率降低20%,预计今年上半年就会贡献收入。

再往后中芯国际表示还会有N+1及N+2代FinFET工艺,其中今年内有望小规模量产N+1代工艺。

只是中芯国际没有明确这里的N指代的是哪种工艺,考虑到他们很有可能会跳过10nm工艺节点,那么N+1代应该就是7nm节点了,意味着我们今年就有可能看到国产的7nm工艺。

即便中芯国际不跳过10nm节点,那么今年国内的工艺也能追赶到10nm节点,跟台积电、三星还是会落后一到两代,但是已经足够先进了。

责任编辑:wv

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