11月25日,市场研究公司总裁罗伯特·卡斯特拉诺(Robert Castellano)表示:“过去三年来,应用材料一直在晶圆制造前段工序(WFE)的设备市场上失去市场份额,而 ASML却将凭借其价格高昂的EUV光刻设备大批出货实现超越,取代应用材料成为最大的半导体设备公司。”
据了解,应用材料在2018年的市场份额为19.2%(低于2015年的23.0%),今年小幅增长到了19.4%。而ASML的市场份额今年有望从2018年的18.0%增长到21.6%。
卡斯特拉诺还表示,到2020年,整个WFE市场将迎来5%的小幅增长,再加上半导体制造商原先计划的资本支出,ASML的市场份额有望进一步提高到22.8%,而应用材料将保持其19.3%的份额。
根据集微网此前报道,ASML称,第3季度售出了7套EUV系统,仅EUV设备就带来了7.43亿欧元的营收。另外,第3季度还接到了23套EUV系统的订单。
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
-
晶圆
+关注
关注
52文章
4523浏览量
126417 -
EUV
+关注
关注
8文章
575浏览量
85578
发布评论请先 登录
相关推荐
ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装
3 月 13 日消息,光刻机制造商 ASML 宣布其首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 已完成安装,新机型将带来更高的生产效率。 ▲ ASML 在 X 平台上的相关动态
什么是EUV光刻?EUV与DUV光刻的区别
EUV 光是指用于微芯片光刻的极紫外光,涉及在微芯片晶圆上涂上感光材料并小心地将其曝光。这会将图案打印到晶圆上,用于微芯片设计过程中的后续步骤。
发表于 10-30 12:22
•827次阅读
能耗成了EUV***的最大掣肘
电子发烧友网报道(文/周凯扬)随着双碳目标的提出,越来越多的行业应用开始注意到能耗问题,尤其是在半导体制造设备上。就拿我们常常提及的EUV光刻机来说,就是一个不折不扣的耗电大户,结合光刻
EUV光刻胶开发面临哪些挑战?
EUV光刻胶材料是光敏物质,当受到EUV光子照射时会发生化学变化。这些材料在解决半导体制造中的各种挑战方面发挥着关键作用,包括提高灵敏度、控制分辨率、减少线边缘粗糙度(LER)、降低释气和提高热稳定性。
发表于 09-11 11:58
•394次阅读
EUV光刻DDR5内存狂飙 单条1TB不是梦
随着制程工艺的进步,DRAM内存芯片也面临着CPU/GPU一样的微缩难题,解决办法就是上EUV光刻机,但是设备实在太贵,现在还要榨干DUV工艺最后一滴,DDR5内存有望实现单条1TB。
EUV***市场:增长趋势、竞争格局与前景展望
EUV(Extreme Ultraviolet)光刻机是一种高级光刻设备,用于半导体制造业中的微电子芯片生产。EUV
ASML的EUV***研发历程
asml是euv技术开发的领先者。asml公司是半导体领域光刻机生产企业的领头羊,也是全球市场占有率最大的光刻机生产企业。2012年,asml推出了世界上第一个euv试制品,并于201
EUV光刻技术优势及挑战
EUV光刻技术仍被认为是实现半导体行业持续创新的关键途径。随着技术的不断发展和成熟,预计EUV光刻将在未来继续推动芯片制程的进步。
发表于 05-18 15:49
•1899次阅读
评论