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三星痛下决心,自研极紫外光(EUV)光阻剂

中国半导体论坛 来源:YXQ 2019-07-26 15:44 次阅读

7月4日,日本正式对出口南韩的氟聚酰亚胺、光阻剂及高纯度氟化氢进行管制,8月南韩也可能从白名单国家除名。三星电子不想让半导体先进制程受日本材料箝制,近日传出与国内材料业者,共同投入极紫外光(EUV)光阻剂研发!

三星光阻剂的3大主要厂商,包括东京应化工业、信越化学工业。日本政府对韩国实施出口管制后,3大厂商均停止了供货。

三星预计今年底发表的7纳米芯片,恐受到拖累而延后,而三星明年要推出的旗舰机也会受波及,甚至冲击三星企图挑战台积电龙头地位,在2023年将先进晶圆代工市占从不到10%冲上25%可能有变数。

半导体分析师Mark Li认为,寻找光阻剂替代供应商难度很高,就算找到新供应来源,所有制程和设计须重新测试,至少得花1年时间才能运作。这也许是三星痛下决心,自研光光阻剂的原因。

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原文标题:三星自研EUV光刻胶!

文章出处:【微信号:CSF211ic,微信公众号:中国半导体论坛】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

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