半导体腐蚀新技术
2012年02月03日 15:05 本站整理 作者:辰光 用户评论(0)
美国伊利诺伊大学的研究人员发明了一种化学腐蚀新技术,可以在砷化镓(GaAs)中生成图形化阵列。该技术使高端光电装置的制备变得更容易。相关研究论文于11月3日在线发表在《纳米快报》(Nano Letters)上。
通常用两种方法来进行半导体腐蚀:湿法腐蚀和干法腐蚀。在光电应用方面,III-V族半导体GaAs是比硅性能更好的半导体材料。大的宽高比结构对高端光电装置应用至关重要,但是GaAs难以用传统干法腐蚀来得到大的宽高比结构。李秀玲(Xiuling Li)领导的小组优化了MacEtch方法(金属辅助化学腐蚀方法),同时为了在GaAs表面生长金属薄膜图案,李秀玲小组完善出一种软刻蚀技术。李秀玲说,结合软刻蚀技术和MacEtch方法可以以低成本的方式大面积生产高宽高比的III-V族纳米结构半导体。
李秀玲表示,只要找到合适的刻蚀条件,MacEtch方法就可以广泛应用。
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( 发表人:灰色天空 )