您好,欢迎来电子发烧友网! ,新用户?[免费注册]

您的位置:电子发烧友网>电子百科>半导体技术>半导体器件>

分布布拉格反射(DBR)半导体激光器结构原理简介

2010年04月02日 15:47 www.elecfans.com 作者:佚名 用户评论(0

分布布拉格反射(DBR)半导体激光器结构原理简介

结构及工作机理

DBR激光器的腔体结构与F—P腔激光器不同,其基本原理是基于布拉格发射,如图2—80所示。布拉格发射是指在两种不同介质的交界面上,具有周期性的反射点,当光入射时,将产生周期性的反射,这种反射即称为布拉格发射。交界面本身可以取不同的形状:正弦波形或非正弦(如:方波、三角波等)。

在图2—80(a) 中,若:

image:bk0715430f_1.gif (2—107)

其中m为整数,image:bk0715430f_2.gif为介质中的光波长,为空气中的光波长, 为等效折射率。

根据图中所示关系,可得

image:bk0715430f_5.gif(2—108)

在上式满足时,图中1,2,3的反射光进行干涉,其相位差为image:bk0715430f_6.gif的整数倍。式(2—108)即称为布拉格条件,其物理意义是:对特定的A和θ,有一个image:bk0715430f_6.gif与之对应,具有image:bk0715430f_6.gif波长的光所产生的各个反射光将产生干涉。

非常好我支持^.^

(16) 72.7%

不好我反对

(6) 27.3%

( 发表人:admin )

      发表评论

      用户评论
      评价:好评中评差评

      发表评论,获取积分! 请遵守相关规定!