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电子发烧友网>制造/封装>半导体技术>半导体新闻>EUV到来之前的顶梁柱,你真的了解浸入式光刻吗?

EUV到来之前的顶梁柱,你真的了解浸入式光刻吗?

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芯片制造关键的EUV光刻机单价为何能超1亿欧元?

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EUV光刻机被已经准备好了,各大企业的争夺战开始打响

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极紫外(EUV光刻新挑战,除了光刻胶还有啥?

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EUV光刻机对半导体制程的重要性

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台积电将包揽ASML这批EUV光刻机中的18台

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ASML发布2019年Q2季度财报 EUV光刻机最主要的问题还是产能不足

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自动驾驶量产路在何方

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动态 | 阿斯麦发布Q2财报:EUV光刻机产能大增

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2019-07-23 10:47:213102

关于EUV光刻机的分析介绍

格芯首席技术官Gary Patton表示,如果在5nm的时候没有使用EUV光刻机,那么光刻的步骤将会超过100步,这会让人疯狂。所以所EUV光刻机无疑是未来5nm和3nm芯片的最重要生产工具,未来围绕EUV光刻机的争夺战将会变得异常激烈。因为这是决定这些厂商未来在先进工艺市场竞争的关键。
2019-09-03 17:18:1812845

全球已打通5G VoNR的语音和视频电话的厂商有哪些

在5G发展初期,运营商需要依靠4G VoLTE担当语音业务的顶梁柱,随着5G网络的全面覆盖和深入优化后,5G再充分利用VoNR,作为主流的语音技术解决方案。
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半导体巨头为什么追捧EUV光刻

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2月28日,美国泛林公司宣布与ASML阿斯麦、IMEC比利时微电子中心合作开发了新的EUV光刻技术,不仅提高了EUV光刻的良率、分辨率及产能,还将光刻胶的用量最多降至原来的1/10,大幅降低了成本。
2020-02-29 11:20:583228

EUV光刻机到底是什么?为什么这么贵?

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ASML研发新一代EUV光刻机 分辨率能提升70%左右

EUV光刻机方面,荷兰ASML(阿斯麦)公司垄断了目前的EUV光刻机,去年出货26台,创造了新纪录。据报道,ASML公司正在研发新一代EUV光刻机,预计在2022年开始出货。
2020-03-17 09:13:482863

曝ASML新一代EUV光刻机预计2022年开始出货 将进一步提升光刻机的精度

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坚持国企改革的正确方向,充分发挥国有经济的制度优势

李锦认为,当前,国际形势严峻复杂,国内经济处于爬坡过坎阶段,央企、国企在“六保”中发挥发挥顶梁柱、压舱石作用。三年行动方案会在现实背景下得到进一步催化。
2020-06-09 10:12:382920

EUV光刻机全球出货量达57台

与此同时, 他指出,EUV继续为ASML的客户提高产量,迄今为止,他们的客户已经使用EUV光刻机曝光了超过1100万个EUV晶圆,并交付了57个3400x EUV系统(3400平台是EUV生产平台)。
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分析总结2020上半年国家电网、南方电网和五大发电集团业绩

告别火热的8月,各家上市企业纷纷亮出了中报“成绩单”。作为电力行业“风向标”和“顶梁柱”的国家电网、南方电网、五大发电集团,也集体公布了上半年业绩。
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EUV光刻机还能卖给中国吗?

ASML的EUV光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备,其中10nm及以下的芯片制造,EUV光刻机必不可缺。一台EUV光刻机的售价为1.48亿欧元,折合人民币高达11.74亿元
2020-10-19 12:02:499648

ASML的EUV光刻机已成台积电未来发展的“逆鳞”

台积电是第一家将EUV(极紫外)光刻工艺商用到晶圆代工的企业,目前投产的工艺包括N7+、N6和N5三代。
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三星要求ASML在一个月内交付9台EUV光刻设备

据韩媒报道,三星副董事长李在镕在访问荷兰期间,在会议上要求ASML在一个月内交付三星已购买的9台EUV光刻设备。 报道称,ASML正在审查三星的要求,这部分EUV设备最早可于11月运往韩国。 据悉
2020-10-30 14:13:081269

目前全球只有荷兰ASML有能力生产EUV光刻

11月5日,世界光刻机巨头荷兰阿斯麦ASML亮相第三届进博会。作为全球唯一能生产EUV(极紫外光)光刻机的企业,由于ASML目前仍不能向中国出口EUV光刻机,所以此次展示的是其DUV(深紫外光)光刻机。据悉,该产品可生产7nm及以上制程芯片。
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ASML向中国出售EUV光刻机,没那么容易

中国需要光刻机,尤其是支持先进制程的高端光刻机。具体来说,就是 EUV (极紫外光源)光刻机。
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全球EUV光刻专利哪家强?卡尔蔡司位居第一

在半导体工艺进入7nm之后,EUV光刻机就成为兵家必备大杀器了,全球也只有ASML公司能生产,单价达到10亿人民币一台。不过在EUV技术上,ASML还真不一定就是第一,专利比三星还少。
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极紫外(EUV光刻技术将如何影响掩模收入?

体上,三分之二的调查参与者认为这将产生积极的影响。前往EUV时,口罩的数量减少了。这是因为EUV将整个行业带回单一模式。具有多个图案的193nm浸入需要在高级节点处使用更多的掩模。
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台积电现采购 35 台 EUV 光刻机,占 ASML 过半产量

据中国台湾经济日报报道,EUV 光刻机制造商 ASML 首席执行官 Peter Wennink 带领高管拜访三星,双方寻求技术与投资合作。三星希望能抢在台积电之前,取得 ASML 下一代 EUV
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为何只有荷兰ASML才能制造顶尖EUV光刻机设备?

自从芯片工艺进入到7nm工艺时代以后,需要用到一台顶尖的EUV光刻机设备,才可以制造7nm EUV、5nm等先进制程工艺的芯片产品,但就在近日,又有外媒豪言:这种顶尖的EUV极紫外光刻机,目前全球
2020-12-03 13:46:226379

三星扩大部署EUV光刻工艺

继SK海力士日前宣布在M14和建设中的M16工厂均引入EUV光刻机后,三星也坐不住了。 按照三星的说法,自2014年以来,EUV光刻参与的晶圆超过了400万片,公司积累了丰富的经验,也比其它厂商掌握
2020-12-04 18:26:542201

台积电为1nm制程狂购EUV光刻

之前有消息称,台积电正在筹集更多的资金,为的是向ASML购买更多更先进制程的EUV光刻机,而这些都是为了新制程做准备。
2020-12-29 09:22:482192

中芯国际将针对EUV光刻设备寻求与阿斯麦进行谈判

EUV光刻(即极紫外光刻)利用波长非常短的光,在硅片上形成数十亿个微小结构,构成一个芯片。与老式光刻机相比,EUV设备可以生产更小、更快、更强大的芯片。
2020-12-29 16:20:301425

台积电向ASML购买更多更先进制程的EUV光刻

Luc Van den hove表示,IMEC的目标是将下一代高分辨率EUV光刻技术高NA EUV光刻技术商业化。由于此前得光刻机竞争对手早已经陆续退出市场,目前ASML把握着全球主要的先进光刻机产能,近年来,IMEC一直在与ASML研究新的EUV光刻机,目前目标是将工艺规模缩小到1nm及以下。
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为何EUV光刻机会这么耗电呢

EUV(极紫外光)光刻机,是目前半导体产业已投入规模生产使用的最先进光刻机类型。近来,有不少消息都指出,EUV光刻机耗电量非常大,甚至它还成为困扰台积电的一大难题。 为何EUV光刻机会这么耗电
2021-02-14 14:05:003915

日本在EUV光刻机部件地位上不可忽略

近期三星为争抢EUV设备,高层频频传出密访ASML,EUV的重要性早已不言而喻。提到EUV,大家首先想到的就是ASML,ASML并不是一个家喻户晓的名字,但他却是现代技术的关键。因为它提供了制造半导体必不可少的“光刻”机器,在摩尔定律即将发展到尽头的现在,可以说,得EUV者得先进工艺。
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为什么都抢着买价格更昂贵的EUV光刻机?

目前,还有ASML有能力生产最先进的EUV光刻机,三星、台积电都是ASML的客户。但受《瓦森纳协定》的制约,中国大陆没有从ASML买来一台EUV光刻机。
2021-01-21 08:56:184078

ASML今年将出货交付40台EUV光刻

在四季度财报会议上,荷兰ASML(阿斯麦)表示,预计今年将出货交付40台EUV光刻机,比去年多9台。
2021-01-21 15:16:431369

ASML垄断第五代光刻EUV光刻机:一台利润近6亿

%,净利润达到36亿欧元。全球光刻机主要玩家有ASML、尼康和佳能三家,他们占到了全球市场90%。 ASML由于技术领先,一家垄断了第五代光刻EUV光刻机,这类光刻机用于制造7nm以下先进制程的芯片。 2020年ASML对外销售了31台EUV光刻机,带来了45亿欧元(折合352.52亿
2021-01-22 10:38:164677

ASML下一代EUV光刻机延期:至少2025年

ASML公司前两天发布了财报,全年净销售额140亿欧元,EUV光刻机出货31台,带来了45亿欧元的营收,单价差不多11.4亿欧元了。 虽然业绩增长很亮眼,但是ASML也有隐忧,实际上EUV光刻
2021-01-22 17:55:242639

20年EUV光刻机量产历程挽救摩尔定律

2019 年底在旧金山举办的年度国际电子元件会议(IEDM)上,台积电公布的两个报告标志着集成电路制造迈入了EUV 光刻时代。第一个报告宣布了应用EUV 光刻技术的7 纳米世代的改良版芯片已经
2021-02-19 09:18:203017

SK海力士豪掷4.8万亿韩元抢购EUV光刻

随着半导体工艺进入10nm节点以下,EUV光刻机成为制高点,之前台积电抢购了全球多数的EUV光刻机,率先量产7nm、5nm工艺,现在内存厂商也要入场了,SK海力士豪掷4.8万亿韩元抢购EUV光刻机。
2021-02-25 09:28:551644

SK海力士与ASML签合同:SK海力士豪掷4.8万亿韩元抢购EUV光刻

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2021-02-25 09:30:232047

SK海力士砸4.8万亿韩元买EUV光刻

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三星一方面在积极向唯一的EUV光刻机厂商ASML争取订单,另外一方面也在增资为EUV产业链输血。
2021-03-04 09:52:411757

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日前,ASML产品营销总监Mike Lercel向媒体分享了EUV(极紫外)光刻机的最新进展。
2021-03-19 09:39:404630

EUV光刻机何以造出5nm芯片

电子发烧友网报道(文/周凯扬)作为近乎垄断的光刻机巨头,ASML的EUV光刻机已经在全球顶尖的晶圆厂中获得了使用。无论是英特尔、台积电还是三星,EUV光刻机的购置已经是生产支出中很大的一笔,也成了
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在评判手机“性能”的关键指标中,GPU地位是如何逐步攀升的?

被行业广泛认可的高通Adreno也在不断进化,从2007-2008年的Adreno 130、2009-2010年的Adreno 2xx、2011-2013年的Adreno 3xx逐渐发展到现如今再一次令业内惊叹的全新Adreno,成为了骁龙8的性能顶梁柱
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EUV光刻技术助力半导体行业发展

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关于EUV光刻机的缺货问题

台积电和三星从7nm工艺节点就开始应用EUV光刻层了,并且在随后的工艺迭代中,逐步增加半导体制造过程中的EUV光刻层数。
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三星董事李在镕亲自拜访ASML,只为争取到EUV光刻

据外媒报道称,三星电子公司董事李在镕今天将起身前往荷兰拜访光刻机厂商ASML,此举表明三星很有可能会大量采购光刻机。 据了解,李在镕将会在荷兰待上11天,此次花费十多天前往荷兰拜访ASML,有多家
2022-06-07 14:18:041176

HVM中用于光刻EUV源:历史和前景

HVM中的EUV光刻 •背景和历史 •使用NXE的EUV光刻:3400B •EUV生成原理 •EUV来源:架构 •现场EUV源 •电源展望 •总结
2022-06-13 14:45:450

台积电将于2024年引进ASML最新EUV光刻机,主要用于相关研究

年引进ASML最先进的High-NA EUV光刻机,并且推动台积电的创新能力。不过另一位高管补充道:台积电并不打算在2024年将High-NA EUV光刻机投入到生产工作中去,将首先与合作伙伴进行相关的研究。 据了解,High-NA EUV光刻机的High-NA代表的是高数值孔径,相比于现在的光刻技术,
2022-06-17 16:33:276499

EUV光刻机售价超26亿,Intel成为首位买家,将于2025年首次交付

3nm制程,据了解,更加先进的制程就需要更先进的光刻机来完成了。 光刻机厂商ASML为此正在研发新一代High NA EUV光刻机,这种EUV光刻机的NA数值孔径比现在0.33口径的EUV光刻机还要高,达到了0.55口径,也就是说High NA EUV光刻机的分辨率更高,能
2022-06-28 15:07:126676

euv光刻机三大核心技术 哪些公司有euv光刻

中国芯的进步那是有目共睹,我国在光刻机,特别是在EUV光刻机方面,更是不断寻求填补空白的途径。
2022-07-05 10:38:3516742

euv光刻机可以干什么 光刻工艺原理

光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机。
2022-07-06 11:03:077000

中国euv光刻机三大突破 光刻机的三个系统

如今世界最先进的EUV光刻机,只有asml一家公司可以制造出来。
2022-07-06 11:19:3850686

euv光刻机出现时间 ASML研发新一代EUV光刻

EUV光刻机是在2018年开始出现,并在2019年开始大量交付,而台积电也是在2019年推出了7nm EUV工艺。
2022-07-07 09:48:444523

euv光刻机目前几纳米 中国5纳米光刻机突破了吗

大家都知道,芯片制造的核心设备之一就是光刻机了。现在,全球最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机,那么euv光刻机目前几纳米呢? 到现在,世界上最先进的光刻机能够实现5nm的加工。也就是荷兰
2022-07-10 11:17:4242766

euv光刻机是哪个国家的

说到芯片,估计每个人都知道它是什么,但说到光刻,许多人可能不知道它是什么。光刻机是制造芯片的机器和设备。没有光刻机的话,就无法生产芯片,因此每个人都知道光刻机对芯片制造业的重要性。那么euv光刻
2022-07-10 11:42:276977

euv光刻机是干什么的

机可以生产出纳米尺寸更小、功能更强大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻机生产。 EUV光刻机有光源系统、光学镜头、双工作台系统三大核心技术。 目前,最先进的光刻机是荷兰ASML公司的EUV光刻机。预计在光路系统的帮助下,能
2022-07-10 14:35:066173

duv光刻机和euv光刻机区别是什么

目前,光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线,EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术,EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127

euv光刻机原理是什么

euv光刻机原理是什么 芯片生产的工具就是紫外光刻机,是大规模集成电路生产的核心设备,对芯片技术有着决定性的影响。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻机生产。那么euv光刻机原理是什么呢? EUV
2022-07-10 15:28:1015099

euv光刻机用途是什么

光刻机是当前半导体芯片产业的核心设备,其技术含量和价值含量都很高。那么euv光刻机用途是什么呢?下面我们就一起来看看吧。 光刻设备涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密材料传输、高精度微环境控制
2022-07-10 16:34:403116

EUV光刻技术相关的材料

与此同时,在ASML看来,下一代高NA EUV光刻机为光刻胶再度带来了挑战,更少的随机效应、更高的分辨率和更薄的厚度。首先传统的正胶和负胶肯定是没法用了,DUV光刻机上常用的化学放大光刻胶(CAR)也开始在5nm之后的分辨率和敏感度上出现瓶颈
2022-07-22 10:40:082010

看一下EUV光刻的整个过程

EUV 光刻是以波长为 10-14nm 的极紫外光作为光源的芯片光刻技术,简单来说,就是以极紫外光作“刀”,对芯片上的晶圆进行雕刻,让芯片上的电路变成人们想要的图案。
2022-10-10 11:15:024367

深度解析EUV光刻工艺技术

光刻是半导体工艺中最关键的步骤之一。EUV是当今半导体行业最热门的关键词,也是光刻技术。为了更好地理解 EUV 是什么,让我们仔细看看光刻技术。
2022-10-18 12:54:053181

密度提升近3倍,高NA EUV光刻机有何玄机

投入使用高NA EUV光刻机已经势在必行了。 据了解,一台高NA EUV光刻机成本就可能达到3.2亿美元,这样一个天价的光刻系统究竟能带来哪些优势,又存在哪些挑战呢? 规模和密度的平衡,我们为什么需要高NA光刻机? 从今年发布的不少新品来看,即便工艺没有太大的变化,芯片
2022-12-07 07:25:02952

EUV光刻的两大挑战者,谁扛大旗?

过去二十年见证了193 nm以下波长光刻技术的发展。在使用 F2 准分子激光器开发基于 157 纳米的光刻技术方面付出了一些努力,但主要关注点是使用 13.5 纳米软 X 射线作为光源的极紫外 (EUV) 光刻技术。
2023-02-02 11:49:592234

浅谈EUV光刻中的光刻胶和掩模等材料挑战

新的High NA EUV 光刻胶不能在封闭的研究环境中开发,必须通过精心设计的底层、新型硬掩模和高选择性蚀刻工艺进行优化以获得最佳性能。为了迎接这一挑战,imec 最近开发了一个新的工具箱来匹配光刻胶和底层的属性。
2023-04-13 11:52:121165

EUV光刻的无名英雄

晶圆厂通常使用光刻胶来图案化抗蚀刻硬掩模,然后依靠硬掩模来保护晶圆。但是,如果光刻胶太薄,它可能会在第一个转移步骤完成之前被侵蚀掉。随着光刻胶厚度的减小,底层厚度也应该减小。
2023-04-27 16:25:00689

EUV光刻技术优势及挑战

EUV光刻技术仍被认为是实现半导体行业持续创新的关键途径。随着技术的不断发展和成熟,预计EUV光刻将在未来继续推动芯片制程的进步。
2023-05-18 15:49:041793

EUV光刻市场高速增长,复合年增长率21.8%

EUV掩膜,也称为EUV掩模或EUV光刻掩膜,对于极紫外光刻(EUVL)这种先进光刻技术至关重要。EUV光刻是一种先进技术,用于制造具有更小特征尺寸和增强性能的下一代半导体器件。
2023-08-07 15:55:02399

工业储能会成为产业下一个“顶梁柱”吗?

中指出,能源是气候挑战和可持续发展的核心,也是解决问题的关键。 能源存储,是能源产生和使用链条中最关键的部分,也是影响能源效率最大,技术发展最快的部分。 接下来,让我们从以下几个方面来了解可持续发展大背景下的
2023-08-31 17:10:01395

EUV薄膜容错成本高 成芯片良率的关键

近20年来,EUV光源、EUV掩模和EUV光刻胶一直是EUV光刻的三大技术挑战。
2023-09-14 09:45:12563

什么是EUV光刻EUV与DUV光刻的区别

EUV 光是指用于微芯片光刻的极紫外光,涉及在微芯片晶圆上涂上感光材料并小心地将其曝光。这会将图案打印到晶圆上,用于微芯片设计过程中的后续步骤。
2023-10-30 12:22:55615

三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工艺

三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工艺
2023-11-23 18:13:02579

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