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吉方定制化服务,持续为客户提升价值

吉方定制化服务,持续为客户提升价值

吉方工控拥有完善的供应链体系,多年来与英特尔保持战略合作关系,与国产芯片厂商也有良好的互动。在以客户为导向的工作原则指导下,我们对供应链进行了科学的管理和严格的品控。...

2022-01-17 标签:cpu吉方工控 74

Transphorm的快速充电器和电源适配器用GaN器件

高可靠性、高性能氮化镓(GaN)电源转换产品的先驱和全球供应商Transphorm, Inc. (OTCQX: TGAN)今天宣布,该公司2021年12月份的SuperGaN® Gen IV场效应晶体管(FET)出货量突破100万大关。这一里程碑进一步证实...

2022-01-16 标签:充电器FET电源适配器GaNTransphorm 376

睿思芯科携手奎芯科技推进芯片技术产品开发

睿思芯科(深圳)技术有限公司与上海奎芯集成电路设计有限公司在深圳举行全面战略合作签约仪式。睿思芯科CEO谭章熹以及上海奎芯科技副总裁王晓阳出席签约仪式。双方将汇集整合各自的优...

2022-01-14 标签:芯片集成电路半导体 448

2022年的晶圆产能是否依旧吃紧

作者 | 中远亚电子 2021年的半导体行业关键词之一就是“缺芯”,而芯片之所以紧缺的根本原因在于晶圆产能供应不足,产能远远小于市场的需求,从而导致了“芯片荒”的现象。因此,缺芯...

2022-01-13 标签:芯片半导体晶圆 242

如何选择一款合适的导电胶水?

如何选择一款合适的导电胶水?

关键词:胶粘剂(胶水,接着剤、黏结剂、粘接剂),胶接工艺胶接是通过具有黏附能力的物质,把同种或不同种材料牢固地连接在起的方法。具有黏附能力的物质称为胶粘剂或黏合剂,被胶接...

2022-01-17 标签:导电 5

半导体硅太阳能电池基板的湿化学处理及电子界面特性

半导体硅太阳能电池基板的湿化学处理及电子界面特性

引言 硅(Si)在半导体器件制造中的大多数技术应用都是基于这种材料的特定界面性能。二氧化硅(二氧化硅)可以通过简单的氧化方法在硅表面制备,其特点是高化学和电稳定性。晶体硅在光伏...

2022-01-13 标签:太阳能半导体电子硅片电池 623

用于刻蚀多晶硅表面的HF-HNO3-H2SO4/H2O混合物

用于刻蚀多晶硅表面的HF-HNO3-H2SO4/H2O混合物

硅表面常用的HF-HNO3-H2O蚀刻混合物的反应行为因为硫酸加入而受到显著影响。HF (40%)-HNO3 (65%)-H2SO4 (97%)混合物的最大蚀刻速率为4000–5000 NMS-1,w (40%-HF)/w (65%-HNO3)比为2比4,w (97%-H2SO4)0.3.对于较高浓...

2022-01-13 标签:多晶硅半导体晶圆刻蚀刻蚀工艺 245

半导体有机酸清洗液中的铜的蚀刻速率和氧化机理分析

半导体有机酸清洗液中的铜的蚀刻速率和氧化机理分析

引言 用电化学和原子力显微镜方法对有机酸与铜的相互作用进行了表征可以建立用于湿铜加工的高效清洗公式。本文研究了单有机酸、二有机酸和三有机酸中铜的蚀刻速率和氧化机理。除了草...

2022-01-13 标签:半导体电化学蚀刻清洗蚀刻工艺 233

DB HiTek凭借RF SOI/HRS工艺拓展射频前端业务

DB HiTek已宣布通过基于130/110纳米技术的射频绝缘体上硅(RF SOI)和射频高电阻率衬底(RF HRS)工艺来拓展射频前端业务。 射频前端是无线通信的必备器件,其负责IT设备之间的发射(Tx)和接收(Rx),并广...

2022-01-13 标签:射频射频芯片SOI射频前端智能硬件 799

2022了,芯片行业是泡沫还是机遇?

2022了,芯片行业是泡沫还是机遇?

扎心语录:如果你连当下这个繁荣的芯片行业机遇都认为是泡沫,而心存恐惧,那请你告诉我,什么是正常理性?下一个繁荣行业又是什么?很难预测到底哪个行业将来会繁荣的!一生只要能碰...

2022-01-17 标签:芯片 11

蚀刻工艺关于湿化学处理后InP表面的研究

蚀刻工艺关于湿化学处理后InP表面的研究

引言 本文将讨论在不同的湿化学溶液中浸泡后对InP表面的氧化物的去除。本文将讨论接收衬底的各种表面成分,并将有助于理解不同的外原位湿化学处理的影响。这项工作的重点将是酸性和碱...

2022-01-12 标签:InP技术化学蚀刻物理衬底 477

关于晶体硅太阳能电池单面湿法化学抛光的方法

关于晶体硅太阳能电池单面湿法化学抛光的方法

引言 高效太阳能电池需要对硅片的正面和背面进行单独处理。在现有技术中,电池的两面都被纹理化,导致表面相当粗糙,这对背面是不利的。因此,在纹理化后直接引入在线单面抛光步骤。...

2022-01-12 标签:太阳能电池太阳能半导体晶体硅抛光 284

O极和Zn极ZnO单晶的蚀刻行为

O极和Zn极ZnO单晶的蚀刻行为

引言 氧化锌是最广泛研究的纤锌矿半导体之一。氧化锌不仅作为单晶,而且以多晶薄膜的形式。其显著的性能,如宽直接带隙3.37 eV,大结合强度内聚能1.89 eV,熔点2248 K,高激子结合能60 meV,即...

2022-01-12 标签:晶圆单晶蚀刻 264

新思科技人工智能设计系统DSO.ai助力三星移动芯片实现自主设计

三星采用新思科技的自主芯片设计解决方案,在其先进工艺技术上取得了里程碑式的卓越结果。实现了自主芯片设计新时代的跨越发展....

2022-01-12 标签:人工智能新思科技机器学习移动芯片 246

扬尘噪音在线监测仪为什么要安装?有哪些优势

扬尘噪音在线监测仪为什么要安装?有哪些优势

近日来雾霾天气频频出现,各地AQI空气质量指数纷纷超标,空气污染的话题也再度回到了我们的视野。而随着工地、化工企业的生产作业,空气污染的危害也随之加重,对人们的生活、身心健康...

2022-01-17 标签: 11

在氯化钠-异丙醇溶液中的表面钝化和形态

在氯化钠-异丙醇溶液中的表面钝化和形态

引言 原子平面的制备是半导体基板上原子尺度操作的必要前提。由于自组装现象或使用原子探针技术操纵单个原子,只有原子平面的表面才能产生可重复制造纳米级原子结构的机会。原子平坦...

2022-01-10 标签:半导体砷化镓钝化抛光 255

先进清洗技术提高晶体硅太阳能电池效率

先进清洗技术提高晶体硅太阳能电池效率

引言 晶体硅光伏效率和场退化领域的技术差距/需求已经被确定。效率低下和快速退化的原因可能有共同的根源。极少量的污染会导致光伏效率低下,并且在现场安装后暴露在阳光下时容易进一...

2022-01-10 标签:太阳能电池太阳能半导体光伏晶体硅 462

碳化硅在碱性溶液中的阳极刻蚀

碳化硅在碱性溶液中的阳极刻蚀

引言 人们对用于器件应用的碳化硅(SiC)重新产生了浓厚的兴趣。它具有良好的晶格常数和热膨胀系数,可以作为第三族氮化物外延生长的衬底。在许多应用领域,例如与航空航天、汽车和石油工...

2022-01-10 标签:半导体SiC碳化硅刻蚀刻蚀工艺 231

高深宽比刻蚀和纳米级图形化推进存储器的路线图

高深宽比刻蚀和纳米级图形化推进存储器的路线图

探索未来三到五年生产可能面临的挑战,以经济的成本为晶圆厂提供解决方案...

2022-01-10 标签:存储器EUV3d nand 537

校园自动气象站功能介绍及配置方案

校园自动气象站功能介绍及配置方案

校园自动气象站基本描述校园自动气象站是按照气象WMO组织气象观测标准,针对校园推动教育信息化、数字化、集成化、智能化及网络化为目标研究而开发的一套数字化气象综合服务平台。通过...

2022-01-17 标签: 10

微气泡对光刻胶层的影响

微气泡对光刻胶层的影响

关键词:氧气、微气泡、光刻胶、高剂量离子注入、气水界面 介绍      微气泡是一种很有前途的环保光刻胶去除方法的候选方法。已经证明,臭氧微气泡可以去除硅片上的光刻剂,即使被高...

2022-01-10 标签:半导体光刻晶片光刻胶 215

制造业单项冠军—艾德克斯ITECH精准测试护航科技未来

制造业单项冠军—艾德克斯ITECH精准测试护航科技未来

ITECH以先进的测试技术作为新行业科研需求的基石,与时俱进为新能源汽车、电池、光伏储能、半导体IC等领域提供优秀的测试解决方案及稳定高效的测试设备。帮助工程师们更高效、更便捷、...

2022-01-07 标签:ITECH 489

混合铝蚀刻剂的化学特性分析

混合铝蚀刻剂的化学特性分析

摘要 我们华林科纳研究了正磷酸、聚磷酸、和铁(III)氯化物蚀刻剂对工艺条件变化的敏感性,以确定该蚀刻剂系统在纯铝电路光刻制造中的潜在生产应用。温度变化、正磷酸浓度、多磷酸浓度的...

2022-01-07 标签:半导体印刷电路蚀刻蚀刻技术 370

多磷酸蚀刻剂的化学特性

多磷酸蚀刻剂的化学特性

摘要 在印刷和蚀刻生产厚金属膜中的精密图案时,需要对化学蚀刻剂有基本的了解,以实现工艺优化和工艺控制。 为了蚀刻纯铝电路,研究了正磷酸、多磷酸和氯化铁的配方。 研究的目的是确...

2022-01-07 标签:化学蚀刻蚀刻工艺 369

自动气象站设备产品特点及应用范围

自动气象站设备产品特点及应用范围

自动气象站设备是按照国际气象WMO组织气象观测标准,研究而开发生产的多要素自动观测站。可监测空气温度、空气湿度、风向、风速、气压、雨量、光照强度、总辐射等常规气象要素,可在无...

2022-01-17 标签: 15

浅谈芯片制造过程与危害

在芯片的过程当中要用到很多的化学物品,对身体肯定是有些影响的,不仅如此,化学物品还会存在有毒有害气体、易燃易爆物品等危险物质。...

2022-01-07 标签:芯片制造 317

中国芯片到底怎么样了

中国半导体产业在2020年经历了各种截胡,更加坚定了中国自己发展半导体的决心。...

2022-01-07 标签:芯片EUV制程工艺 1017

中国最先进的芯片是多少纳米

 多年来半导体制程从65nm到32nm,再到28nm,还有近两年的14nm、16nm和10nm,更有甚5nm技术。...

2022-01-07 标签:芯片台积电5nm 815

探究改变电子元器件制造的Thick Film Lithography工艺技术(二)

探究改变电子元器件制造的Thick Film Lithography工艺技术(二)

“Thick Film Lithography”字面上直译为“厚膜光刻”或“厚膜光蚀”。事实上,“厚膜光刻”虽然目前应用的领域没有达到广泛普及的程度,只是应用于业内前沿产品,但也是业界熟知的工艺,早...

2022-01-06 标签:电子元器件电感器LTCC 414

喜讯!扬兴科技通过邓白氏国际权威认证

喜讯!扬兴科技通过邓白氏国际权威认证

2022年1月,经过严格的调查和审核程序,扬兴科技凭借良好的企业运营历史及商业信用顺利通过邓白氏D&BRegistration权威认证,获得了专属扬兴的邓白氏编码证书(D-U-N-SNumber:548098150)。邓白氏认...

2022-01-17 标签:认证 6

DC/DC 电源使用外部滤波器的时机

所有 DC/DC 电源模块都有简单的集成滤波器,能够对抗一些常见的信号差异并确保模块执行基本功能,但有时电源设计人员自己有增加外部滤波电路的需求。...

2022-01-05 标签:滤波器emiDC-DC转换器 858

使用单一晶圆加工工具蚀刻晶圆背面薄膜的方法

使用单一晶圆加工工具蚀刻晶圆背面薄膜的方法

引言 随着半导体技术的发展,为了在有限的面积内 形成很多器件,技术正在向多层结构发展。要想形成多层结构,会形成比现有更多的薄膜层 ,这时晶片背面也会堆积膜。目前,在桔叶式设备...

2022-01-05 标签:pcb半导体晶圆蚀刻 338

用于异质结太阳能电池应用的Na2CO3溶液的硅片纹理化

用于异质结太阳能电池应用的Na2CO3溶液的硅片纹理化

引言 在太阳能电池工业中,最常见的纹理化方法之一是基于氢氧化钠或氢氧化钾的水溶液和异丙醇(IPA)。然而,IPA是有毒的,而且相对昂贵,因此人们正在努力取代它。在过去的几年中,硅异质...

2022-01-05 标签:太阳能电池太阳能半导体晶片硅片 518

二氧化硅玻璃陶瓷刻蚀化学及HF辅助刻蚀的观察

二氧化硅玻璃陶瓷刻蚀化学及HF辅助刻蚀的观察

关键词:玻璃陶瓷;氢氟酸;蚀刻条件;蚀刻速率;机制 引言 我们江苏华林科纳研究了氧化镁-氧化铝-二氧化硅玻璃陶瓷在氢氟酸中的腐蚀条件和机理。结果表明,在室温下,非晶相的腐蚀速率...

2022-01-04 标签:半导体晶圆刻蚀刻蚀机 331

开年专访谷泰微创始人兼CEO石方敏:2022本土IC要迎“大考”

开年专访谷泰微创始人兼CEO石方敏:2022本土IC要迎“大考”

随着全球数字化转型加速以及AIOT、智能汽车市场爆发,全球集成电路市场规模加速增长,预计2021年全球集成电路市场将增长到5700亿美元,未来5年将更增长到1万亿美元的规模!...

2022-01-04 标签:集成电路IC设计芯片设计 446

Nano Dimension宣布收购Essemtec AG

-Essemtec AG是一家为印刷电路板和原始设备制造商行业提供表面贴装取放系统的供应商 -本次收购有助于为以下方面的突破性进展奠定基础:作为增材制造电子产品解决方案一部分的微芯片放置方...

2021-12-31 标签:电路板smt3D打印 1810

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